JP4004260B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等(以下、「基板」と称する)に対して洗浄処理などの所定の処理を行う基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のように、半導体や液晶ディスプレイなどの製品は、基板に対して洗浄、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、層間絶縁膜の形成、熱処理、ダイシングなどの一連の諸処理を施すことにより製造されている。
【0003】
これらの処理を行う基板処理装置は、処理前の基板、および、処理後の基板を収納する収納部と、基板に対して上記のような種々の処理を施す処理部とから構成されている。
【0004】
そして、収納部と処理部との間には、基板を搬送する搬送ロボットが配置され、この搬送ロボットが、収納部からの基板の取り出し、処理部への基板の受け渡し、また、処理部からの基板の取り出し、収納部への基板の受け渡しなどの動作を行っている。
【0005】
図18は、基板の収納部であるカセット100の平面断面図であり、あわせて、カセット100に対して搬送ロボットの搬送アーム120がアクセスした状態を示している。
【0006】
カセット100は、図に示すように、保持部材101〜104を備えており、この保持部材101〜104の上面であって内方側の領域である基板保持面111〜114(図中、斜線で示す領域)において、基板Wの縁端部を保持する構造となっている。そして、搬送アーム120は、これら基板の保持構造とは干渉しない形状になっているのである。
【0007】
一方、図19は、基板Wを処理する処理部の基板支持台130を示す図である。この処理部においては、基板支持台130の上面において基板Wを保持する構造であり、基板支持台130の上面が基板保持面131(図中、斜線で示す領域)となる。したがって、カセット100に対してアクセスした搬送アーム120をそのまま利用し、この処理部に対して基板Wを受け渡す動作を行うことはできない。
【0008】
そこで、図に示すように、別の形状の搬送アーム121を利用している。搬送アーム121は、略U字形状に形成されており、処理部の基板保持面131を挟み込むようにして動作させることで、処理部に対する基板Wの取り出し操作や受け渡し動作が可能となるのである。
【0009】
つまり、従来、2つの搬送アーム120,121を利用し、それぞれタイプの異なる基板の保持構造に対応するようにしているのである。そして、2つの搬送アーム120,121を利用して基板Wを搬送するため、搬送アーム120,121間で基板Wの受け渡しを行っていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記構成では、2種類の搬送アームが必要となるため、装置構成を大きくする要因となるとともに、コスト高の原因にもなっていた。また、2つの搬送アーム間で基板Wの受け渡しを行うスペースも必要であり、やはり、基板処理装置のフットプリントを大きくする要因となっていた。
【0011】
そこで、本発明は、基板の保持構造のタイプが異なる複数種類の収納部や処理部が存在する場合であっても、単一の搬送アームで基板の受け渡しを行うことにより、装置構成のコンパクト化と低コスト化を図ることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、請求項1の発明は、基板の第1の部位を保持して収納する収納部から基板を受け取り、前記第1の部位とは異なる基板の第2の部位を保持して処理する処理部に基板を搬送し、前記処理部において基板を処理する基板処理装置において、前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、基板の前記第1と第2の部位とは異なる第3の部位において基板を保持する形状の搬送アームと、前記収納部と前記処理部とのいずれに対しても前記アームをアクセス可能とするアーム駆動機構と、を備え、前記搬送アームによって、前記収納部と前記処理部とのそれぞれにおける基板の保持構造に干渉せずに、前記収納部と前記処理部とに対する基板の出し入れが可能であり、前記処理部は、前記第2の部位として基板の縁端部を保持し、基板を回転させつつ処理する回転処理部を含み、前記回転処理部は、基板の回転停止位置を制御する手段を有することを特徴とする。
【0013】
請求項2の発明は、請求項1に記載の基板処理装置において、前記収納部における基板の保持構造は、基板の縁端部を保持する構造であり、前記処理部における基板の保持構造は、基板の中央部を保持する構造のもの、および、基板の縁端部を保持する構造のもの、を含んでいることを特徴とする。
【0014】
請求項3の発明は、基板の第1の部位を保持して収納する複数の収納部から選択的に基板を受け取って当該基板を複数の処理部に順次に搬送して処理を行うことが可能であり、かつ前記複数の処理部の少なくとも一部が前記第1の部位とは異なる基板部位において基板を保持して基板処理を行う基板処理装置において、前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、基板の前記第1の部位と、前記複数の処理部のそれぞれにおいて保持される基板部位との、いずれとも異なる部位で基板を保持する形状の搬送アームと、前記収納部と前記複数の処理部とのいずれに対しても前記アームをアクセス可能とするアーム駆動機構と、を備え、前記搬送アームによって、前記収納部と前記複数の処理部とのそれぞれにおける基板の保持構造に干渉せずに、前記収納部と前記複数の処理部とに対する基板の出し入れが可能であり、前記複数の処理部は、基板の縁端部を保持し、基板を回転させつつ処理する回転処理部を含み、前記回転処理部は、基板の回転停止位置を制御する手段を有することを特徴とする。
【0015】
請求項4の発明は、請求項3に記載の基板処理装置において、各収納部における基板の保持構造は、基板の縁端部を保持する構造であり、各処理部における基板の保持構造は、基板の中央部を保持する構造のもの、および、基板の縁端部を保持する構造のもの、を含んでいることを特徴とする。
【0016】
請求項5の発明は、基板を収納する収納部から基板を受け取り、受け取った基板を処理部に搬送し、前記処理部において基板を処理する基板処理装置において、前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、基板を保持する搬送アームと、前記搬送アームの平面視形状を変更する変更手段とを備え、前記搬送アームは、一対の長尺アームと一対の短尺アームとを有し、前記一対の長尺アームおよび前記一対の短尺アームの各先端部には、基板の縁端部を保持する保持手段が設けられており、前記変更手段は、前記一対の長尺アームおよび前記一対の短尺アームを左右方向および前後方向にスライド移動させることにより、前記搬送アームの平面視形状を変更することを特徴とする。
【0017】
請求項6の発明は、請求項5に記載の基板処理装置において、前記変更手段は、前記搬送手段が次工程で基板の受け渡し動作を行う収納部もしくは処理部に対応して、前記搬送アームが受け渡し動作時に当該基板の保持構造と干渉しないよう前記搬送アームの平面視形状を変更することを特徴とする。
【0018】
請求項7の発明は、請求項5または請求項6に記載の基板処理装置において、前記搬送アームは、複数のアーム部材と、各アーム部材を支持する支持部材と、を備え、前記変更手段は、各アーム部材を、前記支持部材に対して個別に略水平方向にスライド移動させることにより前記搬送アームの平面視形状を変更することを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の基板処理装置の実施の形態について、基板洗浄装置をその一例として説明する。
【0020】
<1.第1の実施の形態>
図1は、本実施の形態に係る基板洗浄装置1の全体構成を示す平面図である。また、図2は、図1の基板洗浄装置1の側面図である。なお、図1および図2には、それらの方向関係を明確にするため、Z軸方向を鉛直方向とし、XY平面を水平面とするXYZ直交座標系を付している。
【0021】
この基板洗浄装置1は、基板Wに洗浄処理を行ってパーティクルを除去する装置であり、主としてカセットC1〜C4を載置するための載置ステージ10と、基板Wに洗浄処理を行う洗浄ユニットSS1,SS2と、基板Wの表裏面を反転させる反転ユニットRV、搬送ロボットTRとを備えている。搬送ロボットTRは搬送路5に配置されており、この搬送路5を挟んで載置ステージ10と洗浄ユニットSS1,SS2、反転ユニットRVとが対向配置されている。
【0022】
載置ステージ10は、搬送路5に沿って設けられており、それぞれの上面の所定位置にはカセットC1〜C4が載置される。なお、以下の説明および図面において、カセットC1〜C4を総称し、適宜、カセットCとして表現する。
【0023】
図3は、カセットCの正面図(図1中(−X)側)である。カセットCには、多段の収納溝が刻設されており、それぞれの溝には1枚の基板Wを水平姿勢にて(主面を水平面に沿わせて)収容することができる。従って、カセットCには、複数の基板Wを水平姿勢かつ多段に所定の間隔を隔てて積層した状態にて収納することができる。
【0024】
カセットCの正面側には蓋が設けられており、当該蓋は基板Wの出し入れを行えるように着脱可能とされている。カセットCの蓋の着脱は、図示を省略するポッドオープナーによって行われる。カセットCから蓋を取り外すことにより、図2に示すように、開口部8が形成される。カセットCに対する基板Wの搬入搬出はこの開口部8を介して行われる。
【0025】
図4は、図3におけるカセットCの矢視A−A断面図である。カセットCの各段には、基板Wを載置する4つの支持板31〜34がカセットCの外周壁から内包に向かって突設されており、この各支持板31〜34が多段に形成されることによって、多段の収納溝が形成されている。そして、支持板31〜34の上面で、カセットCの内方側の領域である基板保持面D1〜D4(図中、斜線で示す領域)に基板Wを載置することにより、これらの基板保持面が基板Wの端縁の下面に接触して基板Wを保持するのである。
【0026】
また、本実施の形態では、カセットC1,C2に洗浄処理前の未処理基板を収納し、カセットC3,C4に洗浄処理後の処理済基板を収納するものとする。なお、カセットC1〜C4の載置ステージ10への載置および載置ステージ10からの搬出は、通常AGV(Automatic Guided Vehicle)やOHT(over-head hoist transport)等によって自動的に行うようにしている。
【0027】
洗浄ユニットSS1,SS2、反転ユニットRVとは、搬送路5に沿って載置ステージ10とは反対側に並べて設けられている。本実施の形態の洗浄ユニットSS1は、基板Wの表面を上にした状態で、その中央部を支持する。そして、基板Wを回転させつつ表面に純水を供給し、ブラシによって基板Wに付着したパーティクルを除去するスピンスクラバである。また、洗浄ユニットSS2は、基板Wの裏面を上にした状態で、基板Wの縁端部を把持する。そして、基板Wを回転させつつ裏面に純水を供給し、ブラシによって基板Wに付着したパーティクルを除去するスピンスクラバである。
【0028】
図5は、洗浄ユニットSS1における基板Wのバキュームチャック50を側面から見た図であり、図6は、バキュームチャック50を上方から見た平面図である。バキュームチャック50は、平面視略円形状のプレートであり、その基板保持面D5(図中、斜線で示す領域)が略水平となる状態で、支柱51の上端部に取り付けられている。
【0029】
そして、バキュームチャック50は、その基板保持面D5において略円形状の基板Wの中央部に接触して基板Wを支持する。つまり、基板Wは、その回転中心をバキュームチャック50の回転中心に合わせるようにして、バキュームチャック50上に載置されることにより支持されるのである。なお、図示を省略しているが、基板保持面D5には複数の吸引孔が設けられており、この吸引孔に発生している吸引力によって基板Wを確実に保持するようにしている。
【0030】
このような構成によって、図5および図6に示したように、バキュームチャック50上に基板Wを保持し、バキュームチャック50を回転させながら洗浄処理が行われる。
【0031】
図7は、洗浄ユニットSS2における基板Wのメカチャック60を側面から見た図であり、図8は、メカチャック60を上方から見た平面図である。メカチャック60は、平面視略円形状のプレートであり、円形面が略水平となる状態で、支柱61の上端部に取り付けられている。
【0032】
また、メカチャック60の上面には、略円筒形状の6つの支持部材62,62・・・が取り付けられており、各支持部材62の上面には、基板Wの水平方向への移動を規制するピン63が突設されている。つまり、基板Wは、6つの支持部材62,62・・・上に載置されて支持されるとともに、その外側面に接する6つのピン63,63・・・により水平方向への移動が規制されることによって保持されるのである。図中、基板保持面D6〜D11(斜線で示す領域)は、基板Wが載置される領域を示している。
【0033】
図9は、6つの支持部材62のうち、基板保持面D9を有する支持部材62を拡大した図である。ピン63は、略円筒形状の部材であり、その中心は、支持部材62の中心から偏心している。また、略円筒形状の支持部材62は、その中心軸を回転軸としてメカチャック60上で回転自在に支持されており、図示せぬ駆動機構が動作することにより、回転可能としている。そして、支持部材62の回転動作にともなって、ピン63が領域D9側に偏心することによって、基板Wを基板中心側に押圧し、確実に保持できるようにしている。
【0034】
このような構成によって、図7および図8に示したように、支持部材62,62・・・が基板Wの端縁の下面に接触して基板Wを保持し、メカチャック60を回転させながら洗浄処理を行うのである。
【0035】
なお、洗浄ユニットSS1,SS2は、スピンスクラバに限定されるものではなく、基板Wに付着したパーティクルを除去するユニットであれば種々のものを採用することができる。また、図2に示すように、洗浄ユニットSS1,SS2のそれぞれには、基板Wを搬入搬出するための開口9が搬送路5に向けて形成されており、さらに開口9を開閉するためのシャッター等(図示省略)も設けられている。
【0036】
反転ユニットRVは、水平方向の軸を中心に基板Wを180°回転させ、その表面(パターン形成が行われる面)と裏面とを反転させるユニットである。つまり、洗浄ユニットSS1において、表面の洗浄処理が終了した基板Wは、反転ユニットRVにおいて表裏面が反転され、さらに、洗浄ユニットSS2において、裏面の洗浄処理が行われるのである。
【0037】
洗浄ユニットSS1,SS2、反転ユニットRVの下方には、キャビネット部6が配置されている。キャビネット部6の内部には、基板洗浄装置1に電力を供給するための電源や純水のタンクおよび供給配管等が設置されている。
【0038】
搬送ロボットTRは、搬送路5に設けられ、載置ステージ10に載置されたカセットC1〜C4および洗浄ユニットSS1,SS2、反転ユニットRVの間にて基板Wを搬送する手段である。搬送ロボットTRは、水平移動部41、昇降部42、アーム基台43、搬送アーム45および搬送アーム45を駆動するための各種駆動機構を備えており、これらによって洗浄ユニットSS1,SS2に基板Wを搬入するとともに洗浄ユニットSS1,SS2から洗浄処理後の基板Wを搬出することができる。また、基板Wの表裏面を反転させる反転ユニットRVとの間で基板Wの受け渡しを行う。
【0039】
水平移動部41は、搬送ロボットTRの最下部を構成して搬送ロボットTR全体を支持する部分であり、搬送路5の長手方向(Y方向)に沿って水平移動可能とされている。水平移動部41が搬送路5に沿って移動する機構としては、例えばボールネジを用いた送りねじ機構やプーリとベルトを用いた機構等の周知の駆動機構を採用することができる。これにより、図1中矢視AR1にて示すように、搬送アーム45を含む搬送ロボットTRの全体が搬送路5に沿ってY方向に水平移動を行うことができる。
【0040】
水平移動部41の上部には昇降部42が設置されている。昇降部42は、例えば特開2000−135475号公報に示されているようないわゆるテレスコピック型の昇降機構を具備している。このテレスコピック型の昇降機構は多段の入れ子構造をなす複数の昇降部材を順次に収納したり引き出したりすることにより鉛直方向に沿って昇降を行う機構である。これにより、図2中矢視AR2にて示すように、アーム基台43および搬送アーム45が同時に鉛直方向(Z方向)に沿って昇降移動を行う。
【0041】
水平移動部41および昇降部42によって、搬送アーム45は搬送路5内をY軸方向に自在に移動することができ、各カセットCおよび洗浄ユニットSS1,SS2、反転ユニットRVのそれぞれの正面に位置することができる。
【0042】
アーム基台43は、鉛直方向に沿った回転軸Q周りで昇降部42に対して回転することができる。この回転動作は、アーム基台43に内蔵したステッピングモータ等によって行われる。これにより、図1中矢視AR3にて示すように、搬送アーム45は回転軸Qを中心として水平面内(XY平面内)にて回転自在となり、カセットC1〜C4および洗浄ユニットSS1,SS2、反転ユニットRVのそれぞれに対向することができる。
【0043】
アーム基台43の上部には、基板Wを保持する搬送アーム45が設けられている。搬送ロボットTRは、上述した駆動機構以外に、搬送アーム45を水平面内にて進退移動させるための屈伸機構を備えており、搬送アーム45は、基板Wを保持して水平面内(XY平面内)にて進退移動を行うことができる。これにより、搬送アーム45は、図1に示すように、矢視AR4方向に進退してカセットCに対してアクセス可能とするとともに、矢視AR5方向に進退して処理部に対してアクセス可能としている。
【0044】
次に、上記の基板洗浄装置1における処理手順について説明する。基板洗浄装置1の処理内容の概略は、カセットC1(もしくはC2)から取り出した未処理の基板Wの表面および裏面を洗浄し、洗浄後の基板WをカセットC3(もしくはC4)に収容するというものである。このときの基板搬送は全て搬送ロボットTRによって行われる。
【0045】
基板洗浄装置1における基板搬送手順の一例を示す。まず、搬送ロボットTRがカセットC1(もしくはC2)の位置まで移動すると、搬送アーム45によってカセットC1(もしくはC2)から未処理の基板Wが取り出される。
【0046】
次に、搬送ロボットTRが、基板Wを保持したまま洗浄ユニットSS1の位置まで移動し、搬送アーム45の伸縮動作などがおこなわれ、基板Wが洗浄ユニットSS1に受け渡される。
【0047】
洗浄ユニットSS1において洗浄処理が終了すると、搬送アーム45の伸縮動作などが行われ、表面洗浄処理済の基板Wが取り出される。
【0048】
次に、搬送ロボットTRが、基板Wを保持したまま反転ユニットRVの位置まで移動し、基板Wが反転ユニットRVに受け渡される。そして、反転ユニットRVにおいて基板Wの表裏面が逆転されると、再び、搬送アーム45によって表面処理済の基板Wが取り出される。
【0049】
続いて、搬送ロボットTRが、基板Wを保持したまま処理ユニットSS2の位置まで移動すると、洗浄ユニットSS2に基板Wが受け渡される。そして、洗浄ユニットSS2において基板Wの裏面の洗浄処理が行われ、洗浄処理が終了すると、搬送アーム45によって、裏面洗浄処理済の基板Wが取り出され、裏面洗浄処理済の基板Wが、洗浄ユニットSS2からカセットC3(もしくはC4)に搬送され、カセットC3(もしくはC4)内に収納される。
【0050】
以上のような処理が行われる際の、カセットCおよび洗浄ユニットSS1,SS2における基板の保持構造と、搬送アーム45の形状との関係について説明する。
【0051】
図10は、搬送アーム45が、カセットCから基板Wを取り出すときの状態、もしくは、搬送アーム45が、カセットCに対して基板Wを受け渡すときの状態を示す図である。
【0052】
このとき、搬送アーム45の左のアームは、平面視において基板保持面D1と基板保持面D2との間に位置しており、右のアームは、平面視において基板保持面D3と基板保持面D4との間に位置している。したがって、基板Wを取り出す動作、および、基板Wを受け渡す動作において、搬送アーム45が基板の保持構造と干渉することはない。
【0053】
図11は、搬送アーム45が、洗浄ユニットSS1において、バキュームチャック50から基板Wを取り出すときの状態、もしくは、搬送アーム45が、バキュームチャック50に対して基板Wを受け渡すときの状態を示す図である。
【0054】
このとき、平面視において、バキュームチャック50、つまり、基板保持面D5は、搬送アーム45の左右のアームの間に位置するので、基板Wを取り出す動作、および、基板Wを受け渡す動作において、搬送アーム45が基板の保持構造と干渉することはない。
【0055】
図12は、搬送アーム45が、洗浄ユニットSS2において、支持部材62,62・・・等に保持された基板Wを取り出すときの状態、もしくは、搬送アーム45が、支持部材62,62・・・に対して基板Wを受け渡すときの状態を示す図である。
【0056】
このとき、搬送アーム45の左のアームは、平面視において基板保持面D6,D7と基板保持面D8,D11との間に位置しており、右のアームは、平面視において基板保持面D8,D11と基板保持面D9,D10との間に位置している。したがって、基板Wを取り出す動作、および、基板Wを受け渡す動作において、搬送アーム45が基板の保持構造と干渉することはない。なお、処理ユニットSS2は、回転停止位置を制御する手段を備えており、基板Wの受け渡し時においては、常に、図12に示すような状態で回転停止している。したがって、基板の受け渡し時における保持部材62,62・・・の位置は、一定の位置に固定されるので、搬送アーム45は、常に、基板の保持構造と干渉することなく、基板の受け渡し動作を行うことが可能である。
【0057】
本実施の形態においては、基板Wが、カセットC1(もしくはC2)から取り出され、洗浄ユニットSS1,SS2において洗浄処理が行われ、再び、カセットC3(もしくはC4)に収納されるまでの間に、複数の異なる保持構造をもった処理部や収納部に保持される。そこで、搬送アーム45の平面視形状は、これらの保持構造とは、いずれも干渉しない形状としているのである。
【0058】
つまり、平面視において、搬送アーム45のアーム形状は、いずれの基板保持面Dとも干渉しないよう形成されているので、単一の搬送アーム45を使用して基板Wの搬送動作を全て実行することが可能である。これによって、基板洗浄装置1のコンパクト化を図ることが可能であり、また、低コスト化を実現することもできる。また、複数の搬送アームを使用し、複数の搬送アーム間で基板の受け渡しを行う場合にくらべて処理工程が簡素化されるため、生産性の向上を図ることも可能である。
【0059】
<2.第2の実施の形態>
第1の実施の形態では、カセットC、洗浄ユニットSS1,SS2における全ての基板保持構造に干渉しない形状をもった搬送アーム45を採用することで、単一の搬送アームによる基板Wの搬送を可能としている。これは、平面視において基板保持面D1〜D11の全てに干渉しない形状の搬送アームが製作可能であることを前提としている。
【0060】
第2の実施の形態では、基板保持面D1〜D11の全てに干渉しない形状が存在しない場合、もしくは、全てに干渉しない形状が存在しても、事実上、そのような形状の搬送アームを製作することが困難である場合にも、有効な実施の形態である。
【0061】
図13は、第2の実施の形態の搬送アーム70を示す図である。搬送アーム70は、左右の長いアーム71,71と、左右の短いアーム72,72と、これらアーム71,72を支持している支持ボックス73等とから構成されている。
【0062】
アーム71,72は、ともに、平面視略L字形状であり、その基端部が支持ボックス73内で支持されている。そして、支持ボックス73内には、アーム71,72を、左右方向(図14に示す矢視W方向)、および、前後方向(図14に示す矢視L方向)にスライド移動可能とする駆動手段(図示せず)が収納されている。つまり、搬送アーム70は、左右のアーム71,71間の間隔、左右のアーム72,72間の間隔を、自由に変更可能であり、また、矢視L方向にアーム71,72を自由に出し入れ可能としているのである。
【0063】
また、アーム71,72の先端部には、それぞれ保持手段71a,72aが設けられており、当該保持手段71a,72aにおいて基板Wの縁端部を保持するようにしている。保持手段71a,72aは、基板Wの位置決め、位置ずれ等を防止するための構造を有している。
【0064】
図15、図16、図17は、それぞれ、カセットC、洗浄ユニットSS1,SS2の平面図(一部断面図)であり、搬送アーム70によって基板Wの受け渡しを行う状態を示している。なお、カセットC、洗浄ユニットSS1,SS2の基本的な構成は、第1の実施の形態と同様であるものとし、各構成部材には同様の符番を付けて説明する。
【0065】
カセットC、洗浄ユニットSS1,SS2において、基板Wは、第1の実施の形態と同様、基板保持面D1〜D11で保持されるものである。ただし、第2の実施の形態では、第1の実施の形態に比べて、洗浄ユニットSS1におけるバキュームチャック50の平面面積が大きいものとする。したがって、洗浄ユニットSS1における基板保持面D5の面積が大きくなるため、基板保持面D1〜D11の全てに干渉しないスペースは非常に狭くなっている。
【0066】
そこで、図16に示すように、洗浄ユニットSS1にアクセスするときは、搬送アーム70のアーム71,71間の間隔を広くすることで、容易に、基板保持面D5との干渉を防ぐことが可能である。逆に、図17に示すように、洗浄ユニットSS2に対してアクセスするときは、搬送アーム70のアーム71,71間の間隔を狭くすることで、基板保持面D6〜D9との干渉を防ぐことが可能となるのである。なお、アーム71,71間の間隔を変更する際には、基板Wを保持するバランスをとるため、あわせて、アーム72,72間の間隔も変更するようにしている。
【0067】
また、アーム71,72が左右方向Wにスライドすることによって、アーム71,72が基板Wを保持している保持手段71a,72aが基板Wの縁端部からずれることになるが、これに対しては、アーム71,72を前後方向Lにスライドさせることによって、保持手段71a,72aにおいて確実に基板Wの縁端部を保持できるようにしている。
【0068】
このように、第2の実施の形態における搬送アーム70を利用することによっても、単一の搬送アームを用いて収納部および処理部に対して基板の搬送動作を行うことが可能である。さらに、第2の実施の形態においては、搬送アームのアームを可動構造とすることで、複数の異なる基板の保持構造に対しても動的に対応し、基板の保持構造との干渉を回避することが可能である。
【0069】
つまり、搬送アーム70のアーム71,72をスライド移動させる駆動手段は、収納部もしくは処理部に対してアクセスする前に、そのアクセスする収納部もしくは処理部の基板保持構造に対応して予めアーム71,72をスライド移動させるのである。
【0070】
以上説明した第1および第2の実施の形態においては、基板処理装置として洗浄処理を行う装置を例に説明したが、本実施の形態の搬送アームは、基板に対してレジスト塗布、現像、エッチング、層間絶縁膜の形成、熱処理などの諸処理を施す装置に対しても適用可能である。
【0071】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1記載の発明では、基板を第1の部位において保持する収納部と、基板を第2の部位において保持する処理部との間で基板の受け渡しを行う搬送アームは、第1および第2の部位とは異なる第3の部位において基板を保持するので、単一の搬送アームを利用して収納部および処理部の双方に対して基板の受け渡し動作を行うことができる。これにより、装置のコンパクト化、低コスト化を図ることができる。
【0072】
請求項2記載の発明では、基板を縁端部で保持する収納部と、基板を中央部で保持する保持構造と基板を端縁部で保持する保持構造とを含む処理部からなる基板洗浄装置においても、単一の搬送アームを利用して収納部および処理部の双方に対して基板の受け渡し動作を行うことができるので、実用性が高い。
【0073】
請求項3記載の発明では、収納部および処理部が複数の場合であっても、搬送アームは、全ての収納部および処理部における基板を保持する部位とは異なる部位において基板を保持するので、単一の搬送アームを利用して収納部および処理部の双方に対して基板の受け渡し動作を行うことができる。
【0074】
請求項4記載の発明では、基板を縁端部で保持する収納部と、基板を中央部で保持する処理部、および、縁端部で保持する処理部からなる基板処理装置においても適用可能であり、実用性が高い。
【0075】
請求項5の発明は、基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、搬送アームの平面視形状を変更する手段を備えるので、異なる保持構造をもった複数の収納部や処理部に対しても、各保持構造と干渉することのないよう、搬送アームの形状を変形させることが可能である。
【0076】
請求項6の発明は、変更手段は、搬送手段が次工程で基板の受け渡し動作を行う収納部もしくは処理部に対応して、前記搬送アームが受け渡し動作時に当該基板の保持構造と干渉しないよう前記搬送アームの平面視形状を変更するので、単一の搬送アームを用いて処理工程を進行させることが可能である。
【0077】
請求項7の発明は、変更手段は、各アーム部材を、支持部材に対して個別に略水平方向にスライド移動させるので、各保持構造と干渉することのないよう記搬送アームの平面視形状を変更することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】基板洗浄装置の全体平面図である。
【図2】基板洗浄装置の全体側面図である。
【図3】カセットの正面図である。
【図4】図3におけるカセットの矢視A−A断面図である。
【図5】洗浄ユニットSS1におけるバキュームチャックの側面図である。
【図6】洗浄ユニットSS1におけるバキュームチャックの平面図である。
【図7】洗浄ユニットSS2におけるメカチャックの側面図である。
【図8】洗浄ユニットSS2におけるメカチャックの平面図である。
【図9】基板保持面を示す拡大図である。
【図10】搬送アームによりカセットにアクセスした状態を示す図である。
【図11】搬送アームにより洗浄ユニットSS1にアクセスした状態を示す図である。
【図12】搬送アームにより洗浄ユニットSS2にアクセスした状態を示す図である。
【図13】第2の実施形態における搬送アームを示す図である。
【図14】搬送アームの可動状態を示す図である。
【図15】第2の実施形態の搬送アームによりカセットにアクセスした状態を示す図である。
【図16】第2の実施形態の搬送アームにより処理ユニットSS1にアクセスした状態を示す図である。
【図17】第2の実施形態の搬送アームにより処理ユニットSS2にアクセスした状態を示す図である。
【図18】従来の搬送アームにより収納部にアクセスした状態を示す図である。
【図19】従来の搬送アームにより処理部にアクセスした状態を示す図である。
【符号の説明】
1 基板洗浄装置
45 搬送アーム
C(C1〜C4) カセット
D(D1〜D11) 基板保持面
SS1,SS2 洗浄ユニット
W 基板
Claims (7)
- 基板の第1の部位を保持して収納する収納部から基板を受け取り、前記第1の部位とは異なる基板の第2の部位を保持して処理する処理部に基板を搬送し、前記処理部において基板を処理する基板処理装置において、
前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、
基板の前記第1と第2の部位とは異なる第3の部位において基板を保持する形状の搬送アームと、
前記収納部と前記処理部とのいずれに対しても前記アームをアクセス可能とするアーム駆動機構と、
を備え、
前記搬送アームによって、前記収納部と前記処理部とのそれぞれにおける基板の保持構造に干渉せずに、前記収納部と前記処理部とに対する基板の出し入れが可能であり、
前記処理部は、前記第2の部位として基板の縁端部を保持し、基板を回転させつつ処理する回転処理部を含み、
前記回転処理部は、基板の回転停止位置を制御する手段を有することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記収納部における基板の保持構造は、基板の縁端部を保持する構造であり、
前記処理部における基板の保持構造は、基板の中央部を保持する構造のもの、および、基板の縁端部を保持する構造のもの、を含んでいることを特徴とする基板処理装置。 - 基板の第1の部位を保持して収納する複数の収納部から選択的に基板を受け取って当該基板を複数の処理部に順次に搬送して処理を行うことが可能であり、かつ前記複数の処理部の少なくとも一部が前記第1の部位とは異なる基板部位において基板を保持して基板処理を行う基板処理装置において、
前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、
基板の前記第1の部位と、前記複数の処理部のそれぞれにおいて保持される基板部位との、いずれとも異なる部位で基板を保持する形状の搬送アームと、
前記収納部と前記複数の処理部とのいずれに対しても前記アームをアクセス可能とするアーム駆動機構と、
を備え、
前記搬送アームによって、前記収納部と前記複数の処理部とのそれぞれにおける基板の保持構造に干渉せずに、前記収納部と前記複数の処理部とに対する基板の出し入れが可能であり、
前記複数の処理部は、基板の縁端部を保持し、基板を回転させつつ処理する回転処理部を含み、
前記回転処理部は、基板の回転停止位置を制御する手段を有することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
各収納部における基板の保持構造は、基板の縁端部を保持する構造であり、
各処理部における基板の保持構造は、基板の中央部を保持する構造のもの、および、基板の縁端部を保持する構造のもの、を含んでいることを特徴とする基板処理装置。 - 基板を収納する収納部から基板を受け取り、受け取った基板を処理部に搬送し、前記処理部において基板を処理する基板処理装置において、
前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、
基板を保持する搬送アームと、
前記搬送アームの平面視形状を変更する変更手段と、
を備え、
前記搬送アームは、一対の長尺アームと一対の短尺アームとを有し、
前記一対の長尺アームおよび前記一対の短尺アームの各先端部には、基板の縁端部を保持する保持手段が設けられており、
前記変更手段は、前記一対の長尺アームおよび前記一対の短尺アームを左右方向および前後方向にスライド移動させることにより、前記搬送アームの平面視形状を変更することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置において、
前記変更手段は、前記搬送手段が次工程で基板の受け渡し動作を行う収納部もしくは処理部に対応して、前記搬送アームが受け渡し動作時に当該基板の保持構造と干渉しないよう前記搬送アームの平面視形状を変更することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5または請求項6に記載の基板処理装置において、
前記搬送アームは、
複数のアーム部材と、
各アーム部材を支持する支持部材と、
を備え、
前記変更手段は、各アーム部材を、前記支持部材に対して個別に略水平方向にスライド移動させることにより前記搬送アームの平面視形状を変更することを特徴とする基板処理装置。
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