JPH11251398A - 基板搬送装置およびこれを用いた基板洗浄装置ならびに基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】複数のウエハ保持ハンドを、簡素化または小型
化された構成によって進退駆動すること。 【解決手段】ウエハ保持ハンドＨ１，Ｈ２はブラケット
Ｂ１に共通に固定されており、ウエハ保持ハンドＨ３，
Ｈ４はブラケットＢ２に共通に固定されている。ブラケ
ットＢ１，Ｂ２は、昇降・回転台２３に収容された一対
の進退駆動機構によって、Ｘ方向に沿って、独立に進退
させられる。ブラケットＢ１の進退により、ウエハ保持
ハンドＨ１，Ｈ２が一体的に進退し、ブラケットＢ２の
進退によりウエハ保持ハンドＨ３，Ｈ４が一体的に進退
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板およびＰＤＰ（プラズマ・ディ
スプレイ・パネル）用ガラス基板などの各種の被処理基
板を、これらの基板に対して各種の処理を施すための処
理部または単に基板を保持する基板保持部などの搬送対
象に対して搬送するための基板搬送装置および基板搬送
方法、ならびにそのような基板搬送装置を有する基板洗
浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩ（大規模集積回路）の製造工程に
おいては、半導体ウエハ（以下単に「ウエハ」とい
う。）に対して一連の基板処理工程を施すための基板処
理装置が用いられる。このような基板処理装置は、ウエ
ハに対して複数種類の処理を施すための複数の処理部
と、この複数の処理部に対してウエハを搬入／搬出する
ための搬出入機構とを備えている。基板を１枚ずつ処理
するための枚葉式基板処理装置における一般的な搬出入
機構は、基板を保持するための一対のハンドを備えてお
り、この一対のハンドが処理部に対して独立して進退可
能に構成されている。このような搬出入機構は、或る処
理部において処理が終了したウエハを一方のハンドで搬
出し、その後すみやかに、他方のハンドによって未処理
のウエハを当該処理部に搬入するように動作させられ、
無駄な時間（ウエハ処理を行っていない時間）を排除す
るようにしている。

【０００３】図６は、一対のハンドを独立して進退駆動
するための構成を示す図解図である。一対のハンド２０
１，２０２は、上下方向に積層されて設けられており、
ハウジング２０３に対して一定方向に往復変位できるよ
うになっている。ハンド２０１，２０２は、ハウジング
２０３内の進退駆動機構２０４，２０５にそれぞれ結合
されており、これらの進退駆動機構２０４，２０５から
駆動力を得ている。進退駆動機構２０４，２０５は、ハ
ウジング２０３内において、ハンド２０１，２０２の進
退方向（図６の紙面と直交する方向）に対して左右に振
り分けられて配置されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】たとえば基板を洗浄処
理するための基板洗浄装置においては、処理液（薬液ま
たは純水）を用いた処理が基板に対して施される。その
ため、洗浄前の基板、洗浄後の基板、処理液で塗れた状
態の基板をそれぞれ別のハンドで保持することができれ
ば、基板の汚染を最小限にとどめることができると考え
られる。

【０００５】しかし、上述の構成では、ハンドごとに進
退駆動機構が必要であるので、ハンドを増やすには、進
退駆動機構も増設しなければならない。ところが、多数
の進退駆動機構を配置するスペースを確保するのは困難
であり、駆動部の複雑化および大型化が必至であるう
え、進退駆動機構の増設に伴う大幅なコスト増加の問題
もある。

【０００６】そこで、本発明の目的は、上述の技術的課
題を解決し、複数の基板保持ハンドを、簡素化または小
型化された構成によって進退駆動することができる基板
搬送装置およびそれを用いた基板洗浄装置を提供するこ
とである。また、本発明の他の目的は、複数の基板保持
ハンドを簡素化または小型化された構成によって進退さ
せて基板の搬送を行える基板搬送方法を提供することで
ある。

【０００７】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板をそ
れぞれ保持することができる複数の基板保持ハンドが互
いに固定されて設けられた基板保持ハンド部と、上記基
板保持ハンド部を基板搬送対象に対して水平方向に進退
させる進退駆動部とを含むことを特徴とする基板搬送装
置ものである。

【０００８】この構成によれば、基板保持ハンド部を進
退駆動部で進退させると、複数の基板保持ハンドが一体
的に進退させられる。したがって、複数の基板保持ハン
ドを１つの進退駆動部で進退させることができる。これ
により、複数の基板保持ハンドを進退させるための構成
を簡素化および小型化でき、これに伴って、基板搬送装
置のコストを低減できる。

【０００９】請求項２記載の発明は、上記複数の基板保
持ハンドは、上下方向に積層されて互いに固定された少
なくとも２つの基板保持ハンドを含み、上記基板保持ハ
ンド部を昇降させる昇降駆動部をさらに含むことを特徴
とする請求項１記載の基板搬送装置である。この構成で
は、基板保持ハンドを上下方向に積層することによっ
て、少ないスペースに多くの基板保持ハンドを配置でき
る。そして、上下方向に積層された基板保持ハンドは、
昇降駆動部によって基板保持ハンド部を昇降させること
によって、選択して用いることができる。

【００１０】請求項３記載の発明は、上記複数の基板保
持ハンドは、水平方向に並列されて互いに固定された少
なくとも２つの基板保持ハンドを含み、上記基板保持ハ
ンド部を、上記進退駆動部が上記基板保持ハンド部を進
退させる方向と直交する水平方向に移動させる水平移動
駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１または２
記載の基板搬送装置である。

【００１１】この構成によれば、基板保持ハンドを水平
方向に並列に配置することによって、たとえばクリーン
ルーム内に形成されているダウンフローを、基板保持ハ
ンドに保持された基板に対して効果的に供給できる。こ
れにより、基板の上面へのパーティクルの付着を効果的
に防止できる。水平方向に並列に配置された基板保持ハ
ンドは、水平移動駆動部によって基板保持ハンド部を水
平移動させることによって、選択して用いることができ
る。

【００１２】請求項４記載の発明は、上記複数の基板保
持ハンドは、平面視において一定の角度をなして互いに
固定された少なくとも２つの基板保持ハンドを含み、上
記基板保持ハンド部を、鉛直軸まわりに回動させる回動
駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし３
のいずれかに記載の基板搬送装置である。上記一定の角
度をなして固定された２つの基板保持ハンドは、互いに
正反対の方向に向けられて固定されていてもよい。

【００１３】この構成では、回動駆動部によって基板保
持ハンド部を鉛直軸まわりに回動させることにより、一
定の角度をなして固定された複数の基板保持ハンドを選
択的に用いることができる。請求項５記載の発明は、上
記基板保持ハンド部を複数個有し、これら複数の基板保
持ハンド部のそれぞれに進退駆動部を設けたことを特徴
とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板搬送装
置である。

【００１４】この構成によれば、基板保持ハンド部が複
数個設けられているので、基板保持ハンド部を切り換え
て用いることができる。これにより、基板の受け渡しを
円滑に行うことができる。請求項６記載の発明は、基板
を洗浄する基板洗浄処理部と、この基板洗浄処理部を基
板搬送対象とする請求項１ないし５のいずれかに記載の
基板搬送装置とを含むことを特徴とする基板洗浄装置で
ある。

【００１５】この構成によれば、たとえば、基板保持ハ
ンドを未洗浄基板と洗浄済み基板とで使い分けることに
よって、洗浄後の基板の再汚染を防止できる。請求項７
記載の発明は、基板をそれぞれ保持することができる基
板保持ハンドを互いに固定して設けた基板保持ハンド部
を基板搬送対象に対して１つの進退駆動部で進退させる
ことによって、この基板搬送対象に対して基板を搬送す
ることを特徴とする基板搬送方法である。

【００１６】この構成によれば、請求項１の発明と同様
な効果が得られる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、この
発明の実施形態が適用される基板処理装置のレイアウト
を示す簡略化した平面図である。この基板処理装置は、
基板としてのウエハＷをカセットＣから１枚ずつ取り出
し、このウエハＷに対して薬液処理、水洗処理および乾
燥処理を順に施すことにより、薬液によるエッチング効
果を利用してウエハＷの洗浄を行う枚葉式基板洗浄装置
である。薬液処理は、たとえば、フッ酸やアンモニア水
などの薬液を用いてウエハＷの表面を洗浄するための処
理である。また、水洗処理は、薬液処理後のウエハＷを
純水によりリンスする処理である。さらに、乾燥処理
は、純水で洗浄された後のウエハＷを高速に回転させて
水切り乾燥を行うための処理である。

【００１８】上記の処理を実行するために、この基板処
理装置は、インデクサ部ＩＮＤと、このインデクサ部Ｉ
ＮＤに隣接して設けられた処理部１００とを有してい
る。インデクサ部ＩＮＤは、複数枚のウエハＷを収容す
ることができるカセットＣを複数個一列状に整列して載
置することができるカセット載置部１と、このカセット
載置部１に載置されているカセットＣから未処理のウエ
ハＷを１枚ずつ取り出したり、処理済みのウエハを１枚
ずつ収容したりするためのインデクサロボット２とを有
している。インデクサロボット２は、カセット載置部１
におけるカセットＣの配列方向に沿う直線搬送路３に沿
って走行することができるように構成されており、未処
理のウエハＷのカセットＣからの取り出しのために専ら
用いられるウエハ取り出しハンドと、処理済みのウエハ
ＷのカセットＣへの収容のために専ら用いられるウエハ
収容ハンドとを有している。

【００１９】処理部Ｐは、インデクサ部ＩＮＤの直線搬
送路３の中間付近において、この直線搬送路３と直交す
る方向に沿って配置された直線搬送路１３と、この直線
搬送路１３に沿って走行する主搬送ロボットＭＴＲ（基
板搬送装置）とを備えている。直線搬送路１３の両側に
は、第１処理トラック１０１と第２処理トラック１０２
とが振り分けられている。第１処理トラック１０１およ
び第２処理トラック１０２は、それぞれ、上記薬液処理
を行う薬液処理部ＭＴＣと、上記水洗処理を行う水洗処
理部１０５と、上記乾燥処理を行う乾燥処理部１０６と
を有しており、これらの複数の基板洗浄処理部は、イン
デクサ部ＩＮＤから遠い側から上記の順序で直線搬送路
１３に沿って配列されている。

【００２０】第１処理トラック１０１および第２処理ト
ラック１０２の薬液処理部ＭＴＣ、水洗処理部１０５お
よび乾燥処理部１０６に対するウエハＷの搬入および搬
出は、主搬送ロボットＭＴＲによって行われる。主搬送
ロボットＭＴＲは、未処理のウエハＷをインデクサロボ
ット２から受け取って薬液処理部ＭＴＣに搬入し、薬液
処理部ＭＴＣでの処理が終了した後のウエハＷを搬出し
て水洗処理部１０５に搬入し、この水洗処理部１０５で
の処理が終了した後のウエハＷを搬出して乾燥処理部１
０６に搬入し、この乾燥処理部１０６での処理が完了し
たウエハＷを搬出して、インデクサロボット２に受け渡
す。

【００２１】図２は、主搬送ロボットＭＴＲの構成例を
示す簡略化した斜視図である。主搬送ロボットＭＴＲ
は、直線搬送路１３に配置されたレール２１上に沿って
移動自在に設けられた基台２２と、この基台２２に対し
て昇降および鉛直軸まわりの回動が自在に設けられた昇
降・回転台２３と、この昇降・回転台２３に、進退自在
に設けられた４本のウエハ保持ハンドＨ１，Ｈ２，Ｈ
３，Ｈ４とを備えている。基台２２には、レール２１に
沿って配置されたねじ軸２５に螺合するボールナットが
設けられており、ねじ軸２５には、正逆回転が可能なモ
ータＭＹからの回転力が与えられるようになっている。
このように、ねじ軸２５およびモータ２６などにより、
基台２２をレール２１に沿ってＹ方向に往復直線移動さ
せるためのボールねじ機構２８（水平移動駆動部）が構
成されている。

【００２２】また、基台２２に対する昇降・回転台２３
のＺ方向に沿う昇降は、図外の昇降用ボールねじ機構
（昇降駆動部）によって行われるようになっており、こ
の昇降用ボールねじ機構には、正逆回転可能なモータＭ
Ｚからの回転力が与えられるようになっている。また、
基台２２に対して昇降回転台２３を回動させるための回
動駆動機構（回動駆動部）は、昇降・回転台２３に設け
られており、この回動駆動機構には、正逆回転可能なモ
ータＭθからの回転力が与えられるようになっている。

【００２３】ウエハ保持ハンドＨ１〜Ｈ４は、互いに平
行な姿勢（水平姿勢）で上下方向に積層されて配置され
ており、ウエハＷの下面を保持するためのフォーク状の
保持部３１と、この保持部３１と一体的に形成された基
部３２とを有している。一対のウエハ保持ハンドＨ１，
Ｈ２の基部３２の各一側部は、昇降・回転台２３の内部
から立ち上がったブラケットＢ１に固定されている。同
様に、他の一対のウエハ保持ハンドＨ３，Ｈ４の基部３
２のブラケットＢ１とは反対側の側部は、回転昇降台２
３の内部から立ち上がったブラケットＢ２に固定されて
いる。

【００２４】図３は、ウエハ保持ハンドＨ１〜Ｈ４を駆
動するための構成を説明するための斜視図である。ブラ
ケットＢ１，Ｂ２の下端には、昇降・回転台２３の内部
に水平方向に沿って平行に設けられた一対のレール４
１，４２にスライド自在にそれぞれ係合する摺動部４
３，４４が固定されている。そして、ブラケットＢ１，
Ｂ２に関連して、これらをレール４１，４２に沿って独
立に進退させるための進退駆動機構４５，４６（進退駆
動部）が設けられており、これらの進退駆動機構４５，
４６は、正逆転可能なモータＭＸ１，ＭＸ２を駆動源と
して有している。

【００２５】進退駆動機構４５，４６は、たとえば、レ
ール４１，４２の前端および下端付近にそれぞれ配置さ
れた一対のプーリーと、この一対のプーリーに巻き付け
ることによりレール４１，４２に沿って配置され、その
途中部がブラケットＢ１，Ｂ２に固定されたワイヤと、
上記一対のプーリーのいずれかにモータＭＸ１，ＭＸ２
からの回転を伝達する回転伝達機構とを含む構成であっ
てもよい。

【００２６】このような構成により、一対のウエハ保持
ハンドＨ１，Ｈ２は一体的に進退し、他の一対の保持ハ
ンドＨ３，Ｈ４も同様に一体的に進退する。そして、保
持ハンドＨ１，Ｈ２の進退駆動と、ウエハ保持ハンドＨ
３，Ｈ４の進退駆動とは独立して行うことができる。こ
のように、ウエハ保持ハンドＨ１，Ｈ２およびブラケッ
トＢ１などにより、１つの基板保持ハンド部が構成され
ており、ウエハ保持ハンドＨ３，Ｈ４およびブラケット
Ｂ２などにより、別の基板保持ハンド部が構成されてい
る。

【００２７】たとえば、上方の一対の保持ハンドＨ１，
Ｈ２は、洗浄処理済みのウエハＷを搬入／搬出するため
の洗浄済みウエハ搬出入ハンドとして専ら用いられ、下
方の２本のハンドＨ３，Ｈ４が洗浄済みのウエハＷを保
持することはない。処理フローの一例を以下に示す。ま
ず、インデクサロボット２は、カセット載置部１に載置
されているいずれかのカセットＣから未処理のウエハＷ
を一枚取り出し、主搬送ロボットＭＴＲに受け渡す。主
搬送ロボットＭＴＲは、このとき、未処理のウエハＷを
ハンドＨ３，Ｈ４のいずれかにより受け取る。たとえ
ば、ハンドＨ４で未処理のウエハＷを受け取ったとする
と、次に、主搬送ロボットＭＴＲは、そのウエハＷをハ
ンドＨ３に保持した状態で薬液処理部ＭＴＣまで走行す
る。そして、ハンドＨ３，Ｈ４を薬液処理部ＭＴＣに向
けてＸ方向（図２参照。Ｙ方向に直交する水平方向。）
に沿って一体的に前進させ、ハンドＨ４により薬液処理
部ＭＴＣでの処理が完了したウエハＷを保持した後に、
ハンドＨ３，Ｈ４を一体的に後退させることにより、そ
のウエハＷを薬液処理部ＭＴＣから搬出する。その後、
主搬送ロボットＭＴＲは、昇降・回転台２３を下げてハ
ンドＨ３の高さを調整した後に、ハンドＨ３，Ｈ４を一
体的に前進させ、ハンドＨ３によって、未処理のウエハ
Ｗを薬液処理部ＭＴＣに搬入し、その後、ハンドＨ３，
Ｈ４を一体的に後退させて薬液処理部ＭＴＣ外に退避さ
せる。

【００２８】薬液処理後のウエハＷをハンドＨ４に保持
した主搬送ロボットＭＴＲは、水洗処理部１０５の前ま
で移動し、洗浄済みウエハ用ハンドＨ１，Ｈ２のうち下
側のハンドＨ２によって、水洗処理済みのウエハＷを搬
出する。次いで、主搬送ロボットＭＴＲは、昇降・回転
台２３を昇降させてハンドＨ４の高さを調整した後、ハ
ンドＨ４に保持しているウエハＷを新たに水洗処理部１
０５に搬入する。この場合、ハンドＨ１，Ｈ２は一体的
に進退し、ハンドＨ３，Ｈ４は一体的に進退する。

【００２９】水洗処理済みのウエハＷをハンドＨ２に保
持した主搬送ロボットＭＴＲは、乾燥処理部１０６まで
移動し、最上方のハンドＨ１によって、乾燥処理が完了
したウエハＷを搬出し、その後、ハンドＨ２の高さを調
節した後に、ハンドＨ２に保持されている水洗処理済み
のウエハＷを乾燥処理部１０６に搬入する。その後、主
搬送ロボットＭＴＲは、一連の処理が完了したウエハＷ
をハンドＨ１からインデクサロボット２に受け渡す。

【００３０】そして、インデクサロボット２は、主搬送
ロボットＭＴＲから受け取った洗浄済みのウエハを、カ
セット載置部１に載置されているいずれかのカセットＣ
に収納する。以上のようにこの実施形態によれば、４本
のウエハ保持ハンドＨ１〜Ｈ４を、一対の進退駆動機構
４５，４６により進退駆動することができる。つまり、
ウエハ保持ハンドＨ１〜Ｈ４よりも少ない数の駆動機構
で各ハンドＨ１〜Ｈ４を進退駆動できる。これにより、
多数本のウエハ保持ハンドを備えていながら装置コスト
がさほど高くつくことがなく、また、進退駆動機構の配
置が困難になったり、進退駆動装置が収容される昇降・
回転台２３が大型化したりすることがない。

【００３１】なお、この実施形態においては、上方の基
板保持ハンド部の２本の保持ハンドＨ１，Ｈ２を洗浄済
みウエハ搬出入ハンドとし、下方の基板保持ハンド部の
２本のハンドＨ３，Ｈ４を未洗浄ウエハ搬出入ハンドと
しているが、たとえば、基板保持ハンド部それぞれの上
方側の保持ハンドＨ１，Ｈ３を洗浄済みウエハ搬出入ハ
ンドとし、それぞれの下方側のハンドＨ２，Ｈ４を未洗
浄ウエハ搬出入ハンドとしてもよい。要するに、基板保
持ハンドに保持されるウエハＷが再汚染されないよう
に、これらハンドＨ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４によるウエハ
搬送工程を定めるのが好ましい。

【００３２】図４は、この発明の第２の実施形態におけ
るウエハ保持ハンドの進退駆動に関連する構成を示す斜
視図である。この図４において、上述の図３に示された
各部と同様な働きを有する部分には、図３の場合と同じ
参照符号を付すこととする。この実施形態においては、
ブラケットＢ１の頂部に、一対のウエハ保持ハンドＨ
１，Ｈ２が同じ高さで水平に固定されている。同様に、
ブラケットＢ２の頂部には、一対のウエハ保持ハンドＨ
３，Ｈ４が同じ高さで水平に固定されている。すなわ
ち、ウエハ保持ハンドＨ１，Ｈ２は、水平方向に並列に
固定されており、ウエハ保持ハンドＨ３，Ｈ４も同様に
水平方向に並列に固定されている。４本のウエハ保持ハ
ンドＨ１〜Ｈ４は、すべて互いに平行な方向に向けて取
り付けられている。ブラケットＢ１は、ブラケットＢ２
よりも長く形成されており、これにより、ウエハ保持ハ
ンドＨ１，Ｈ２は、ウエハ保持ハンドＨ３，Ｈ４よりも
高い位置に位置している。ウエハ保持ハンドＨ２とウエ
ハ保持ハンドＨ３とが、上下方向に積層された位置関係
となっている。

【００３３】たとえば、ウエハ保持ハンドＨ２で未処理
のウエハＷを処理部に搬入し、この処理部からウエハ保
持ハンドＨ１によって処理済みのウエハを搬出する場合
には、ハンドＨ２によるウエハＷの搬出後、モータＭＹ
（図２参照）を駆動することによって、基台２２をＹ方
向に移動させて、ハンドＨ１をその処理部に対向させれ
ばよい。

【００３４】このようにこの実施形態においても、４本
のウエハ保持ハンドＨ１〜Ｈ４を、２つの進退駆動機構
４５，４５（図３参照）によって進退させることができ
るので、上述の第１の実施形態と同様な効果を達成でき
る。しかも、この実施形態では、ウエハ保持ハンドＨ
１，Ｈ２；Ｈ３，Ｈ４が水平方向に並列に配置されてい
るので、この種の基板処理装置が配置されるクリーンル
ーム内において形成されているダウンフローを各ハンド
に保持されているウエハＷに効率的に供給できる。これ
により、ウエハＷの上面へのパーティクルの付着を効果
的に防止できる。

【００３５】図５は、この発明の第３の実施形態におけ
るウエハ保持ハンドの進退駆動のための構成を示す斜視
図である。この図５において、上述の図３に示された各
部に対応する部分には、図３の場合と同じ参照符号を付
してある。この実施形態においては、ブラケットＢ１，
Ｂ２は、レール４１，４２に沿う方向（すなわち進退方
向）に幅広に形成されており、一対のハンドＨ１，Ｈ２
はブラケットＢ１に、正反対の方向に向けて同じ高さに
取り付けられており、他の一対のハンドＨ３，Ｈ４も同
様に、ブラケットＢ２に、正反対の方向に向けて同じ高
さに取り付けられている。そして、ハンドＨ１，Ｈ２と
ハンドＨ３，Ｈ４とは上下方向に積層された位置関係に
配置されている。

【００３６】たとえば、ウエハ保持ハンドＨ２で未処理
のウエハＷを処理部に搬入し、この処理部からウエハ保
持ハンドＨ１によって処理済みのウエハを搬出する場合
には、ハンドＨ２によるウエハＷの搬出後、モータＭθ
（図２参照）を駆動することによって、昇降・回転台２
３を１８０度回動させ、ハンドＨ１をその処理部に対向
させればよい。

【００３７】このようにこの実施形態においても、４本
のウエハ保持ハンドＨ１〜Ｈ４を、２つの進退駆動機構
４５，４６（図３参照）によって進退させることができ
るので、上述の第１の実施形態と同様な効果を達成でき
る。以上、この発明の３つの実施形態について説明した
が、この発明は他の形態で実施することも可能である。
たとえば、上述の実施形態では基板保持ハンドが４本設
けられた構成について説明したが、この発明は、２本以
上の基板保持ハンドを有する基板搬送装置に広く適用す
ることができ、その場合に複数本の基板保持ハンドを共
通のブラケットに固定することによって、１つの進退駆
動装置によって進退駆動することができる。たとえば、
図３の構成において、ブラケットＢ１に４本のウエハ保
持ハンドＨ１〜Ｈ４のすべてを固定すれば、１つの進退
駆動装置で４本のウエハ保持ハンドＨ１〜Ｈ４を進退さ
せることができる。

【００３８】また、第１の実施形態と第２の実施形態と
を組み合わせ、たとえば、図３の構成において、ウエハ
保持ハンドＨ１と並列に別のウエハ保持ハンドを設けて
もよい。また、第１の実施形態と第３の実施形態とを組
み合わせ、たとえば、図３の構成において、ウエハ保持
ハンドＨ１とは反対方向を向いた別のウエハ保持ハンド
をブラケットＢ１に取り付けてもよい。同様に、第２の
実施形態と第３の実施形態との組み合わせや、第１、第
２および第３の実施形態の組み合わせが可能である。

【００３９】また、上述の実施形態では、ウエハＷを処
理する基板処理装置を例にとったが、この発明は、液晶
表示装置用ガラス基板などの他の種類の基板を処理する
ための装置にも容易に応用することができる。その他、
特許請求の範囲に記載された技術的事項の範囲で種々の
設計変更を施すことが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施形態が適用される基板処理装置
のレイアウトを示す簡略化した平面図である。

【図２】主搬送ロボット構成例を示す簡略化した斜視図
である。

【図３】ウエハ保持ハンドを駆動するための構成を説明
するための斜視図である。

【図４】この発明の第２の実施形態におけるウエハ保持
ハンドの進退駆動に関連する構成を示す斜視図である。

【図５】この発明の第３の実施形態におけるウエハ保持
ハンドの進退駆動に関連する構成を示す斜視図である。

【図６】一対のハンドを独立して進退駆動するための従
来の構成を示す図解図である。

【符号の説明】

４５，４６ 進退駆動機構 ＭＴＣ 薬液処理部 １０５ 水洗処理部 １０６ 乾燥処理部 ＭＴＲ 主搬送ロボット Ｈ１〜Ｈ４ ウエハ保持ハンド Ｂ１，Ｂ２ ブラケット ２８ ボールねじ機構 ＭＸ１，ＭＸ２ モータ（進退駆動用） ＭＹ モータ（水平移動用） ＭＺ モータ（昇降用） Ｍθ モータ（回動用）

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板をそれぞれ保持することができる複数
   の基板保持ハンドが互いに固定されて設けられた基板保
   持ハンド部と、 上記基板保持ハンド部を基板搬送対象に対して水平方向
   に進退させる進退駆動部とを含むことを特徴とする基板
   搬送装置。
2. 【請求項２】上記複数の基板保持ハンドは、上下方向に
   積層されて互いに固定された少なくとも２つの基板保持
   ハンドを含み、 上記基板保持ハンド部を昇降させる昇降駆動部をさらに
   含むことを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
3. 【請求項３】上記複数の基板保持ハンドは、水平方向に
   並列されて互いに固定された少なくとも２つの基板保持
   ハンドを含み、 上記基板保持ハンド部を、上記進退駆動部が上記基板保
   持ハンド部を進退させる方向と直交する水平方向に移動
   させる水平移動駆動部をさらに含むことを特徴とする請
   求項１または２記載の基板搬送装置。
4. 【請求項４】上記複数の基板保持ハンドは、平面視にお
   いて一定の角度をなして互いに固定された少なくとも２
   つの基板保持ハンドを含み、 上記基板保持ハンド部を、鉛直軸まわりに回動させる回
   動駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし
   ３のいずれかに記載の基板搬送装置。
5. 【請求項５】上記基板保持ハンド部を複数個有し、 これら複数の基板保持ハンド部のそれぞれに進退駆動部
   を設けたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか
   に記載の基板搬送装置。
6. 【請求項６】基板を洗浄する基板洗浄処理部と、 この基板洗浄処理部を基板搬送対象とする請求項１ない
   し５のいずれかに記載の基板搬送装置とを含むことを特
   徴とする基板洗浄装置。
7. 【請求項７】基板をそれぞれ保持することができる基板
   保持ハンドを互いに固定して設けた基板保持ハンド部を
   基板搬送対象に対して１つの進退駆動部で進退させるこ
   とによって、この基板搬送対象に対して基板を搬送する
   ことを特徴とする基板搬送方法。