KR102430367B1 - 기판 반전 장치, 기판 처리 장치 및 기판 협지 장치 - Google Patents

기판 반전 장치, 기판 처리 장치 및 기판 협지 장치 Download PDF

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Abstract

기판 반전 장치에서는, 복수의 하가이드는, 기판의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 하경사면을, 수평 상태의 기판의 주연부에 접촉시켜 기판을 하방으로부터 지지한다. 복수의 상가이드는, 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하는 상경사면을 기판의 주연부에 접촉시켜, 복수의 하가이드와의 사이에서 기판을 협지한다. 각 하가이드는, 전환 기구에 의해 전환되어 선택적으로 하경사면이 되는 제 1 하접촉 영역 및 제 2 하접촉 영역을 구비한다. 각 상가이드는, 전환 기구에 의해 전환되어 선택적으로 상경사면이 되는 제 1 상접촉 영역 및 제 2 상접촉 영역을 구비한다. 이로써, 기판의 상태에 맞추어, 상가이드 및 하가이드에 있어서의 기판과의 접촉 영역을 전환할 수 있다.

Description

기판 반전 장치, 기판 처리 장치 및 기판 협지 장치{SUBSTRATE INVERTING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE CATCH-AND-HOLD DEVICE}
본 발명은 기판 반전 장치, 기판 처리 장치 및 기판 협지 장치에 관한 것이다.
종래, 반도체 기판 (이하, 간단히 「기판」이라고 한다) 의 제조 공정에서는, 기판에 대해 다양한 처리가 실시된다. 예를 들어, 일본 공개특허공보 2013-46022호 (문헌 1) 의 기판 처리 장치에서는, 기판의 표면 및 이면에 대해 처리가 실시된다. 당해 기판 처리 장치에서는, 표면이 위를 향해진 상태의 기판이, 캐리어로부터 반전 패스에 반입되고, 반전 패스에 있어서 기판이 반전된 후, 처리 유닛으로 반송된다. 처리 유닛에 있어서 이면의 처리가 종료된 기판은, 재차 반전 패스에 반입되어 반전된 후, 캐리어로 반송된다.
반전 패스는, 기판을 수평 자세로 협지하는 척을 구비한다. 당해 척은, 2 쌍의 상가이드부 및 하가이드부를 구비한다. 상하 방향으로 나열되는 상가이드부 및 하가이드부에 의해, 기판의 중심 방향으로 열린 V 자상의 유지홈이 형성된다. 기판의 주연부는, 당해 유지홈 내에 배치된다. 상가이드부 및 하가이드부는, 기판의 직경 방향으로 진퇴됨으로써, 기판의 주연부에 접촉하고, 또, 기판의 주연부로부터 직경 방향 외방으로 이간된다.
그런데, 문헌 1 의 기판 처리 장치에서는, 미처리 기판과 처리가 완료된 기판이, 동일한 반전 패스에 의해 반전된다. 이와 같이, 기판의 상태 (예를 들어, 미처리 또는 처리 완료) 에 상관없이 동일한 반전 패스로 기판의 반전을 실시하면, 미처리 기판의 오염이나 파티클 등이 반전 패스의 척에 부착되어, 처리 완료 기판에 전사될 우려가 있다.
본 발명은, 기판 반전 장치에 적합하고, 기판의 상태에 맞추어 가이드부에 있어서의 기판과의 접촉 영역을 전환하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명의 바람직한 일 형태에 관련된 기판 반전 장치는, 기판의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 하경사면을, 수평 상태의 상기 기판의 주연부에 접촉시켜 상기 기판을 하방으로부터 지지하는 복수의 하가이드와, 상기 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하는 상경사면을, 상기 복수의 하가이드와의 접촉 위치보다 상측에서 상기 기판의 주연부에 접촉시켜 상기 복수의 하가이드와의 사이에서 상기 기판을 협지하는 복수의 상가이드와, 상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드를 수평 방향을 향하는 회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드에 의해 협지된 상기 기판을 반전시키는 반전 기구와, 상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드를, 상기 기판에 접촉하는 접촉 위치와, 상기 접촉 위치보다 상기 기판으로부터 멀어진 퇴피 위치 사이에서 진퇴시키는 가이드 이동 기구와, 상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드와 상기 기판의 접촉 상태를 변경하는 전환 기구를 구비한다. 각 하가이드가, 상기 전환 기구에 의해 전환되어 선택적으로 상기 하경사면이 되는 제 1 하접촉 영역 및 제 2 하접촉 영역을 구비한다. 각 상가이드가, 상기 전환 기구에 의해 전환되어 선택적으로 상기 상경사면이 되는 제 1 상접촉 영역 및 제 2 상접촉 영역을 구비한다. 당해 기판 반전 장치에 의하면, 기판의 상태에 맞추어 상가이드 및 하가이드에 있어서의 기판과의 접촉 영역을 전환할 수 있다.
바람직하게는, 상기 각 하가이드에 있어서, 상기 폭 방향으로 연장되는 하회전축의 길이 방향의 동일한 위치에 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역이 배치된다. 상기 각 상가이드에 있어서, 상기 폭 방향으로 연장되는 상회전축의 길이 방향의 동일한 위치에 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역이 배치된다. 상기 전환 기구가, 상기 각 하가이드를 상기 하회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역을 선택적으로 상기 하경사면으로 하는 하가이드 회전 기구와, 상기 각 상가이드를 상기 상회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역을 선택적으로 상기 상경사면으로 하는 상가이드 회전 기구를 구비한다.
바람직하게는, 상기 각 하가이드에 있어서, 상하 방향으로 연장되는 하회전축에 대해 선대칭의 위치에 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역이 배치된다. 상기 각 상가이드에 있어서, 상기 상하 방향으로 연장되는 상회전축에 대해 선대칭의 위치에 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역이 배치된다. 상기 전환 기구가, 상기 각 하가이드를 상기 하회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역을 선택적으로 상기 하경사면으로 하는 하가이드 회전 기구와, 상기 각 상가이드를 상기 상회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역을 선택적으로 상기 상경사면으로 하는 상가이드 회전 기구를 구비한다.
바람직하게는, 상기 하가이드 회전 기구가, 상기 각 하가이드를 상기 하회전축을 중심으로 하여 180 도 회전시킴으로써, 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역을 선택적으로 상기 하경사면으로 한다. 상기 상가이드 회전 기구가, 상기 각 상가이드를 상기 상회전축을 중심으로 하여 180 도 회전시킴으로써, 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역을 선택적으로 상기 상경사면으로 한다.
바람직하게는, 상기 각 상가이드가, 평면에서 볼 때 상기 각 하가이드와 상이한 위치에 배치된다.
본 발명은, 기판 처리 장치에도 적합하다. 본 발명의 바람직한 일 형태에 관련된 기판 처리 장치는, 상기 기판 반전 장치와, 상기 기판 반전 장치에 의해 반전된 상기 기판의 이면을 세정하는 이면 세정부와, 상기 기판 반전 장치와 상기 이면 세정부 사이에서 상기 기판을 반송하는 기판 반송부를 구비한다.
바람직하게는, 상기 이면 세정부 및 상기 기판 반송부가 배치된 세정 처리 블록과, 다른 기판 반송부가 배치되고, 상기 세정 처리 블록에 미처리 기판을 건네줌과 함께 상기 세정 처리 블록으로부터 처리가 완료된 기판을 받는 인덱서 블록을 추가로 구비한다. 상기 기판 반전 장치가, 상기 세정 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속부에 배치된다. 상기 기판 반송부와 상기 다른 기판 반송부 중 일방의 반송부가 상기 기판 반전 장치에 기판을 반입한 경우, 상기 기판 반전 장치에 의해 반전된 상기 기판을 타방의 기판 반송부가 상기 기판 반전 장치로부터 반출한다.
본 발명은, 기판 협지 장치에도 적합하다. 본 발명의 바람직한 일 형태에 관련된 기판 협지 장치는, 기판의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 하경사면을, 수평 상태의 상기 기판의 주연부에 접촉시켜 상기 기판을 하방으로부터 지지하는 복수의 하가이드와, 상기 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하는 상경사면을, 상기 복수의 하가이드와의 접촉 위치보다 상측에서 상기 기판의 주연부에 접촉시켜 상기 복수의 하가이드와의 사이에서 상기 기판을 협지하는 복수의 상가이드와, 상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드와 상기 기판의 접촉 상태를 변경하는 전환 기구를 구비한다. 각 하가이드가, 상기 전환 기구에 의해 전환되어 선택적으로 상기 하경사면이 되는 제 1 하접촉 영역 및 제 2 하접촉 영역을 구비한다. 각 상가이드가, 상기 전환 기구에 의해 전환되어 선택적으로 상기 상경사면이 되는 제 1 상접촉 영역 및 제 2 상접촉 영역을 구비한다.
상기 서술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 실시하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 명백해진다.
삭제
도 1 은 일 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 2 는 기판 처리 장치를 II-II 선에서 본 도면이다.
도 3 은 기판 처리 장치를 III-III 선에서 본 도면이다.
도 4 는 반전 유닛의 정면도이다.
도 5 는 반전 유닛의 평면도이다.
도 6 은 반전 유닛을 VI-VI 선에서 본 도면이다.
도 7 은 상가이드 및 하가이드를 확대하여 나타내는 도면이다.
도 8 은 상가이드 및 하가이드를 확대하여 나타내는 도면이다.
도 9 는 기판이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 10 은 기판이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 11 은 기판이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 12 는 기판이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 13 은 기판이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 14 는 기판이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 15 는 기판이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 16 은 기판이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다.
도 17 은 상가이드 및 하가이드의 다른 배치를 나타내는 평면도이다.
도 18 은 다른 기판 반전 장치에 있어서의 상가이드 및 하가이드를 나타내는 도면이다.
도 19 는 다른 기판 반전 장치에 있어서의 상가이드 및 하가이드를 나타내는 도면이다.
도 20 은 다른 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 21 은 기판 처리 장치를 XXI－XXI 선에서 본 도면이다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1) 의 평면도이다. 도 2 는, 기판 처리 장치 (1) 를, 도 1 의 II-II 선에서 본 도면이다. 도 3 은, 기판 처리 장치 (1) 를, 도 1 의 III-III 선에서 본 도면이다. 또한, 이하에 참조하는 각 도면에는, Z 축 방향을 연직 방향 (즉, 상하 방향) 으로 하고, XY 평면을 수평면으로 하는 XYZ 직교 좌표계가 적절히 부여되어 있다.
기판 처리 장치 (1) 는, 복수의 반도체 기판 (9) (이하, 간단히 「기판 (9)」이라고 한다) 에 연속하여 처리를 실시하는 장치이다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 예를 들어, 기판 (9) 에 대한 세정 처리가 실시된다. 기판 처리 장치 (1) 는, 인덱서 블록 (10) 과, 세정 처리 블록 (20) 을 구비한다. 이하의 설명에서는, 인덱서 블록 (10) 및 세정 처리 블록 (20) 을 각각, 인덱서 셀 (10) 및 세정 처리 셀 (20) 이라고 부른다. 인덱서 셀 (10) 과 세정 처리 셀 (20) 은 X 방향으로 인접하여 배치된다.
기판 처리 장치 (1) 는, 반전 유닛 (30) 과, 재치 (載置) 유닛 (40) 과, 제어부 (60) 를 추가로 구비한다. 반전 유닛 (30) 및 재치 유닛 (40) 은, 인덱서 셀 (10) 과 세정 처리 셀 (20) 의 접속부에 배치된다. 구체적으로는, 반전 유닛 (30) 및 재치 유닛 (40) 은, 인덱서 셀 (10) 과 세정 처리 셀 (20) 사이에 형성된 분위기 차단용의 격벽 (300) 의 일부를 관통하여 형성된다. 제어부 (60) 는, 인덱서 셀 (10), 세정 처리 셀 (20) 및 반전 유닛 (30) 등의 각 동작 기구를 제어하여 기판 (9) 의 세정 처리를 실행시킨다. 제어부 (60) 는, 예를 들어, 각종 연산 처리를 실시하는 CPU, 기본 프로그램을 기억하는 ROM, 및 각종 정보를 기억하는 RAM 등을 포함하는 일반적인 컴퓨터 시스템이다.
인덱서 셀 (10) 은, 기판 처리 장치 (1) 의 외부로부터 반입된 기판 (9) (즉, 세정 처리 셀 (20) 에 있어서의 처리가 실시되기 전의 미처리 기판) 을 받아, 세정 처리 셀 (20) 에 건네준다. 또, 인덱서 셀 (10) 은, 세정 처리 셀 (20) 로부터 반출된 기판 (9) (즉, 세정 처리 셀 (20) 에 있어서의 처리가 종료된 처리가 완료된 기판) 을 받아, 기판 처리 장치 (1) 의 외부로 반출한다. 인덱서 셀 (10) 은, 복수 (예를 들어, 4 개) 의 캐리어 스테이지 (11) 와, 이동 탑재 로봇 (12) 을 구비한다. 각 캐리어 스테이지 (11) 에는, 복수의 원판상의 기판 (9) 을 수납할 수 있는 캐리어 (95) 가 재치된다. 이동 탑재 로봇 (12) 은, 각 캐리어 (95) 로부터 미처리 기판 (9) 을 꺼냄과 함께, 각 캐리어 (95) 에 처리가 완료된 기판 (9) 을 수납하는 기판 반송부이다.
각 캐리어 스테이지 (11) 에 대해서는, 복수의 미처리 기판 (9) 을 수납한 캐리어 (95) 가, 기판 처리 장치 (1) 의 외부로부터, AGV (Automated Guided Vehicle) 등에 의해 반입되어 재치된다. 또, 세정 처리 셀 (20) 에 있어서의 세정 처리가 종료된 처리가 완료된 기판 (9) 은, 캐리어 스테이지 (11) 에 재치된 캐리어 (95) 에 다시 수납된다. 처리가 완료된 기판 (9) 이 수납된 캐리어 (95) 는, AGV 등에 의해 기판 처리 장치 (1) 의 외부로 반출된다. 즉, 캐리어 스테이지 (11) 는, 미처리 기판 (9) 및 처리가 완료된 기판 (9) 을 집적하는 기판 집적부로서 기능한다. 캐리어 (95) 는, 예를 들어, 기판 (9) 을 밀폐 공간에 수납하는 FOUP (Front Opening Unified Pod) 이다. 캐리어 (95) 는, FOUP 에는 한정되지 않고, 예를 들어, SMIF (Standard Mechanical Inter Face) 포드, 또는, 수납된 기판 (9) 을 외기에 노출시키는 OC (Open Cassette) 여도 된다.
이동 탑재 로봇 (12) 은, 2 개의 반송 아암 (121a, 121b) 과, 아암 스테이지 (122) 와, 가동대 (123) 를 구비한다. 2 개의 반송 아암 (121a, 121b) 은, 아암 스테이지 (122) 에 탑재된다. 가동대 (123) 는, 복수의 캐리어 스테이지 (11) 의 배열 방향과 평행하게 (즉, Y 방향을 따라) 연장되는 볼 나사 (124) 에 나사 결합되고, 2 개의 가이드 레일 (125) 에 대해 자유롭게 슬라이딩할수 있도록 형성된다. 도시를 생략하는 회전 모터에 의해 볼 나사 (124) 가 회전되면, 가동대 (123) 를 포함하는 이동 탑재 로봇 (12) 전체가, Y 방향을 따라 수평하게 이동한다.
아암 스테이지 (122) 는, 가동대 (123) 상에 탑재된다. 가동대 (123) 에는, 아암 스테이지 (122) 를 상하 방향 (즉, Z 방향) 으로 연장되는 회전축 둘레로 회전시키는 모터 (도시 생략), 및 아암 스테이지 (122) 를 상하 방향을 따라 이동시키는 모터 (도시 생략) 가 내장되어 있다. 아암 스테이지 (122) 상에는, 반송 아암 (121a, 121b) 이, 상하로 이간되어 배치되어 있다. 반송 아암 (121a, 121b) 은 각각, 평면에서 볼 때 포크상의 형상을 갖는다. 반송 아암 (121a, 121b) 은 각각, 포크상 부분에서 1 장의 기판 (9) 의 하면을 지지한다. 또, 반송 아암 (121a, 121b) 은, 아암 스테이지 (122) 에 내장된 구동 기구 (도시 생략) 에 의해 다관절 기구가 굽혔다 펴짐으로써, 수평 방향 (즉, 아암 스테이지 (122) 의 회전축을 중심으로 하는 직경 방향) 을 따라 서로 독립적으로 이동한다.
이동 탑재 로봇 (12) 은, 포크상 부분에서 기판 (9) 을 지지하는 반송 아암 (121a, 121b) 을 각각, 캐리어 스테이지 (11) 에 재치된 캐리어 (95), 반전 유닛 (30), 및 재치 유닛 (40) 에 개별적으로 액세스시킴으로써, 캐리어 (95), 반전 유닛 (30) 및 재치 유닛 (40) 사이에서 기판 (9) 을 반송한다.
세정 처리 셀 (20) 은, 예를 들어, 기판 (9) 에 스크럽 세정 처리를 실시하는 셀 (즉, 처리 블록) 이다. 세정 처리 셀 (20) 은, 2 개의 세정 처리 유닛 (21a, 21b) 과, 반송 로봇 (22) 을 구비한다. 반송 로봇 (22) 은, 반전 유닛 (30), 재치 유닛 (40), 및 세정 처리 유닛 (21a, 21b) 에 대해 기판 (9) 의 수수를 실시하는 기판 반송부이다.
세정 처리 유닛 (21a, 21b) 은, 반송 로봇 (22) 을 사이에 두고 Y 방향으로 대향한다. 반송 로봇 (22) 의 (－Y) 측의 세정 처리 유닛 (21b) 은, 1 개 이상의 표면 세정 처리부 (23) 를 구비한다. 도 2 에 예시하는 세정 처리 유닛 (21b) 에서는, 4 개의 표면 세정 처리부 (23) 가 상하 방향으로 적층된다. 반송 로봇 (22) 의 (＋Y) 측의 세정 처리 유닛 (21a) 은, 1 개 이상의 이면 세정 처리부 (24) 를 구비한다. 도 2 에 예시하는 세정 처리 유닛 (21a) 에서는, 4 개의 이면 세정 처리부 (24) 가 상하 방향으로 적층된다.
표면 세정 처리부 (23) 는, 기판 (9) 의 표면의 스크럽 세정 처리를 실시한다. 기판 (9) 의 「표면」이란, 기판 (9) 의 2 개의 주면 중, 패턴 (예를 들어, 제품에서 사용되는 회로 패턴) 이 형성되는 주면이다. 또, 기판 (9) 의 「이면」이란, 기판 (9) 의 표면의 반대측의 주면이다. 표면 세정 처리부 (23) 는, 예를 들어, 스핀 척 (201) 과, 세정 브러시 (202) 와, 노즐 (203) 과, 스핀 모터 (204) 를 구비한다. 스핀 척 (201) 은, 표면이 상측을 향하는 기판 (9) 을 수평 자세로 유지하고, 상하 방향으로 연장되는 회전축 둘레에서 회전시킨다. 스핀 척 (201) 은, 예를 들어, 기판 (9) 의 이면을 흡착함으로써 기판 (9) 을 유지한다. 세정 브러시 (202) 는, 스핀 척 (201) 상에 유지된 기판 (9) 의 표면에 맞닿거나 또는 근접하여, 기판 (9) 의 표면의 스크럽 세정을 실시한다. 노즐 (203) 은, 기판 (9) 의 표면에 세정액 (예를 들어, 순수) 을 토출한다. 스핀 모터 (204) 는, 기판 (9) 을 스핀 척 (201) 과 함께 회전시킨다. 회전하는 기판 (9) 으로부터 주위로 비산되는 세정액은, 기판 (9) 의 주위를 둘러싸는 컵부 (도시 생략) 에 의해 받아 내어진다.
이면 세정 처리부 (24) 는, 기판 (9) 의 이면의 스크럽 세정 처리를 실시한다. 이면 세정 처리부 (24) 는, 예를 들어, 스핀 척 (211) 과, 세정 브러시 (212) 와, 노즐 (213) 과, 스핀 모터 (214) 를 구비한다. 스핀 척 (211) 은, 이면이 상측을 향하는 기판 (9) 을 수평 자세로 유지하고, 상하 방향으로 연장되는 회전축 둘레에서 회전시킨다. 스핀 척 (211) 은, 예를 들어, 기판 (9) 의 단연부를 기계적으로 파지함으로써 기판 (9) 을 유지한다. 세정 브러시 (212) 는, 스핀 척 (211) 상에 유지된 기판 (9) 의 이면에 맞닿거나 또는 근접하여, 기판 (9) 의 이면의 스크럽 세정을 실시한다. 노즐 (213) 은, 기판 (9) 의 이면에 세정액 (예를 들어, 순수) 을 토출한다. 스핀 모터 (214) 는, 기판 (9) 을 스핀 척 (211) 과 함께 회전시킨다. 회전하는 기판 (9) 으로부터 주위로 비산되는 세정액은, 기판 (9) 의 주위를 둘러싸는 컵부 (도시 생략) 에 의해 받아 내어진다.
반송 로봇 (22) 은, 2 개의 반송 아암 (221a, 221b) 과, 아암 스테이지 (222) 와, 기대 (223) 를 구비한다. 2 개의 반송 아암 (221a, 221b) 은, 아암 스테이지 (222) 에 탑재된다. 기대 (223) 는, 세정 처리 셀 (20) 의 프레임에 고정되어 있다. 따라서, 반송 로봇 (22) 의 기대 (223) 는, 수평 방향 및 상하 방향으로 이동하지 않는다.
아암 스테이지 (222) 는, 기대 (223) 상에 탑재된다. 기대 (223) 에는, 아암 스테이지 (222) 를 상하 방향으로 연장되는 회전축 둘레에서 회전시키는 모터 (도시 생략), 및 아암 스테이지 (222) 를 상하 방향을 따라 이동시키는 모터 (도시 생략) 가 내장되어 있다. 아암 스테이지 (222) 상에는, 반송 아암 (221a, 221b) 이 상하로 이간되어 배치되어 있다. 반송 아암 (221a, 221b) 은 각각, 평면에서 볼 때 포크상의 형상을 갖는다. 반송 아암 (221a, 221b) 은 각각, 포크상 부분에서 1 장의 기판 (9) 의 하면을 지지한다. 또, 각 반송 아암 (221a, 221b) 은, 아암 스테이지 (222) 에 내장된 구동 기구 (도시 생략) 에 의해 다관절 기구가 굽혔다 펴짐으로써, 수평 방향 (즉, 아암 스테이지 (222) 의 회전축을 중심으로 하는 직경 방향) 을 따라 서로 독립적으로 이동한다.
반송 로봇 (22) 은, 포크상 부분에서 기판 (9) 을 지지하는 반송 아암 (221a, 221b) 을 각각, 세정 처리 유닛 (21a, 21b), 반전 유닛 (30) 및 재치 유닛 (40) 에 액세스시킴으로써, 세정 처리 유닛 (21a, 21b), 반전 유닛 (30) 및 재치 유닛 (40) 사이에서 기판 (9) 을 반송한다. 또한, 반송 로봇 (22) 에 있어서의 상하 방향으로의 이동 기구로서, 풀리와 타이밍 벨트를 사용한 벨트 이송 기구 등의 다른 기구가 채용되어도 된다.
반전 유닛 (30) 은, 인덱서 셀 (10) 로부터 받은 미처리 기판 (9) 의 상하를 반전시킨 후 (즉, 미처리 기판 (9) 의 표면과 이면을 180 도 반전시킨 후), 당해 미처리 기판 (9) 을 세정 처리 셀 (20) 에 건네준다. 반전 유닛 (30) 은, 세정 처리 셀 (20) 로부터 받은 처리가 완료된 기판 (9) 의 상하를 반전시킨 후 (즉, 처리가 완료된 기판 (9) 의 표면과 이면을 180 도 반전시킨 후), 당해 처리가 완료된 기판 (9) 을 인덱서 셀 (10) 또는 세정 처리 셀 (20) 에 건네준다. 즉, 반전 유닛 (30) 은, 기판 (9) 을 반전시키는 반전부로서의 기능과, 이동 탑재 로봇 (12) 과 반송 로봇 (22) 사이에 있어서의 기판 (9) 의 수수부로서의 기능을 겸비하고 있다. 반전 유닛 (30) 의 구조에 대해서는 후술한다.
재치 유닛 (40) 은, 반전 유닛 (30) 의 상측에 배치된다. 재치 유닛 (40) 과 반전 유닛 (30) 은 상하로 접촉하고 있어도 되고, 상하로 이간되어 있어도 된다. 재치 유닛 (40) 은, 인덱서 셀 (10) 과 세정 처리 셀 (20) 사이의 기판 (9) 의 수수에 사용된다. 재치 유닛 (40) 은, 1 개 이상의 재치부 (41) 를 구비한다. 도 2 및 도 3 에 예시하는 재치 유닛 (40) 에서는, 6 개의 재치부 (41) 가 상하 방향으로 적층된다. 각 재치부 (41) 는, 1 장의 기판 (9) 을 수평 자세로 지지한다. 재치 유닛 (40) 에서는, 예를 들어, 6 개의 재치부 (41) 중, 상측의 3 개의 재치부 (41) 는, 세정 처리 셀 (20) 로부터 인덱서 셀 (10) 로의 처리가 완료된 기판 (9) 의 수수에 사용되고, 하측의 3 개의 재치부 (41) 는, 예를 들어, 인덱서 셀 (10) 로부터 세정 처리 셀 (20) 로의 미처리 기판 (9) 의 수수에 사용된다.
계속해서, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 기판 (9) 의 처리의 흐름의 일례에 대해 설명한다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 기판 (9) 의 반송 순서 (이른바, 플로), 및 기판 (9) 의 처리 조건을 기술한 레시피에 기초하여, 기판 (9) 의 처리가 실시된다. 이하에서는, 기판 (9) 의 양면 (즉, 표면 및 이면) 의 세정이 실시되는 경우에 대해 설명한다.
먼저, 미처리 기판 (9) 이 수용된 캐리어 (95) 가, AGV 등에 의해, 기판 처리 장치 (1) 의 외부로부터 인덱서 셀 (10) 의 캐리어 스테이지 (11) 에 반입된다. 계속해서, 인덱서 셀 (10) 의 이동 탑재 로봇 (12) 이, 반송 아암 (121a, 121b) 을 사용하여 당해 캐리어 (95) 로부터 미처리 기판 (9) 을 2 장 꺼내고, 당해 2 장의 기판 (9) 을 반전 유닛 (30) 에 반입한다. 기판 (9) 은, 표면이 상측을 향한 상태에서 반전 유닛 (30) 에 반입된다. 반전 유닛 (30) 에서는, 기판 반전 장치 (100) 가, 당해 2 장의 기판 (9) 의 표리를 반전시키고, 각 기판 (9) 을, 이면이 상측을 향한 상태로 한다. 기판 반전 장치 (100) 의 동작에 대해서는 후술한다.
반전 유닛 (30) 에 있어서 2 장의 기판 (9) 이 반전되면, 세정 처리 셀 (20) 의 반송 로봇 (22) 이, 반송 아암 (221a, 221b) 을 사용하여, 반전 유닛 (30) 으로부터 2 장의 기판 (9) (즉, 이면이 상측을 향한 상태의 2 장의 기판 (9)) 을 받는다. 반송 로봇 (22) 은, 2 장의 기판 (9) 을, 4 개의 이면 세정 처리부 (24) 중 임의의 2 개의 이면 세정 처리부 (24) 에 각각 반송한다.
기판 (9) 이 반입된 이면 세정 처리부 (24) 에서는, 기판 (9) 의 이면 세정 처리가 실시된다. 구체적으로는, 이면 세정 처리부 (24) 에 있어서, 이면을 상측을 향하게 한 상태의 기판 (9) 을 스핀 척 (211) 에 의해 유지하여 회전시키면서, 노즐 (213) 로부터 기판 (9) 의 이면에 세정액을 공급한다. 이 상태에서, 세정 브러시 (212) 가, 기판 (9) 의 이면에 맞닿거나 또는 근접하여 수평 방향으로 스캔함으로써, 기판 (9) 의 이면에 스크럽 세정 처리가 실시된다.
이면 세정 처리부 (24) 에서 기판 (9) 의 이면 세정 처리가 종료되면, 반송 로봇 (22) 이, 반송 아암 (221a, 221b) 을 사용하여, 2 개의 이면 세정 처리부 (24) 로부터 이면 세정 처리가 완료된 2 장의 기판 (9) 을 순서대로 꺼내고, 당해 2 장의 기판 (9) 을 반전 유닛 (30) 에 반입한다. 기판 (9) 은, 이면이 상측을 향한 상태에서 반전 유닛 (30) 에 반입된다. 반전 유닛 (30) 에서는, 기판 반전 장치 (100) 가, 당해 2 장의 기판 (9) 의 표리를 반전시키고, 각 기판 (9) 을, 표면이 상측을 향한 상태로 한다.
반전 유닛 (30) 에 있어서 2 장의 기판 (9) 이 반전되면, 세정 처리 셀 (20) 의 반송 로봇 (22) 이, 반송 아암 (221a, 221b) 을 사용하여, 반전 유닛 (30) 으로부터 2 장의 기판 (9) (즉, 표면이 상측을 향한 상태의 2 장의 기판 (9)) 을 받는다. 반송 로봇 (22) 은, 2 장의 기판 (9) 을, 4 개의 표면 세정 처리부 (23) 중 임의의 2 개의 표면 세정 처리부 (23) 에 각각 반송한다.
기판 (9) 이 반입된 표면 세정 처리부 (23) 에서는, 기판 (9) 의 표면 세정 처리가 실시된다. 구체적으로는, 표면 세정 처리부 (23) 에 있어서, 표면을 상측을 향하게 한 상태의 기판 (9) 을 스핀 척 (201) 에 의해 유지하여 회전시키면서, 노즐 (203) 로부터 기판 (9) 의 표면에 세정액을 공급한다. 이 상태에서, 세정 브러시 (202) 가, 기판 (9) 의 표면에 맞닿거나 또는 근접하여 수평 방향으로 스캔함으로써, 기판 (9) 의 표면에 스크럽 세정 처리가 실시된다.
표면 세정 처리부 (23) 에서 기판 (9) 의 표면 세정 처리가 종료되면, 반송 로봇 (22) 이, 반송 아암 (221a, 221b) 을 사용하여, 2 개의 표면 세정 처리부 (23) 로부터 표면 세정 처리 후의 2 장의 기판 (9) (즉, 처리가 완료된 기판 (9)) 을 순서대로 꺼내고, 당해 2 장의 기판 (9) 을 재치 유닛 (40) 의 2 개의 재치부 (41) 에 반입한다. 기판 (9) 은, 표면이 상측을 향한 상태에서 재치부 (41) 에 의해 지지된다. 그리고, 인덱서 셀 (10) 의 이동 탑재 로봇 (12) 이, 반송 아암 (121a, 121b) 을 사용하여, 당해 2 장의 처리가 완료된 기판 (9) 을 꺼내 캐리어 (95) 에 수납한다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 인덱서 셀 (10) 에 형성된 이동 탑재 로봇 (12) 과 세정 처리 셀 (20) 에 형성된 반송 로봇 (22) 사이에서 기판 (9) 의 수수가 실시될 때, 기판 반전 장치 (100) 에 의해 기판 (9) 의 표리를 반전시킬 수 있다. 요컨대, 기판 반전 장치 (100) 는, 기판 (9) 을 반전시키는 기능에 더하여, 이동 탑재 로봇 (12) 과 반송 로봇 (22) 사이에서의 기판 (9) 의 수수부로서의 기능도 담당한다. 이로써, 기판 (9) 의 수수부와 반전부를 별도로 형성하는 경우에 비해, 반송 로봇 (22) 의 부담이 경감됨과 함께, 세정 처리 셀 (20) 내에서의 처리 스텝수가 감소한다. 그 결과, 기판 처리 장치 (1) 의 스루풋의 저하를 효율적으로 억제할 수 있다. 또, 후술하는 바와 같이, 반전 유닛 (30) 의 기판 반전 장치 (100) 는, 한 번에 2 장의 기판 (9) 을 적절히 반전시킬 수 있다. 이로써, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 스루풋을 양호한 것으로 할 수 있다.
다음으로, 반전 유닛 (30) 의 구성에 대해, 도 4 내지 도 6 을 참조하면서 설명한다. 도 4 는, 반전 유닛 (30) 을 (＋X) 측으로부터 본 정면도이다. 도 5 는, 반전 유닛 (30) 의 평면도이다. 도 6 은, 반전 유닛 (30) 을, 도 4 의 VI-VI 선에서 본 도면이다. 도 7 및 도 8 은, 후술하는 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 의 일례를 나타내는 도면이다.
반전 유닛 (30) 은, 기판 반전 장치 (100) 와, 케이싱 (301) 을 구비한다. 케이싱 (301) 은, 기판 반전 장치 (100) 를 내부에 수용한다. 기판 반전 장치 (100) 는, 2 개의 협지 기구 (70) 와, 반전 기구 (80) 를 구비한다. 각 협지 기구 (70) 는, 수평 자세의 기판 (9) 의 주연부에 접촉하여 당해 기판 (9) 을 협지한다. 2 개의 협지 기구 (70) 의 구조는 대략 동일하다. 2 개의 협지 기구 (70) 에 의해 협지된 2 장의 기판 (9) 은, 상하 방향으로 간격을 두고 적층된다. 반전 기구 (80) 는, 2 개의 협지 기구 (70) 에 의해 협지된 2 장의 기판 (9) 을 한 번에 반전시킨다. 또한, 기판 반전 장치 (100) 는, 1 개 또는 3 개 이상의 협지 기구 (70) 를 구비하고 있어도 된다.
케이싱 (301) 의 내부에는, 이동 탑재 로봇 (12) 및 반송 로봇 (22) (도 1 참조) 이 액세스 가능하다. 케이싱 (301) 의 벽부 중, 세정 처리 셀 (20) 측 (즉, (＋X) 측) 의 벽부에는, 반송 로봇 (22) 의 반송 아암 (221a, 221b) 을 케이싱 (301) 의 내부에 액세스시키기 위한 개구가 형성되어 있다. 또, 케이싱 (301) 의 벽부 중, 인덱서 셀 (10) 측 (즉, (－X) 측) 의 벽부에는, 이동 탑재 로봇 (12) 의 반송 아암 (121a, 121b) 을 케이싱 (301) 의 내부에 액세스시키기 위한 개구가 형성되어 있다. 이하의 설명에서는, 케이싱 (301) 의 개구가 형성되어 있는 (＋X) 측을 「전측」이라고 부르고, 개구가 형성되어 있는 (－X) 측을 「후측」이라고 부른다. 또, 전후 방향 (즉, X 방향) 과 및 상하 방향 (즉, Z 방향) 과 직교하는 Y 방향을, 「좌우 방향」이라고 부른다. 당해 좌우 방향은, 기판 반전 장치 (100) 의 폭 방향이기도 하다.
도 4 내지 도 6 에 나타내는 바와 같이, 각 협지 기구 (70) 는, 가이드부 (73) 와, 가이드 이동 기구 (74) 와, 전환 기구 (77) 를 구비한다. 가이드부 (73) 는, 2 개의 상가이드 (71) 와, 2 개의 하가이드 (72) 를 구비한다. 2 개의 상가이드 (71) 는, 좌우 방향으로 연장되는 기판 (9) 의 직경 상에 위치한다. 바꾸어 말하면, 2 개의 상가이드 (71) 는, 기판 (9) 의 중심을 사이에 두고 좌우 방향으로 대향한다. 2 개의 하가이드 (72) 는 각각, 2 개의 상가이드 (71) 의 연직 하방에 위치한다. 바꾸어 말하면, 상하 방향으로 나열되는 1 쌍의 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 는, 기판 (9) 의 중심을 지나 상하 방향으로 연장되는 중심축을 중심으로 하는 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다. 기판 (9) 의 (＋Y) 측에 위치하는 1 쌍의 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 에 의해, 기판 (9) 의 (＋Y) 측의 주연부가 협지된다. 또, 기판 (9) 의 (－Y) 측에 위치하는 1 쌍의 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 에 의해, 기판 (9) 의 (－Y) 측의 주연부가 협지된다. 또한, 가이드부 (73) 에 포함되는 상가이드 (71) 의 수, 및 하가이드 (72) 의 수는 각각, 복수이면 적절히 변경되어도 된다.
각 상가이드 (71) 는, Y 방향으로 연장되는 대략 원주상의 상회전축 (75) 의 선단부에 고정되어 있고, 상회전축 (75) 에 의해 지지된다. 각 하가이드 (72) 는, Y 방향으로 연장되는 대략 원주상의 하회전축 (76) 의 선단부에 고정되어 있고, 하회전축 (76) 에 의해 지지된다. 가이드 이동 기구 (74) 는, 각 상회전축 (75) 및 각 하회전축 (76) 에 장착되어 있고, 각 상회전축 (75) 및 각 하회전축 (76) 을 각각 Y 방향으로 이동한다. 이로써, 복수의 상가이드 (71) 및 복수의 하가이드 (72) 가 Y 방향으로 이동한다. 각 상가이드 (71) 및 각 하가이드 (72) 는, 서로 독립적으로 이동 가능하다.
가이드 이동 기구 (74) 는, 복수의 상가이드 (71) 및 복수의 하가이드 (72) 를, 기판 (9) 에 접촉하는 접촉 위치와, 당해 접촉 위치보다 기판 (9) 으로부터 직경 방향 외방 (즉, 기판 (9) 의 폭 방향 외방) 으로 멀어진 퇴피 위치 사이에서 진퇴시킨다. 도 4 에서는, 각 상가이드 (71) 및 각 하가이드 (72) 의 접촉 위치를 실선으로 나타내고, 퇴피 위치를 이점 쇄선으로 나타낸다. 가이드 이동 기구 (74) 는, 예를 들어 에어 실린더이다.
전환 기구 (77) 는, 복수의 상가이드 회전 기구 (771) 와, 복수의 하가이드 회전 기구 (772) 를 구비한다. 각 상가이드 회전 기구 (771) 는, 상회전축 (75) 에 장착되어 있고, 상회전축 (75) 의 중심축을 중심으로 하여 상회전축 (75) 을 회전시킨다. 각 하가이드 회전 기구 (772) 는, 하회전축 (76) 에 장착되어 있고, 하회전축 (76) 의 중심축을 중심으로 하여 하회전축 (76) 을 회전시킨다. 이로써, 각 상가이드 (71) 가, 폭 방향 (즉, Y 방향) 으로 연장되는 상회전축 (75) 을 중심으로 하여 회전한다. 또, 각 하가이드 (72) 가, 폭 방향으로 연장되는 하회전축 (76) 을 중심으로 하여 회전한다. 각 상가이드 (71) 및 각 하가이드 (72) 는, 서로 독립적으로 회전 가능하다. 도 4 에 나타내는 예에서는, 각 상가이드 (71) 는, 상회전축 (75) 을 중심으로 하여 180 도 회전 가능하다. 또, 각 하가이드 (72) 는, 하회전축 (76) 을 중심으로 하여 180 도 회전 가능하다. 상가이드 회전 기구 (771) 및 하가이드 회전 기구 (772) 는, 예를 들어 전동 모터이다.
도 7 에 나타내는 바와 같이, 상가이드 (71) 는, 제 1 상접촉 영역 (711) 과, 제 2 상접촉 영역 (712) 을 구비한다. 도 7 에 나타내는 상태에서는, 제 1 상접촉 영역 (711) 은, 직경 방향 내방 (즉, 기판 (9) 의 폭 방향 내방) 을 향함에 따라 상방으로 향하는 경사면이다. 또, 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 제 1 상접촉 영역 (711) 의 연직 상방에 위치한다. 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 경사면이다. 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 은 각각, 요철을 갖지 않는 대략 평면이다. 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 은 각각, 오목면 또는 볼록면이어도 된다.
제 1 상접촉 영역 (711) 과 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 상하가 반전되어 있는 점을 제외하고, 대략 동일한 형상이다. 또, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 폭 방향 (즉, 상회전축 (75) 의 길이 방향) 의 대략 동일한 위치에 배치된다. 바꾸어 말하면, 제 1 상접촉 영역 (711) 과 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 의 상하 방향의 중앙에 위치하는 수평한 가상면에 관해서 면대칭이다.
하가이드 (72) 는, 상가이드 (71) 와 대략 동일한 형상이다. 하가이드 (72) 는, 제 1 하접촉 영역 (721) 과, 제 2 하접촉 영역 (722) 을 구비한다. 도 7 에 나타내는 상태에서는, 제 1 하접촉 영역 (721) 은, 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 경사면이다. 또, 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 제 1 하접촉 영역 (721) 의 연직 하방에 위치한다. 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하는 경사면이다. 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 은 각각, 요철을 갖지 않는 대략 평면이다. 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 은 각각, 오목면 또는 볼록면이어도 된다.
제 1 하접촉 영역 (721) 과 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 상하가 반전되어 있는 점을 제외하고, 대략 동일한 형상이다. 또, 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 폭 방향 (즉, 하회전축 (76) 의 길이 방향) 의 대략 동일한 위치에 배치된다. 바꾸어 말하면, 제 1 하접촉 영역 (721) 과 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 의 상하 방향의 중앙에 위치하는 수평한 가상면에 관해서 면대칭이다.
도 7 에 나타내는 상태에서는, 상가이드 (71) 의 제 1 상접촉 영역 (711) 과, 하가이드 (72) 의 제 1 하접촉 영역 (721) 이, 상하 방향으로 대향하여 기판 (9) 의 주연부에 접촉한다. 즉, 제 1 상접촉 영역 (711) 은, 상가이드 (71) 에 있어서 기판 (9) 의 주연부에 접촉하는 상접촉면이다. 당해 상접촉면은, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향한다. 또, 제 1 하접촉 영역 (721) 은, 하가이드 (72) 에 있어서 기판 (9) 의 주연부에 접촉하는 하접촉면이다. 당해 하접촉면은, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향한다. 하접촉면은, 수평 상태의 기판 (9) 의 주연부에 접촉하고, 기판 (9) 을 하방으로부터 지지한다. 상접촉면은, 기판 (9) 과 하접촉면의 접촉 위치보다 상측에서, 수평 상태의 기판 (9) 의 주연부에 접촉한다.
도 7 및 도 8 에서는, 상가이드 (71) 의 상측 절반 및 하측 절반 중, 제 1 상접촉 영역 (711) 이 형성되는 부위, 및 하가이드 (72) 의 상측 절반 및 하측 절반 중, 제 1 하접촉 영역 (721) 이 형성되는 부위에 평행 사선을 긋는다.
협지 기구 (70) 에서는, 전환 기구 (77) 의 상가이드 회전 기구 (771) (도 4 참조) 에 의해, 상가이드 (71) 가 상회전축 (75) 을 중심으로 하여 180 도 회전됨으로써, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 의 위치가 전환된다. 바꾸어 말하면, 상가이드 회전 기구 (771) 에 의해, 상가이드 (71) 의 상하가 반전된다. 이로써, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 상가이드 (71) 에 있어서, 제 2 상접촉 영역 (712) 이 제 1 상접촉 영역 (711) 의 연직 하방에 위치한다. 도 8 에 나타내는 상태에서는, 제 2 상접촉 영역 (712) 이, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하여, 기판 (9) 의 주연부에 접촉하는 상접촉면이다. 제 1 상접촉 영역 (711) 은, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향한다.
또, 전환 기구 (77) 의 하가이드 회전 기구 (772) (도 4 참조) 에 의해, 하가이드 (72) 가 하회전축 (76) 을 중심으로 하여 180 도 회전됨으로써, 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 의 위치가 전환된다. 바꾸어 말하면, 하가이드 회전 기구 (772) 에 의해, 하가이드 (72) 의 상하가 반전된다. 이로써, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 하가이드 (72) 에 있어서, 제 2 하접촉 영역 (722) 이 제 1 하접촉 영역 (721) 의 연직 상방에 위치한다. 도 8 에 나타내는 상태에서는, 제 2 하접촉 영역 (722) 이, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하여, 기판 (9) 의 주연부에 접촉하는 하접촉면이다. 또, 제 1 하접촉 영역 (721) 은, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향한다.
이와 같이, 협지 기구 (70) 에서는, 상가이드 (71) 의 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 이, 전환 기구 (77) 의 상가이드 회전 기구 (771) 에 의해, 선택적으로 상접촉면이 된다. 또, 하가이드 (72) 의 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 이, 전환 기구 (77) 의 하가이드 회전 기구 (772) 에 의해, 선택적으로 하접촉면이 된다. 즉, 전환 기구 (77) 는, 각 상가이드 (71) 및 각 하가이드 (72) 와 기판 (9) 의 접촉 상태를 변경한다.
도 4 및 도 5 에 나타내는 바와 같이, 반전 기구 (80) 는, 구동부 (81) 와, 2 개의 회전축 (82) 과, 2 개의 수용부 (83) 를 구비한다. 2 개의 수용부 (83) 는, 기판 (9) 의 (＋Y) 측 및 (－Y) 측에 배치된다. 각 수용부 (83) 에는, 가이드 이동 기구 (74), 상가이드 회전 기구 (771) 및 하가이드 회전 기구 (772) 가 수용된다. 가이드 이동 기구 (74), 상가이드 회전 기구 (771) 및 하가이드 회전 기구 (772) 는 수용부 (83) 에 고정되어 있다. 각 회전축 (82) 은, 수용부 (83) 로부터 폭 방향 외방으로 연장되는 대략 원주상의 부재이다. 각 회전축 (82) 은, 케이싱 (301) 에 의해 회전 가능하게 지지된다.
구동부 (81) 는, (＋Y) 측의 회전축 (82) 에 장착된다. 구동부 (81) 가, (＋Y) 측의 회전축 (82) 을 180 도 회전시킴으로써, (＋Y) 측의 수용부 (83), 각 협지 기구 (70), 협지 기구 (70) 에 협지된 기판 (9), (－Y) 측의 수용부 (83), 및 (－Y) 측의 회전축 (82) 이 180 도 회전되어, 기판 (9) 의 상하가 반전된다. 바꾸어 말하면, 반전 기구 (80) 는, 복수의 상가이드 (71) 및 복수의 하가이드 (72) 를, 수평 방향을 향하는 회전축 (82) 을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 복수의 상가이드 (71) 및 복수의 하가이드 (72) 에 협지된 기판 (9) 을 반전시킨다. 기판 반전 장치 (100) 에서는, 2 개의 협지 기구 (70) 에 의해 2 장의 기판 (9) 이 협지되어 있는 경우, 2 장의 기판 (9) 이 동시에 반전된다. 또, 일방의 협지 기구 (70) 만이 기판 (9) 을 협지하고 있는 경우, 당해 기판 (9) 이 단독으로 반전된다.
기판 반전 장치 (100) 에서는, 반전 기구 (80) 에 의해 기판 (9) 이 반전되면, 각 협지 기구 (70) 의 가이드부 (73) 에 있어서, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 의 상하가 반전된다. 바꾸어 말하면, 기판 (9) 의 반전에 수반하여, 상가이드 (71) 가 하가이드 (72) 가 되고, 하가이드 (72) 가 상가이드 (71) 가 된다.
도 9 내지 도 16 은, 기판 반전 장치 (100) 에 있어서 기판 (9) 이 반전될 때의 동작의 일례를 나타내는 도면이다. 이하에서는, 미처리 기판 (9) 이 기판 반전 장치 (100) 에 반입되어 반전된 후에 반출되고, 세정 처리가 완료된 기판 (9) 이 기판 반전 장치 (100) 에 반입되어 반전될 때의 동작의 일례에 대해 설명한다. 도 9 내지 도 16 에서는, 기판 (9), 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 등, 기판 반전 장치 (100) 의 일부의 구성만을 도시하고 있다.
도 9 내지 도 16 에서는, 상가이드 (71) 의 상측 절반 및 하측 절반 중, 제 1 상접촉 영역 (711) 이 형성되는 부위, 및 하가이드 (72) 의 상측 절반 및 하측 절반 중, 제 1 하접촉 영역 (721) 이 형성되는 부위에 평행 사선을 긋는다. 또, 도 9 내지 도 16 에서는, 미처리 기판 (9) 에 평행 사선을 긋는다. 또한, 처리가 완료된 기판 (9) 에는 평행 사선을 긋지 않는다. 또한, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 의 이동 방향, 및 반전 기구 (80) 에 의한 회전 방향을 화살표로 나타낸다. 도 9, 도 10, 도 15 및 도 16 에서는, 반전 기구 (80) 의 회전축 (82) 의 중심축을 일점 쇄선으로 나타낸다. 당해 일점 쇄선에도, 부호 82 를 붙인다.
도 9 에서는, 미처리 기판 (9) 이, 표면을 상측을 향하게 한 상태에서, 협지 기구 (70) 에 의해 협지되어 있다. 협지 기구 (70) 에서는, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 가 접촉 위치에 위치하고 있다. 상가이드 (71) 에서는, 제 1 상접촉 영역 (711) 이 기판 (9) 에 접촉하고 있다. 하가이드 (72) 에서는, 제 1 하접촉 영역 (721) 이 제 1 상접촉 영역 (711) 과 상하 방향으로 대향하여, 기판 (9) 에 접촉하고 있다. 바꾸어 말하면, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 1 하접촉 영역 (721) 은 각각, 기판 (9) 에 접촉하는 상접촉면 및 하접촉면이다. 상가이드 (71) 의 제 2 상접촉 영역 (712), 및 하가이드 (72) 의 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 기판 (9) 에는 접촉하고 있지 않다.
계속해서, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 기판 (9) 및 협지 기구 (70) 가, 반전 기구 (80) (도 4 참조) 에 의해 회전축 (82) 을 중심으로 하여 회전됨으로써 기판 (9) 이 반전된다. 기판 (9) 은, 이면을 상측을 향하게 한 상태가 된다. 상기 서술한 바와 같이, 기판 (9) 의 반전에 수반하여, 도 9 중 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 가 각각, 도 10 중의 하가이드 (72) 및 상가이드 (71) 가 된다.
다음으로, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 2 개의 상가이드 (71) 가, 가이드 이동 기구 (74) (도 4 참조) 에 의해 폭 방향 외방으로 이동한다. 이로써, 상가이드 (71) 는, 기판 (9) 으로부터 이간되어 퇴피 위치에 위치한다. 2 개의 하가이드 (72) 는, 접촉 위치로부터 이동하지 않고, 기판 (9) 을 하측으로부터 지지한다. 또, 세정 처리 셀 (20) 의 반송 로봇 (22) 의 반송 아암 (221a) 이, 기판 (9) 의 하방에 배치된다.
그리고, 도 12 에 나타내는 바와 같이, 반송 아암 (221a) 이 상방으로 이동하고, 기판 (9) 의 하면에 접촉하여 기판 (9) 을 하방으로부터 지지한다. 이로써, 기판 (9) 이, 협지 기구 (70) 로부터 반송 로봇 (22) 에 수수된다. 반송 로봇 (22) 은, 미처리 기판 (9) 을 기판 반전 장치 (100) 로부터 반출하고, 세정 처리 셀 (20) (도 1 참조) 로 반입한다. 또, 2 개의 하가이드 (72) 는, 가이드 이동 기구 (74) 에 의해 폭 방향 외방으로 이동하여, 퇴피 위치에 위치한다.
미처리 기판 (9) 이 기판 반전 장치 (100) 로부터 반출되면, 도 13 에 나타내는 바와 같이, 전환 기구 (77) 의 상가이드 회전 기구 (771) (도 4 참조) 에 의해, 상가이드 (71) 가, 상회전축 (75) 을 중심으로 하여 180 도 회전된다. 이로써, 제 2 상접촉 영역 (712) 이, 제 1 상접촉 영역 (711) 의 연직 하방에 위치한다. 또, 하가이드 회전 기구 (772) (도 4 참조) 에 의해, 하가이드 (72) 가, 하회전축 (76) 을 중심으로 하여 180 도 회전된다. 이로써, 제 2 하접촉 영역 (722) 이, 제 1 하접촉 영역 (721) 의 연직 상방에 위치한다. 제 2 하접촉 영역 (722) 과 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 상하 방향으로 대향한다.
계속해서, 도 14 에 나타내는 바와 같이, 반송 로봇 (22) 의 반송 아암 (221a) 에 의해 하방으로부터 지지된 처리가 완료된 기판 (9) 이, 기판 반전 장치 (100) 에 반입된다. 기판 (9) 은, 이면을 상측을 향하게 한 상태에서 반송 아암 (221a) 에 의해 지지되어 있다. 기판 (9) 은, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 보다 상측에 위치한다. 또, 2 개의 하가이드 (72) 는, 가이드 이동 기구 (74) 에 의해 폭 방향 내방으로 이동하여, 접촉 위치에 위치한다.
다음으로, 도 15 에 나타내는 바와 같이, 반송 아암 (221a) 이 하방으로 이동하고, 각 하가이드 (72) 의 제 2 하접촉 영역 (722) 이, 기판 (9) 에 접촉하여 기판 (9) 을 하방으로부터 지지한다. 반송 아암 (221a) 은, 기판 (9) 으로부터 하방으로 이간된다. 이로써, 기판 (9) 이, 반송 로봇 (22) 으로부터 협지 기구 (70) 에 수수되고, 또, 2 개의 상가이드 (71) 는, 가이드 이동 기구 (74) 에 의해 폭 방향 내방으로 이동하여, 접촉 위치에 위치한다. 각 상가이드 (71) 의 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 기판 (9) 에 접촉한다. 이로써, 기판 (9) 이, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 에 협지된다. 또한, 상가이드 (71) 의 제 1 상접촉 영역 (711), 및 하가이드 (72) 의 제 1 하접촉 영역 (721) 은, 기판 (9) 에 접촉하고 있지 않다.
이와 같이, 기판 반전 장치 (100) 에서는, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 에 있어서, 미처리 기판 (9) 에 접촉하지 않았던 제 2 상접촉 영역 (712) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 이, 처리가 완료된 기판 (9) 에 접촉한다. 또, 미처리 기판 (9) 에 접촉한 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 1 하접촉 영역 (721) 은, 처리가 완료된 기판 (9) 에는 접촉하지 않는다. 이로써, 미처리 기판 (9) 의 오염이나 파티클 등이, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 개재하여, 처리가 완료된 기판 (9) 에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
그 후, 도 16 에 나타내는 바와 같이, 기판 (9) 및 협지 기구 (70) 가, 반전 기구 (80) 에 의해 회전축 (82) 을 중심으로 하여 회전됨으로써 기판 (9) 이 반전된다. 기판 (9) 은, 표면을 상측을 향하게 한 상태가 된다. 상기 서술한 바와 같이, 기판 (9) 의 반전에 수반하여, 도 15 중의 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 가 각각, 도 16 중의 하가이드 (72) 및 상가이드 (71) 가 된다. 표면을 상측을 향하게 한 상태의 기판 (9) 은, 인덱서 셀 (10) 의 이동 탑재 로봇 (12) 의 반송 아암 (121a) (도 1 참조) 에 의해, 기판 반전 장치 (100) 로부터 반출되고, 캐리어 (95) 에 수납된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 기판 반전 장치 (100) 는, 복수의 상가이드 (71) 와, 복수의 하가이드 (72) 와, 반전 기구 (80) 와, 가이드 이동 기구 (74) 와, 전환 기구 (77) 를 구비한다. 복수의 하가이드 (72) 는, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 하경사면을, 수평 상태의 기판 (9) 의 주연부에 접촉시켜 기판 (9) 을 하방으로부터 지지한다. 복수의 상가이드 (71) 는, 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하는 상경사면을, 복수의 하가이드 (72) 와의 접촉 위치보다 상측에서 기판 (9) 의 주연부에 접촉시켜, 복수의 하가이드 (72) 와의 사이에서 기판 (9) 을 협지한다. 반전 기구 (80) 는, 복수의 하가이드 (72) 및 복수의 상가이드 (71) 를, 수평 방향을 향하는 회전축 (82) 을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 복수의 하가이드 (72) 및 복수의 상가이드 (71) 에 의해 협지된 기판 (9) 을 반전시킨다. 가이드 이동 기구 (74) 는, 복수의 하가이드 (72) 및 복수의 상가이드 (71) 를, 기판 (9) 에 접촉하는 접촉 위치와, 접촉 위치보다 기판으로부터 멀어진 퇴피 위치 사이에서 진퇴시킨다. 전환 기구 (77) 는, 복수의 하가이드 (72) 및 복수의 상가이드 (71) 와 기판 (9) 의 접촉 상태를 변경한다.
각 하가이드 (72) 는, 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 을 구비한다. 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 전환 기구 (77) 에 의해 전환되어 선택적으로 하경사면이 된다. 각 상가이드 (71) 는, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 을 구비한다. 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 전환 기구 (77) 에 의해 전환되어 선택적으로 상경사면이 된다.
기판 반전 장치 (100) 에서는, 기판 (9) 의 상태 (예를 들어, 미처리 또는 처리 완료) 에 맞추어, 가이드부 (73) (즉, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72)) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 전환할 수 있다. 구체적으로는, 상가이드 (71) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역은, 제 1 상접촉 영역 (711) 과 제 2 상접촉 영역 (712) 사이에서 전환된다. 또, 하가이드 (72) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역은, 제 1 하접촉 영역 (721) 과 제 2 하접촉 영역 (722) 사이에서 전환된다. 그 결과, 예를 들어, 미처리 기판 (9) 의 오염이나 파티클 등이, 가이드부 (73) 의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 통하여, 처리가 완료된 기판 (9) 에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
기판 반전 장치 (100) 에서는, 각 하가이드 (72) 에 있어서, 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 폭 방향으로 연장되는 하회전축 (76) 의 길이 방향의 동일한 위치에 배치된다. 또, 각 상가이드 (71) 에 있어서, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 폭 방향으로 연장되는 상회전축 (75) 의 길이 방향의 동일한 위치에 배치된다. 전환 기구 (77) 는, 하가이드 회전 기구 (772) 와, 상가이드 회전 기구 (771) 를 구비한다. 하가이드 회전 기구 (772) 는, 하회전축 (76) 을 중심으로 하여 각 하가이드 (72) 를 회전시킴으로써, 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 을 선택적으로 상기 서술한 하경사면으로 한다. 상가이드 회전 기구 (771) 는, 상회전축 (75) 을 중심으로 하여 각 상가이드 (71) 를 회전시킴으로써, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 을 선택적으로 상기 서술한 상경사면으로 한다.
이로써, 각 하가이드 (72) 에 있어서, 제 1 하접촉 영역 (721) 과 제 2 하접촉 영역 (722) 의 전환을 용이하게 실현할 수 있다. 또, 각 상가이드 (71) 에 있어서, 제 1 상접촉 영역 (711) 과 제 2 상접촉 영역 (712) 의 전환을 용이하게 실현할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 하가이드 회전 기구 (772) 는, 하회전축 (76) 을 중심으로 하여 각 하가이드 (72) 를 180 도 회전시킴으로써, 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 을 선택적으로 상기 서술한 하경사면으로 한다. 또, 상가이드 회전 기구 (771) 는, 상회전축 (75) 을 중심으로 하여 각 상가이드 (71) 를 180 도 회전시킴으로써, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 을 선택적으로 상기 서술한 상경사면으로 한다.
이와 같이, 각 하가이드 (72) 에 있어서, 제 1 하접촉 영역 (721) 과 제 2 하접촉 영역 (722) 을 비교적 크게 멀리하여 배치함으로써, 제 1 하접촉 영역 (721) 과 제 2 하접촉 영역 (722) 사이에 있어서의 오염이나 파티클 등의 이동을 억제할 수 있다. 또, 각 상가이드 (71) 에 있어서, 제 1 상접촉 영역 (711) 과 제 2 상접촉 영역 (712) 을 비교적 크게 멀리하여 배치함으로써, 제 1 상접촉 영역 (711) 과 제 2 상접촉 영역 (712) 사이에 있어서의 오염이나 파티클 등의 이동을 억제할 수 있다.
기판 처리 장치 (1) 는, 기판 반전 장치 (100) 와, 이면 세정 처리부 (24) 와, 기판 반송부인 반송 로봇 (22) 을 구비한다. 이면 세정 처리부 (24) 는, 기판 반전 장치 (100) 에 의해 반전된 기판 (9) 의 이면을 세정한다. 반송 로봇 (22) 은, 기판 반전 장치 (100) 와 이면 세정 처리부 (24) 사이에서 기판 (9) 을 반송한다. 상기 서술한 바와 같이, 기판 반전 장치 (100) 에서는, 기판 (9) 의 상태에 맞추어, 가이드부 (73) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 전환할 수 있다. 이 때문에, 미처리 기판 (9) 의 반전과, 이면 세정 처리가 완료된 기판 (9) 의 반전을, 기판 (9) 에 대한 파티클 등의 부착을 방지하면서, 1 개의 기판 반전 장치 (100) 에 의해 실행할 수 있다. 그 결과, 기판 (9) 의 처리에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다. 또, 기판 (9) 의 상태에 맞추어 복수의 기판 반전 장치가 형성되는 경우에 비해, 기판 처리 장치 (1) 의 소형화를 실현할 수도 있다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 세정 처리 블록인 세정 처리 셀 (20) 과, 인덱서 블록인 인덱서 셀 (10) 을 추가로 구비한다. 세정 처리 셀 (20) 에는, 이면 세정 처리부 (24), 및 기판 반송부인 반송 로봇 (22) 이 배치된다. 인덱서 셀 (10) 에는, 다른 기판 반송부인 이동 탑재 로봇 (12) 이 배치된다. 인덱서 셀 (10) 은, 세정 처리 셀 (20) 에 미처리 기판 (9) 을 건네줌과 함께, 세정 처리 셀 (20) 로부터 처리가 완료된 기판 (9) 을 받는다. 기판 반전 장치 (100) 는, 세정 처리 셀 (20) 과 인덱서 셀 (10) 의 접속부에 배치된다. 반송 로봇 (22) 및 이동 탑재 로봇 (12) 중 일방의 반송부가 기판 반전 장치 (100) 에 기판 (9) 을 반입한 경우, 기판 반전 장치 (100) 에 의해 반전된 기판 (9) 은, 타방의 반송부에 의해 기판 반전 장치 (100) 로부터 반출된다. 이와 같이, 기판 반전 장치 (100) 를, 기판 (9) 의 반전, 및 인덱서 셀 (10) 과 세정 처리 셀 (20) 사이의 기판 (9) 의 수수에 이용함으로써, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 기판 (9) 의 처리에 필요로 하는 시간을 더욱 단축할 수 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 반드시, 기판 (9) 의 표면 및 이면의 세정 처리가 실시될 필요는 없고, 예를 들어, 표면 세정 처리부 (23) 를 사용하여, 기판 (9) 의 표면만의 세정 처리가 실시되어도 된다. 혹은, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 이면 세정 처리부 (24) 를 사용하여, 기판 (9) 의 이면만의 세정 처리가 실시되어도 된다.
기판 처리 장치 (1) 에 있어서, 기판 (9) 의 이면만의 세정 처리가 실시되는 경우, 세정 처리 셀 (20) 에 있어서 이면 세정 처리가 실시된 기판 (9) 은, 반송 로봇 (22) 에 의해 기판 반전 장치 (100) 에 반입되고, 기판 반전 장치 (100) 에 의해 반전된 후, 인덱서 셀 (10) 의 이동 탑재 로봇 (12) 에 의해 반출된다. 이 경우에도, 상기와 동일하게, 기판 (9) 의 처리에 필요로 하는 시간을 더욱 단축할 수 있다.
상기 서술한 예에서는, 각 상가이드 (71) 는 하가이드 (72) 의 연직 상방에 위치하고 있는데, 각 상가이드 (71) 는, 평면에서 볼 때 각 하가이드 (72) 와 상이한 위치에 배치되어도 된다. 예를 들어, 도 17 에 나타내는 예에서는, 각 상가이드 (71) 는, 기판 (9) 의 중심을 지나 상하 방향으로 연장되는 중심축을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서, 2 개의 하가이드 (72) 와 상이한 위치에 위치하고 있고, 하가이드 (72) 와 상하 방향으로 중첩되지 않는다. 각 상가이드 (71) 는, 하가이드 (72) 와 둘레 방향으로 인접하여 배치된다. 2 개의 상가이드 (71) 는, 둘레 방향에 있어서 180 도 어긋난 위치에 배치된다. 2 개의 하가이드 (72) 도, 둘레 방향에 있어서 180 도 어긋난 위치에 배치된다.
이와 같이, 각 상가이드 (71) 가, 평면에서 볼 때 각 하가이드 (72) 와 상이한 위치에 배치됨으로써, 전환 기구 (77) (도 4 참조) 에 의해 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 와 기판 (9) 의 접촉 상태가 변경될 때, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 중 일방의 가동 범위가 타방에 의해 제한되는 것을 억제할 수 있다. 구체적으로는, 전환 기구 (77) 에 의한 상가이드 (71) 의 회전이, 하가이드 (72) 의 존재에 의해 기계적으로 제한되는 것을 억제할 수 있다. 또, 전환 기구 (77) 에 의한 하가이드 (72) 의 회전이, 상가이드 (71) 의 존재에 의해 기계적으로 제한되는 것을 억제할 수 있다. 그 결과, 가이드부 (73) (즉, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72)) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역의 전환을 용이하게 실시할 수 있다.
다음으로, 다른 바람직한 기판 반전 장치에 대해 설명한다. 도 18 및 도 19 는, 기판 반전 장치 (100a) 의 1 쌍의 상가이드 (71a) 및 하가이드 (72a) 를 나타내는 도면이다. 다른 상가이드 (71a) 및 하가이드 (72a) 의 구조는, 도 18 및 도 19 에 나타내는 것과 동일하다. 또, 기판 반전 장치 (100a) 의 도시되지 않은 구성은, 상기 서술한 기판 반전 장치 (100) 의 구성과 대략 동일하다.
각 하가이드 (72a) 는, 상가이드 (71a) 의 연직 하방에 위치하고 있다. 각 하가이드 (72a) 는, 상가이드 (71a) 와 대략 동일한 형상이고, 상가이드 (71a) 와는 상하가 반전되어 있다. 상가이드 (71a) 의 상면의 폭 방향의 중앙부에는, 상하 방향으로 연장되는 상회전축 (75a) 이 접속된다. 하가이드 (72a) 의 하면의 폭 방향의 중앙부에는, 상하 방향으로 연장되는 하회전축 (76a) 이 접속된다.
상가이드 (71a) 는, 제 1 상접촉 영역 (711a) 과, 제 2 상접촉 영역 (712a) 을 구비한다. 제 1 상접촉 영역 (711a) 및 제 2 상접촉 영역 (712a) 은, 상회전축 (75a) 의 길이 방향 (즉, 상하 방향) 의 동일한 위치에 배치된다. 도 18 에 나타내는 상태에서는, 제 1 상접촉 영역 (711a) 은, 기판 (9) 의 외주연으로부터 직경 방향 내방 (즉, 기판 (9) 의 폭 방향 내방) 을 향함에 따라 상방으로 향하는 경사면이다. 또, 제 2 상접촉 영역 (712a) 은, 제 1 상접촉 영역 (711a) 의 직경 방향 외측에 위치한다. 제 2 상접촉 영역 (712a) 은, 폭 방향 외방을 향함에 따라 상방으로 향하는 경사면이다. 제 1 상접촉 영역 (711a) 과 제 2 상접촉 영역 (712a) 은, 좌우가 반전되어 있는 점을 제외하고, 대략 동일한 형상이다.
하가이드 (72a) 는, 제 1 하접촉 영역 (721a) 과, 제 2 하접촉 영역 (722a) 을 구비한다. 도 18 에 나타내는 상태에서는, 제 1 하접촉 영역 (721a) 은, 기판 (9) 의 외주연으로부터 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 경사면이다. 또, 제 2 하접촉 영역 (722a) 은, 제 1 하접촉 영역 (721a) 의 직경 방향 외측에 위치한다. 제 2 하접촉 영역 (722a) 은, 폭 방향 외방을 향함에 따라 하방으로 향하는 경사면이다. 제 1 하접촉 영역 (721a) 과 제 2 하접촉 영역 (722a) 은, 좌우가 반전되어 있는 점을 제외하고, 대략 동일한 형상이다.
도 18 에서는, 상가이드 (71a) 의 우측 절반 및 좌측 절반 중, 제 1 상접촉 영역 (711a) 이 형성되는 부위, 및 하가이드 (72a) 의 우측 절반 및 좌측 절반 중, 제 1 하접촉 영역 (721a) 이 형성되는 부위에 평행 사선을 긋는다. 후술하는 도 19 에 있어서도 동일하다.
도 18 에 나타내는 상태에서는, 상가이드 (71a) 의 제 1 상접촉 영역 (711a) 과, 하가이드 (72a) 의 제 1 하접촉 영역 (721a) 이, 상하 방향으로 대향하여 기판 (9) 의 주연부에 접촉한다. 즉, 제 1 상접촉 영역 (711a) 은, 상가이드 (71a) 에 있어서 기판 (9) 의 주연부에 접촉하는 상접촉면이다. 당해 상접촉면은, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향한다. 또, 제 1 하접촉 영역 (721a) 은, 하가이드 (72a) 에 있어서 기판 (9) 의 주연부에 접촉하는 하접촉면이다. 당해 하접촉면은, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향한다. 각 하접촉면은, 수평 상태의 기판 (9) 의 주연부에 접촉하여, 기판 (9) 을 하방으로부터 지지한다. 각 상접촉면은, 기판 (9) 과 하접촉면의 접촉 위치보다 상측에서, 수평 상태의 기판 (9) 의 주연부에 접촉한다.
기판 반전 장치 (100a) 에서는, 전환 기구 (77a) 의 상가이드 회전 기구 (771a) 에 의해, 상가이드 (71a) 가 상회전축 (75a) 을 중심으로 하여 수평하게 180 도 회전됨으로써, 제 1 상접촉 영역 (711a) 및 제 2 상접촉 영역 (712a) 의 위치가 전환된다. 바꾸어 말하면, 상가이드 회전 기구 (771a) 에 의해, 상가이드 (71a) 의 좌우가 반전된다. 이로써, 도 19 에 나타내는 바와 같이, 제 2 상접촉 영역 (712a) 이 제 1 상접촉 영역 (711a) 의 직경 방향 내측에 위치한다. 도 19 에 나타내는 상태에서는, 제 2 상접촉 영역 (712a) 이, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하고, 기판 (9) 의 주연부에 접촉하는 상접촉면이다. 제 1 상접촉 영역 (711a) 은, 기판 (9) 의 폭 방향 외방을 향함에 따라 상방으로 향한다.
또, 도 18 에 나타내는 전환 기구 (77a) 의 하가이드 회전 기구 (772a) 에 의해, 하가이드 (72a) 가 하회전축 (76a) 을 중심으로 하여 수평하게 180 도 회전함으로써, 제 1 하접촉 영역 (721a) 및 제 2 하접촉 영역 (722a) 의 위치가 전환된다. 바꾸어 말하면, 하가이드 회전 기구 (772a) 에 의해, 하가이드 (72a) 의 좌우가 반전된다. 이로써, 도 19 에 나타내는 바와 같이, 제 2 하접촉 영역 (722a) 이 제 1 하접촉 영역 (721a) 의 직경 방향 내측에 위치한다. 도 19 에 나타내는 상태에서는, 제 2 하접촉 영역 (722a) 이, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하여, 기판 (9) 의 주연부에 접촉하는 하접촉면이다. 또, 제 1 하접촉 영역 (721a) 은, 기판 (9) 의 폭 방향 외방을 향함에 따라 상방으로 향한다.
이와 같이, 기판 반전 장치 (100a) 에서는, 상가이드 (71a) 의 제 1 상접촉 영역 (711a) 및 제 2 상접촉 영역 (712a) 이, 전환 기구 (77a) 의 상가이드 회전 기구 (771a) 에 의해, 선택적으로 상접촉면이 된다. 또, 하가이드 (72a) 의 제 1 하접촉 영역 (721a) 및 제 2 하접촉 영역 (722a) 이, 전환 기구 (77a) 의 하가이드 회전 기구 (772a) 에 의해, 선택적으로 하접촉면이 된다. 즉, 전환 기구 (77a) 는, 각 상가이드 (71a) 및 각 하가이드 (72a) 와 기판 (9) 의 접촉 상태를 변경한다.
또, 기판 반전 장치 (100a) 에서는, 가이드 이동 기구 (74a) 가 상가이드 회전 기구 (771a) 및 하가이드 회전 기구 (772a) 에 접속되어 있다. 가이드 이동 기구 (74a) 에 의해, 상가이드 회전 기구 (771a) 및 하가이드 회전 기구 (772a) 가 폭 방향으로 이동됨으로써, 각 상가이드 (71a) 및 각 하가이드 (72a) 가, 기판 (9) 에 접촉하는 접촉 위치와, 당해 접촉 위치보다 기판 (9) 으로부터 폭 방향 외방 (즉, 기판 (9) 의 직경 방향 외방) 으로 멀어진 퇴피 위치 사이에서 진퇴된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 기판 반전 장치 (100a) 에서는, 각 하가이드 (72a) 에 있어서, 상하 방향으로 연장되는 하회전축 (76a) 에 대해 선대칭의 위치에 제 1 하접촉 영역 (721a) 및 제 2 하접촉 영역 (722a) 이 배치된다. 또, 각 상가이드 (71a) 에 있어서, 상하 방향으로 연장되는 상회전축 (75a) 에 대해 선대칭의 위치에 제 1 상접촉 영역 (711a) 및 제 2 상접촉 영역 (712a) 이 배치된다. 전환 기구 (77a) 는, 하가이드 회전 기구 (772a) 와, 상가이드 회전 기구 (771a) 를 구비한다. 하가이드 회전 기구 (772a) 는, 각 하가이드 (72a) 를 하회전축 (76a) 을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 제 1 하접촉 영역 (721a) 및 제 2 하접촉 영역 (722a) 을 선택적으로 상기 서술한 하경사면으로 한다. 상가이드 회전 기구 (771a) 는, 각 상가이드 (71a) 를 상회전축 (75a) 을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 제 1 상접촉 영역 (711a) 및 제 2 상접촉 영역 (712a) 을 선택적으로 상기 서술한 상경사면으로 한다.
이로써, 기판 반전 장치 (100) 와 동일하게, 각 하가이드 (72a) 에 있어서, 제 1 하접촉 영역 (721a) 과 제 2 하접촉 영역 (722a) 의 전환을 용이하게 실현할 수 있다. 또, 각 상가이드 (71a) 에 있어서, 제 1 상접촉 영역 (711a) 과 제 2 상접촉 영역 (712a) 의 전환을 용이하게 실현할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 하가이드 회전 기구 (772a) 는, 하회전축 (76a) 을 중심으로 하여 각 하가이드 (72a) 를 180 도 회전시킴으로써, 제 1 하접촉 영역 (721a) 및 제 2 하접촉 영역 (722a) 을 선택적으로 상기 서술한 하경사면으로 한다. 또, 상가이드 회전 기구 (771a) 는, 상회전축 (75a) 을 중심으로 하여 각 상가이드 (71a) 를 180 도 회전시킴으로써, 제 1 상접촉 영역 (711a) 및 제 2 상접촉 영역 (712a) 을 선택적으로 상기 서술한 상경사면으로 한다.
이와 같이, 각 하가이드 (72a) 에 있어서, 제 1 하접촉 영역 (721a) 과 제 2 하접촉 영역 (722a) 을 비교적 크게 멀리하여 배치함으로써, 제 1 하접촉 영역 (721a) 과 제 2 하접촉 영역 (722a) 사이에 있어서의 오염이나 파티클 등의 이동을 억제할 수 있다. 또, 각 상가이드 (71a) 에 있어서, 제 1 상접촉 영역 (711a) 과 제 2 상접촉 영역 (712a) 을 비교적 크게 멀리하여 배치함으로써, 제 1 상접촉 영역 (711a) 과 제 2 상접촉 영역 (712a) 사이에 있어서의 오염이나 파티클 등의 이동을 억제할 수 있다.
또한, 상기 서술한 각 상가이드 (71a) 는, 하가이드 (72a) 의 연직 상방에 위치하고 있는데, 각 상가이드 (71a) 는, 도 17 에 나타내는 예와 동일하게, 평면에서 볼 때 각 하가이드 (72a) 와 상이한 위치에 배치되어도 된다. 이로써, 상기와 동일하게, 상가이드 (71a) 및 하가이드 (72a) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역의 전환을 용이하게 실시할 수 있다.
상기 서술한 기판 반전 장치 (100, 100a) 및 기판 처리 장치 (1) 에서는, 여러 가지 변경이 가능하다.
상가이드 (71, 71a) 및 하가이드 (72, 72a) 의 형상은, 도 7 및 도 18 에 나타내는 것에는 한정되지 않고, 여러 가지로 변경되어도 된다. 예를 들어, 도 7 에 나타내는 상가이드 (71) 에 있어서, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 에 더하여, 제 3 상접촉 영역이 형성되어도 된다. 제 1 상접촉 영역 (711), 제 2 상접촉 영역 (712) 및 당해 제 3 상접촉 영역은, 상회전축 (75) 의 길이 방향 (즉, 수평 방향) 의 대략 동일한 위치에 있어서, 상회전축 (75) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 120 도 간격으로 배치된다. 하가이드 (72) 에 있어서도 동일하다. 이로써, 기판 (9) 의 3 종류의 상태에 맞추어, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 전환할 수 있다.
또, 예를 들어, 도 18 에 나타내는 상가이드 (71a) 에 있어서, 제 1 상접촉 영역 (711a) 및 제 2 상접촉 영역 (712a) 에 더하여, 제 3 상접촉 영역이 형성되어도 된다. 제 1 상접촉 영역 (711a), 제 2 상접촉 영역 (712a) 및 당해 제 3 상접촉 영역은, 상회전축 (75a) 의 길이 방향 (즉, 상하 방향) 의 대략 동일한 위치에 있어서, 상회전축 (75a) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 120 도 간격으로 배치된다. 하가이드 (72a) 에 있어서도 동일하다. 이로써, 기판 (9) 의 3 종류의 상태에 맞추어, 상가이드 (71a) 및 하가이드 (72a) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 전환할 수 있다. 상가이드 (71, 71a) 및 하가이드 (72, 72a) 는 각각, 4 개 이상의 접촉 영역을 구비하고 있어도 된다.
가이드 이동 기구 (74, 74a) 에 의한 상가이드 (71, 71a) 및 하가이드 (72, 72a) 의 진퇴의 방향은, 반드시 수평 방향으로는 한정되지 않고, 여러 가지로 변경되어도 된다. 예를 들어, 상가이드 (71, 71a) 및 하가이드 (72, 72a) 의 진퇴의 방향은, 상하 방향 및 폭 방향에 대해 경사지는 경사 방향이어도 된다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 표면 세정 처리부 (23), 이면 세정 처리부 (24) 및 재치부 (41) 의 배치 및 수는 적절히 변경되어도 된다. 또, 기판 반전 장치 (100, 100a) 는, 반드시 인덱서 셀 (10) 과 세정 처리 셀 (20) 의 접속부에 배치될 필요는 없다. 기판 반전 장치 (100, 100a) 의 위치도 적절히 변경되어도 된다.
기판 반전 장치 (100, 100a) 는, 기판 (9) 을 스크럽 세정하는 기판 처리 장치 (1) 이외의 기판 처리 장치에서 이용되어도 된다. 예를 들어, 기판 반전 장치 (100, 100a) 는, 기판의 레지스트 도포 처리를 실시하는 처리 블록, 및 기판의 현상 처리를 실시하는 처리 블록이, 기판 수수부를 개재하여 병설된 코터 ＆ 디벨로퍼에서 이용되어도 된다.
또, 기판 반전 장치 (100, 100a) 는, 도 20 및 도 21 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 에서 이용되어도 된다. 이, 기판 처리 장치 (1a) 는, 각종 약액을 사용한 세정 처리나 건조 처리, 에칭 처리 등을 실시할 수 있는 기판 처리 장치이다. 도 20 은, 기판 처리 장치 (1a) 의 평면도이다. 도 21 은, 기판 처리 장치 (1a) 를, 도 20 의 XXI－XXI 선에서 본 도면이다. 도 21 에서는, XXI－XXI 선보다 앞의 구성의 일부를 파선으로 함께 도시한다.
기판 처리 장치 (1a) 는, 도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 와 동일하게, 인덱서 셀 (10) 과, 세정 처리 셀 (20) 을 구비한다. 인덱서 셀 (10) 은, 4 개의 캐리어 스테이지 (11) 와, 이동 탑재 로봇 (12) 을 구비한다. 각 캐리어 스테이지 (11) 에는, 복수의 기판 (9) 을 수납할 수 있는 캐리어 (95) 가 재치된다.
세정 처리 셀 (20) 은, 반송 로봇 (22) 과, 4 개의 세정 처리 유닛 (21c) 과, 반전 유닛 (30) 과, 재치 유닛 (40) 을 구비한다. 반송 로봇 (22) 은, 세정 처리 셀 (20) 의 Y 방향 중앙에 있어서 X 방향으로 연장되는 통로 (27) 상을 이동한다. 반송 로봇 (22) 은, 반전 유닛 (30), 재치 유닛 (40) 및 세정 처리 유닛 (21c) 에 대해 기판 (9) 의 수수를 실시하는 기판 반송부이다. 4 개의 세정 처리 유닛 (21c) 은, 세정 처리 셀 (20) 의 중앙부의 주위에 배치된다. 4 개의 세정 처리 유닛 (21c) 중 2 개의 세정 처리 유닛 (21c) 은 통로 (27) 의 (＋Y) 측에 배치되고, 다른 2 개의 세정 처리 유닛 (21c) 은 통로 (27) 의 (－Y) 측에 배치된다. 각 세정 처리 유닛 (21c) 에서는, 3 개의 세정 처리부 (25) 가 상하 방향으로 적층된다. 즉, 세정 처리 셀 (20) 은, 12 개의 세정 처리부 (25) 를 구비한다. 이러한 세정 처리부 (25) 에서는, 예를 들어, SC1 (암모니아과산화수소 혼합액), SC2 (염산과산화수소수 혼합액), BHF (불화수소산과 불화암모늄의 혼합액), HF (불화수소산), SPM (황산과 과산화수소수의 혼합액), 불화수소산과 질산의 혼합액, 초순수를 사용한 세정 처리나 에칭 처리, IPA (이소프로필알코올) 를 사용한 건조 처리 등을 실시할 수 있다.
반전 유닛 (30) 및 재치 유닛 (40) 은, 통로 (27) 의 (－X) 측의 단부에 배치된 재치대 (28) 상에 배치된다. 반전 유닛 (30) 은, 재치대 (28) 의 상측에 배치된다. 재치 유닛 (40) 은, 반전 유닛 (30) 의 상측에 배치된다. 재치 유닛 (40) 은, 상기 서술한 바와 같이, 복수의 재치부 (41) 를 구비하고, 인덱서 셀 (10) 과의 사이의 기판 (9) 의 수수에 사용된다. 또, 반전 유닛 (30) 은, 인덱서 셀 (10) 로부터 받은 미처리 기판 (9) 의 상하를 반전시킨 후 (즉 미처리 기판 (9) 의 표면과 이면을 180 도 반전시킨 후), 당해 미처리 기판 (9) 을 세정 처리 셀 (20) 에 건네준다. 반전 유닛 (30) 은, 세정 처리 셀 (20) 로부터 받은 처리가 완료된 기판 (9) 을 인덱서 셀 (10) 또는 세정 처리 셀 (20) 에 건네준다.
이와 같은 기판 처리 장치 (1a) 의 구성에 있어서, 일례로서, 예를 들어 다음과 같은 기판의 반송과 처리가 실시된다.
먼저, 인덱서 셀 (10) 의 이동 탑재 로봇 (12) 에 의해, 인덱서 셀 (10) 로부터 반전 유닛 (30) 에 미처리 기판이 건네진다. 반전 유닛 (30) 에서는, 받은 기판 (9) 의 표면과 이면이 180 도 반전되고, 기판 (9) 은, 그 이면을 위를 향하게 한 상태가 된다. 그리고 반전 유닛 (30) 으로부터 기판 (9) 을 세정 처리 셀 (20) 의 반송 로봇 (22) 이 받고, 어느 하나의 세정 처리 유닛 (21c) 중의 세정 처리부 (25) 에 반입한다. 세정 처리부 (25) 에서는, 예를 들어 위를 향한 기판 (9) 의 이면에 세정액으로서 SC1 을 공급하여 기판 이면에 부착된 불필요한 유기물을 세정하고, 나아가서는 위를 향한 기판 (9) 의 이면에 불질산액을 공급하여 기판 이면에 부착된 불필요한 금속막을 에칭 처리한다. 세정 처리부 (25) 에서의 처리를 끝낸 기판 (9) 은, 반송 로봇 (22) 에 의해 세정 처리부 (25) 로부터 반출되고, 다시 반전 유닛 (30) 에 반입된다. 반전 유닛 (30) 에서는, 기판 (9) 의 표면과 이면이 180 도 반전되고, 기판 (9) 의 표면측이 위를 향한 상태가 된다. 그 후, 기판 (9) 은, 인덱서 셀 (10) 의 이동 탑재 로봇 (12) 에 의해 반전 유닛 (30) 으로부터 꺼내져, 인덱서 셀 (10) 의 캐리어 (95) 에 수납된다.
이 기판 처리 장치 (1a) 의 경우에 있어서도, 반전 유닛 (30) 에 구비한 기판 반전 장치 (100) 에 있어서, 미처리 기판 (9) 에 접촉하는 상가이드 (71) 의 제 1 상접촉 영역과 하가이드 (72) 의 제 1 하접촉 영역과, 처리가 완료된 기판 (9) 에 접촉하는 상가이드 (71) 의 제 2 상접촉 영역과 하가이드 (72) 의 제 2 하접촉 영역을 구분하여 사용할 수 있고, 미처리 기판 (9) 의 오염이나 파티클 등이, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 통하여, 처리가 완료된 청정한 기판 (9) 에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
기판 반전 장치 (100, 100a) 는, 반드시 기판 처리 장치의 일부일 필요는 없고, 단독으로 이용되어도 된다. 또, 기판 반전 장치 (100, 100a) 로부터 반전 기구 (80) 가 생략된 장치가, 기판 협지 장치로서 이용되어도 된다.
당해 기판 협지 장치는, 예를 들어, 복수의 상가이드 (71) 와, 복수의 하가이드 (72) 와, 전환 기구 (77) 를 구비한다. 복수의 하가이드 (72) 는, 기판 (9) 의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 하경사면을, 수평 상태의 기판 (9) 의 주연부에 접촉시켜 기판 (9) 을 하방으로부터 지지한다. 복수의 상가이드 (71) 는, 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하는 상경사면을, 복수의 하가이드 (72) 와의 접촉 위치보다 상측에서 기판 (9) 의 주연부에 접촉시켜, 복수의 하가이드 (72) 와의 사이에서 기판 (9) 을 협지한다. 전환 기구 (77) 는, 복수의 하가이드 (72) 및 복수의 상가이드 (71) 와 기판 (9) 의 접촉 상태를 변경한다.
각 하가이드 (72) 는, 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 을 구비한다. 제 1 하접촉 영역 (721) 및 제 2 하접촉 영역 (722) 은, 전환 기구 (77) 에 의해 전환되어 선택적으로 하경사면이 된다. 각 상가이드 (71) 는, 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 을 구비한다. 제 1 상접촉 영역 (711) 및 제 2 상접촉 영역 (712) 은, 전환 기구 (77) 에 의해 전환되어 선택적으로 상경사면이 된다.
당해 기판 협지 장치에서는, 기판 (9) 의 상태 (예를 들어, 미처리 또는 처리 완료) 에 맞추어, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 에 있어서의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 전환할 수 있다. 그 결과, 예를 들어, 미처리 기판 (9) 의 오염이나 파티클 등이, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 개재하여, 처리가 완료된 기판 (9) 에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
하나의 구체적인 실시형태로서, 이러한 기판 협지 장치를 재치 유닛 (40) 내에 배치하도록 하여 기판 (9) 의 반송 및 처리를 실시할 수도 있다.
이 경우에 있어서, 먼저 인덱서 셀 (10) 의 이동 탑재 로봇 (12) 이, 인덱서 셀 (10) 로부터 재치 유닛 (40) 내의 기판 협지 장치에 미처리 기판 (9) 을 그 표면을 위를 향하게 한 상태에서 반입한다. 세정 처리 셀 (20) 의 반송 로봇 (22) 은, 재치 유닛 (40) 내의 기판 협지 장치로부터, 기판 (9) 을 그 표면을 위를 향하게 한 채인 상태에서 받아 재치 유닛 (40) 으로부터 기판 (9) 을 반출한다. 그리고, 반송 로봇 (22) 은, 재치 유닛 (40) 으로부터 반출한 기판 (9) 을 어느 하나의 세정 처리 유닛 (21c) 중의 세정 처리부 (25) 에 반입한다. 예를 들어, 세정 처리부 (25) 에서는, 기판 (9) 의 표면측을 위를 향하게 한 상태에서, 기판 (9) 의 베벨부에 불화수소산이나, 불화수소산과 질산의 혼합액을 공급하여, 베벨부에 부착되어 있는 금속 함유막 등을 에칭하는 처리를 실시한다.
세정 처리부 (25) 에서 처리를 끝낸 기판 (9) 은, 반송 로봇 (22) 에 의해 세정 처리부 (25) 로부터 반출되고, 다시 재치 유닛 (40) 내의 기판 협지 장치에 반입된다. 그 후, 인덱서 셀 (10) 의 이동 탑재 로봇 (12) 이, 재치 유닛 (40) 내의 기판 협지 장치로부터 기판 (9) 을, 그 표면측이 위를 향한 상태인 채로 받아, 인덱서 셀 (10) 의 캐리어 (95) 에 수납한다.
이러한 경우에도, 재치 유닛 (40) 에 배치된 당해 기판 협지 장치에 있어서, 미처리 기판 (9) 에 접촉하는 상가이드 (71) 의 제 1 상접촉 영역과 하가이드 (72) 의 제 1 하접촉 영역과, 처리가 완료된 기판 (9) 에 접촉하는 상가이드 (71) 의 제 2 상접촉 영역과 하가이드 (72) 의 제 2 하접촉 영역을 구분하여 사용할 수 있고, 미처리 기판 (9) 의 오염이나 파티클 등이, 상가이드 (71) 및 하가이드 (72) 의 기판 (9) 과의 접촉 영역을 개재하여, 처리가 완료된 청정한 기판 (9) 에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
상기 서술한 기판 협지 장치, 기판 반전 장치 (100, 100a) 및 기판 처리 장치 (1, 1a) 에서는, 반도체 기판 이외에, 액정 표시 장치 또는 유기 EL (Electro Luminescence) 표시 장치 등의 평면 표시 장치 (Flat Panel Display) 에 사용되는 유리 기판, 혹은, 다른 표시 장치에 사용되는 유리 기판이 취급되어도 된다. 또, 상기 서술한 기판 협지 장치, 기판 반전 장치 (100, 100a) 및 기판 처리 장치 (1, 1a) 에서는, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판 및 태양 전지용 기판 등이 취급되어도 된다.
상기 실시형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합되어도 된다.
발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 이미 기술한 설명은 예시적으로 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다.
1, 1a : 기판 처리 장치
9 : 기판
10 : 인덱서 셀
12 : 이동 탑재 로봇
20 : 세정 처리 셀
22 : 반송 로봇
24 : 이면 세정 처리부
71, 71a : 상가이드
72, 72a : 하가이드
74, 74a : 가이드 이동 기구
75, 75a : 상회전축
76, 76a : 하회전축
77, 77a : 전환 기구
80 : 반전 기구
82 : 회전축
100, 100a : 기판 반전 장치
711, 711a : 제 1 상접촉 영역
712, 712a : 제 2 상접촉 영역
721, 721a : 제 1 하접촉 영역
722, 722a : 제 2 하접촉 영역
771, 771a : 상가이드 회전 기구
772, 772a : 하가이드 회전 기구

Claims (9)

  1. 기판 반전 장치로서,
    기판의 폭 방향 내방을 향함에 따라 하방으로 향하는 하경사면을, 수평 상태의 상기 기판의 주연부에 접촉시켜 상기 기판을 하방으로부터 지지하는 복수의 하가이드와,
    상기 폭 방향 내방을 향함에 따라 상방으로 향하는 상경사면을, 상기 복수의 하가이드와의 접촉 위치보다 상측에서 상기 기판의 주연부에 접촉시켜 상기 복수의 하가이드와의 사이에서 상기 기판을 협지하는 복수의 상가이드와,
    상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드를 수평 방향을 향하는 회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드에 의해 협지된 상기 기판을 반전시키는 반전 기구와,
    상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드를, 상기 기판에 접촉하는 접촉 위치와, 상기 접촉 위치보다 상기 기판으로부터 멀어진 퇴피 위치 사이에서 진퇴시키는 가이드 이동 기구와,
    상기 복수의 하가이드 및 상기 복수의 상가이드와 상기 기판의 접촉 상태를 변경하는 전환 기구를 구비하고,
    각 하가이드가, 상기 전환 기구에 의해 전환되어 선택적으로 상기 하경사면이 되는 제 1 하접촉 영역 및 제 2 하접촉 영역을 구비하고,
    각 상가이드가, 상기 전환 기구에 의해 전환되어 선택적으로 상기 상경사면이 되는 제 1 상접촉 영역 및 제 2 상접촉 영역을 구비하고,
    상기 각 상가이드가, 평면에서 볼 때 상기 각 하가이드와 상이한 위치에 배치되고,
    상기 복수의 상가이드 및 상기 복수의 하가이드는, 상기 가이드 이동 기구에 의해 상기 퇴피 위치로 퇴피된 후에, 상기 전환 기구에 의해 상기 기판과의 접촉 상태가 각각 변경되는, 기판 반전 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 각 하가이드에 있어서, 상기 폭 방향으로 연장되는 하회전축의 길이 방향의 동일한 위치에 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역이 배치되고,
    상기 각 상가이드에 있어서, 상기 폭 방향으로 연장되는 상회전축의 길이 방향의 동일한 위치에 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역이 배치되고,
    상기 전환 기구가,
    상기 각 하가이드를 상기 하회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역을 선택적으로 상기 하경사면으로 하는 하가이드 회전 기구와,
    상기 각 상가이드를 상기 상회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역을 선택적으로 상기 상경사면으로 하는 상가이드 회전 기구를 구비하는, 기판 반전 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 하가이드 회전 기구가, 상기 각 하가이드를 상기 하회전축을 중심으로 하여 180 도 회전시킴으로써, 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역을 선택적으로 상기 하경사면으로 하고,
    상기 상가이드 회전 기구가, 상기 각 상가이드를 상기 상회전축을 중심으로 하여 180 도 회전시킴으로써, 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역을 선택적으로 상기 상경사면으로 하는, 기판 반전 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 각 하가이드에 있어서, 상하 방향으로 연장되는 하회전축에 대해 선대칭의 위치에 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역이 배치되고,
    상기 각 상가이드에 있어서, 상기 상하 방향으로 연장되는 상회전축에 대해 선대칭의 위치에 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역이 배치되고,
    상기 전환 기구가,
    상기 각 하가이드를 상기 하회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역을 선택적으로 상기 하경사면으로 하는 하가이드 회전 기구와,
    상기 각 상가이드를 상기 상회전축을 중심으로 하여 회전시킴으로써, 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역을 선택적으로 상기 상경사면으로 하는 상가이드 회전 기구를 구비하는, 기판 반전 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 하가이드 회전 기구가, 상기 각 하가이드를 상기 하회전축을 중심으로 하여 180 도 회전시킴으로써, 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 제 2 하접촉 영역을 선택적으로 상기 하경사면으로 하고,
    상기 상가이드 회전 기구가, 상기 각 상가이드를 상기 상회전축을 중심으로 하여 180 도 회전시킴으로써, 상기 제 1 상접촉 영역 및 상기 제 2 상접촉 영역을 선택적으로 상기 상경사면으로 하는, 기판 반전 장치.
  6. 기판 처리 장치로서,
    제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 기판 반전 장치와,
    상기 기판 반전 장치에 의해 반전된 상기 기판의 이면을 세정하는 이면 세정부와,
    상기 기판 반전 장치와 상기 이면 세정부 사이에서 상기 기판을 반송하는 기판 반송부를 구비하는, 기판 처리 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 이면 세정부 및 상기 기판 반송부가 배치된 세정 처리 블록과,
    다른 기판 반송부가 배치되고, 상기 세정 처리 블록에 미처리 기판을 건네줌과 함께 상기 세정 처리 블록으로부터 처리가 완료된 기판을 받는 인덱서 블록을 추가로 구비하고,
    상기 기판 반전 장치가, 상기 세정 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속부에 배치되고,
    상기 기판 반송부와 상기 다른 기판 반송부 중 일방의 반송부가 상기 기판 반전 장치에 기판을 반입한 경우, 상기 기판 반전 장치에 의해 반전된 상기 기판을 타방의 기판 반송부가 상기 기판 반전 장치로부터 반출하는, 기판 처리 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 전환 기구는, 상기 각 하가이드의 상기 제 1 하접촉 영역 및 상기 각 상가이드의 상기 제 1 상접촉 영역에 의해 상기 기판을 협지하는 제 1 접촉 상태와, 상기 각 하가이드의 상기 제 2 하접촉 영역 및 상기 각 상가이드의 상기 제 2 상접촉 영역에 의해 상기 기판을 협지하는 제 2 접촉 상태를 전환하는, 기판 반전 장치.
  9. 삭제
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