JP2003100841A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の保持構造のタイプが異なる複数種類の
収納部や処理部が存在する場合であっても、単一の搬送
アームで基板の受け渡しを行うことにより、装置構成の
コンパクト化と低コスト化を図ることを目的とする。 【解決手段】 基板洗浄装置１は、未処理の基板Ｗおよ
び処理済みの基板Ｗを収納するカセットＣ１〜Ｃ４、基
板Ｗの表面を洗浄する洗浄ユニットＳＳ１、基板Ｗの裏
面を洗浄する洗浄ユニットＳＳ２を備える。搬送ロボッ
トＴＲの備える搬送アーム４５は、基板ＷをカセットＣ
との間で受け渡しを行うとともに、洗浄ユニットＳＳ
１，ＳＳ２との間で基板Ｗの受け渡しを行う。搬送アー
ム４５の平面視形状は、カセットＣ、洗浄ユニットＳＳ
１，ＳＳ２における基板保持面とは干渉しない形状にな
っている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光
ディスク用基板等（以下、「基板」と称する）に対して
洗浄処理などの所定の処理を行う基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、半導体や液晶ディスプレ
イなどの製品は、基板に対して洗浄、レジスト塗布、露
光、現像、エッチング、層間絶縁膜の形成、熱処理、ダ
イシングなどの一連の諸処理を施すことにより製造され
ている。

【０００３】これらの処理を行う基板処理装置は、処理
前の基板、および、処理後の基板を収納する収納部と、
基板に対して上記のような種々の処理を施す処理部とか
ら構成されている。

【０００４】そして、収納部と処理部との間には、基板
を搬送する搬送ロボットが配置され、この搬送ロボット
が、収納部からの基板の取り出し、処理部への基板の受
け渡し、また、処理部からの基板の取り出し、収納部へ
の基板の受け渡しなどの動作を行っている。

【０００５】図１８は、基板の収納部であるカセット１
００の平面断面図であり、あわせて、カセット１００に
対して搬送ロボットの搬送アーム１２０がアクセスした
状態を示している。

【０００６】カセット１００は、図に示すように、保持
部材１０１〜１０４を備えており、この保持部材１０１
〜１０４の上面であって内方側の領域である基板保持面
１１１〜１１４（図中、斜線で示す領域）において、基
板Ｗの縁端部を保持する構造となっている。そして、搬
送アーム１２０は、これら基板の保持構造とは干渉しな
い形状になっているのである。

【０００７】一方、図１９は、基板Ｗを処理する処理部
の基板支持台１３０を示す図である。この処理部におい
ては、基板支持台１３０の上面において基板Ｗを保持す
る構造であり、基板支持台１３０の上面が基板保持面１
３１（図中、斜線で示す領域）となる。したがって、カ
セット１００に対してアクセスした搬送アーム１２０を
そのまま利用し、この処理部に対して基板Ｗを受け渡す
動作を行うことはできない。

【０００８】そこで、図に示すように、別の形状の搬送
アーム１２１を利用している。搬送アーム１２１は、略
Ｕ字形状に形成されており、処理部の基板保持面１３１
を挟み込むようにして動作させることで、処理部に対す
る基板Ｗの取り出し操作や受け渡し動作が可能となるの
である。

【０００９】つまり、従来、２つの搬送アーム１２０，
１２１を利用し、それぞれタイプの異なる基板の保持構
造に対応するようにしているのである。そして、２つの
搬送アーム１２０，１２１を利用して基板Ｗを搬送する
ため、搬送アーム１２０，１２１間で基板Ｗの受け渡し
を行っていた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記構成で
は、２種類の搬送アームが必要となるため、装置構成を
大きくする要因となるとともに、コスト高の原因にもな
っていた。また、２つの搬送アーム間で基板Ｗの受け渡
しを行うスペースも必要であり、やはり、基板処理装置
のフットプリントを大きくする要因となっていた。

【００１１】そこで、本発明は、基板の保持構造のタイ
プが異なる複数種類の収納部や処理部が存在する場合で
あっても、単一の搬送アームで基板の受け渡しを行うこ
とにより、装置構成のコンパクト化と低コスト化を図る
ことを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１の発明は、基板の第１の部位を保持して収
納する収納部から基板を受け取り、前記第１の部位とは
異なる基板の第２の部位を保持して処理する処理部に基
板を搬送し、前記処理部において基板を処理する基板処
理装置において、前記基板処理装置に設けられた基板の
搬送手段が、基板の前記第１と第２の部位とは異なる第
３の部位において基板を保持する形状の搬送アームと、
前記収納部と前記処理部とのいずれに対しても前記アー
ムをアクセス可能とするアーム駆動機構と、を備え、前
記搬送アームによって、前記収納部と前記処理部とのそ
れぞれにおける基板の保持構造に干渉せずに、前記収納
部と前記処理部とに対する基板の出し入れが可能である
ことを特徴とする。

【００１３】請求項２の発明は、請求項１に記載の基板
処理装置において、前記収納部における基板の保持構造
は、基板の縁端部を保持する構造であり、前記処理部に
おける基板の保持構造は、基板の中央部を保持する構造
であることを特徴とする。

【００１４】請求項３の発明は、基板の第１の部位を保
持して収納する複数の収納部から選択的に基板を受け取
って当該基板を複数の処理部に順次に搬送して処理を行
うことが可能であり、かつ前記複数の処理部の少なくと
も一部が前記第１の部位とは異なる基板部位において基
板を保持して基板処理を行う基板処理装置において、前
記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、基板の
前記第１の部位と、前記複数の処理部のそれぞれにおい
て保持される基板部位との、いずれとも異なる部位で基
板を保持する形状の搬送アームと、前記収納部と前記複
数の処理部とのいずれに対しても前記アームをアクセス
可能とするアーム駆動機構と、を備え、前記搬送アーム
によって、前記収納部と前記複数の処理部とのそれぞれ
における基板の保持構造に干渉せずに、前記収納部と前
記複数の処理部とに対する基板の出し入れが可能である
ことを特徴とする。

【００１５】請求項４の発明は、請求項３に記載の基板
処理装置において、各収納部における基板の保持構造
は、基板の縁端部を保持する構造であり、各処理部にお
ける基板の保持構造は、基板の中央部を保持する構造の
もの、および、基板の縁端部を保持する構造のもの、を
含んでいることを特徴とする。

【００１６】請求項５の発明は、基板を収納する収納部
から基板を受け取り、受け取った基板を処理部に搬送
し、前記処理部において基板を処理する基板処理装置に
おいて、前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段
が、基板を保持する搬送アームと、前記搬送アームの平
面視形状を変更する変更手段とを備えることを特徴とす
る。

【００１７】請求項６の発明は、請求項５に記載の基板
処理装置において、前記変更手段は、前記搬送手段が次
工程で基板の受け渡し動作を行う収納部もしくは処理部
に対応して、前記搬送アームが受け渡し動作時に当該基
板の保持構造と干渉しないよう前記搬送アームの平面視
形状を変更することを特徴とする。

【００１８】請求項７の発明は、請求項５または請求項
６に記載の基板処理装置において、前記搬送アームは、
複数のアーム部材と、各アーム部材を支持する支持部材
と、を備え、前記変更手段は、各アーム部材を、前記支
持部材に対して個別に略水平方向にスライド移動させる
ことにより前記搬送アームの平面視形状を変更すること
を特徴とする。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
基板処理装置の実施の形態について、基板洗浄装置をそ
の一例として説明する。

【００２０】＜１．第１の実施の形態＞図１は、本実施
の形態に係る基板洗浄装置１の全体構成を示す平面図で
ある。また、図２は、図１の基板洗浄装置１の側面図で
ある。なお、図１および図２には、それらの方向関係を
明確にするため、Ｚ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を
水平面とするＸＹＺ直交座標系を付している。

【００２１】この基板洗浄装置１は、基板Ｗに洗浄処理
を行ってパーティクルを除去する装置であり、主として
カセットＣ１〜Ｃ４を載置するための載置ステージ１０
と、基板Ｗに洗浄処理を行う洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ
２と、基板Ｗの表裏面を反転させる反転ユニットＲＶ、
搬送ロボットＴＲとを備えている。搬送ロボットＴＲは
搬送路５に配置されており、この搬送路５を挟んで載置
ステージ１０と洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２、反転ユニ
ットＲＶとが対向配置されている。

【００２２】載置ステージ１０は、搬送路５に沿って設
けられており、それぞれの上面の所定位置にはカセット
Ｃ１〜Ｃ４が載置される。なお、以下の説明および図面
において、カセットＣ１〜Ｃ４を総称し、適宜、カセッ
トＣとして表現する。

【００２３】図３は、カセットＣの正面図（図１中（−
Ｘ）側）である。カセットＣには、多段の収納溝が刻設
されており、それぞれの溝には１枚の基板Ｗを水平姿勢
にて（主面を水平面に沿わせて）収容することができ
る。従って、カセットＣには、複数の基板Ｗを水平姿勢
かつ多段に所定の間隔を隔てて積層した状態にて収納す
ることができる。

【００２４】カセットＣの正面側には蓋が設けられてお
り、当該蓋は基板Ｗの出し入れを行えるように着脱可能
とされている。カセットＣの蓋の着脱は、図示を省略す
るポッドオープナーによって行われる。カセットＣから
蓋を取り外すことにより、図２に示すように、開口部８
が形成される。カセットＣに対する基板Ｗの搬入搬出は
この開口部８を介して行われる。

【００２５】図４は、図３におけるカセットＣの矢視Ａ
−Ａ断面図である。カセットＣの格段には、基板Ｗを載
置する４つの支持板３１〜３４がカセットＣの外周壁か
ら内包に向かって突設されており、この各支持板３１〜
３４が多段に形成されることによって、多段の収納溝が
形成されている。そして、支持板３１〜３４の上面で、
カセットＣの内方側の領域である基板保持面Ｄ１〜Ｄ４
（図中、斜線で示す領域）に基板Ｗを載置することによ
り、これらの基板保持面が基板Wの端縁の下面に接触し
て基板Ｗを保持するのである。

【００２６】また、本実施の形態では、カセットＣ１，
Ｃ２に洗浄処理前の未処理基板を収納し、カセットＣ
３，Ｃ４に洗浄処理後の処理済基板を収納するものとす
る。なお、カセットＣ１〜Ｃ４の載置ステージ１０への
載置および載置ステージ１０からの搬出は、通常ＡＧＶ
(Automatic Guided Vehicle)やＯＨＴ(over-head hoist
transport)等によって自動的に行うようにしている。

【００２７】洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２、反転ユニッ
トＲＶとは、搬送路５に沿って載置ステージ１０とは反
対側に並べて設けられている。本実施の形態の洗浄ユニ
ットＳＳ１は、基板Ｗの表面を上にした状態で、その中
央部を支持する。そして、基板Ｗを回転させつつ表面に
純粋を供給し、ブラシによって基板Ｗに付着したパーテ
ィクルを除去するスピンスクラバである。また、洗浄ユ
ニットＳＳ２は、基板Ｗの裏面を上にした状態で、基板
Ｗの縁端部を把持する。そして、基板Ｗを回転させつつ
裏面に純水を供給し、ブラシによって基板Ｗに付着した
パーティクルを除去するスピンスクラバである。

【００２８】図５は、洗浄ユニットＳＳ１における基板
Ｗのバキュームチャック５０を側面から見た図であり、
図６は、バキュームチャック５０を上方から見た平面図
である。バキュームチャック５０は、平面視略円形状の
プレートであり、その基板保持面Ｄ５（図中、斜線で示
す領域）が略水平となる状態で、支柱５１の上端部に取
り付けられている。

【００２９】そして、バキュームチャック５０は、その
基板保持面Ｄ５において略円形状の基板Ｗの中央部に接
触して基板Wを支持する。つまり、基板Ｗは、その回転
中心をバキュームチャック５０の回転中心に合わせるよ
うにして、バキュームチャック５０上に載置されること
により支持されるのである。なお、図示を省略している
が、基板保持面Ｄ５には複数の吸引孔が設けられてお
り、この吸引孔に発生している吸引力によって基板Ｗを
確実に保持するようにしている。

【００３０】このような構成によって、図５および図６
に示したように、バキュームチャック５０上に基板Ｗを
保持し、バキュームチャック５０を回転させながら洗浄
処理が行われる。

【００３１】図７は、洗浄ユニットＳＳ２における基板
Ｗのメカチャック６０を側面から見た図であり、図８
は、メカチャック６０を上方から見た平面図である。メ
カチャック６０は、平面視略円形状のプレートであり、
円形面が略水平となる状態で、支柱６１の上端部に取り
付けられている。

【００３２】また、メカチャック６０の上面には、略円
筒形状の６つの支持部材６２，６２・・・が取り付けら
れており、各支持部材６２の上面には、基板Ｗの水平方
向への移動を規制するピン６３が突設されている。つま
り、基板Ｗは、６つの支持部材６２，６２・・・上に載
置されて支持されるとともに、その外側面に接する６つ
のピン６３，６３・・・により水平方向への移動が規制
されることによって保持されるのである。図中、基板保
持面Ｄ６〜Ｄ１１（斜線で示す領域）は、基板Ｗが載置
される領域を示している。

【００３３】図９は、６つの支持部材６２のうち、基板
保持面Ｄ９を有する支持部材６２を拡大した図である。
ピン６３は、略円筒形状の部材であり、その中心は、支
持部材６２の中心から偏心している。また、略円筒形状
の支持部材６２は、その中心軸を回転軸としてメカチャ
ック６０上で回転自在に支持されており、図示せぬ駆動
機構が動作することにより、回転可能としている。そし
て、支持部材６２の回転動作にともなって、ピン６３が
領域Ｄ９側に偏心することによって、基板Ｗを基板中心
側に押圧し、確実に保持できるようにしている。

【００３４】このような構成によって、図７および図８
に示したように、支持部材６２，６２・・・が基板Wの
端縁の下面に接触して基板Ｗを保持し、メカチャック６
０を回転させながら洗浄処理を行うのである。

【００３５】なお、洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２は、ス
ピンスクラバに限定されるものではなく、基板Ｗに付着
したパーティクルを除去するユニットであれば種々のも
のを採用することができる。また、図２に示すように、
洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２のそれぞれには、基板Ｗを
搬入搬出するための開口９が搬送路５に向けて形成され
ており、さらに開口９を開閉するためのシャッター等
（図示省略）も設けられている。

【００３６】反転ユニットＲＶは、水平方向の軸を中心
に基板Ｗを１８０°回転させ、その表面（パターン形成
が行われる面）と裏面とを反転させるユニットである。
つまり、洗浄ユニットＳＳ１において、表面の洗浄処理
が終了した基板Ｗは、反転ユニットＲＶにおいて表裏面
が反転され、さらに、洗浄ユニットＳＳ２において、裏
面の洗浄処理が行われるのである。

【００３７】洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２、反転ユニッ
トＲＶの下方には、キャビネット部６が配置されてい
る。キャビネット部６の内部には、基板洗浄装置１に電
力を供給するための電源や純水のタンクおよび供給配管
等が設置されている。

【００３８】搬送ロボットＴＲは、搬送路５に設けら
れ、載置ステージ１０に載置されたカセットＣ１〜Ｃ４
および洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２、反転ユニットＲＶ
の間にて基板Ｗを搬送する手段である。搬送ロボットＴ
Ｒは、水平移動部４１、昇降部４２、アーム基台４３、
搬送アーム４５および搬送アーム４５を駆動するための
各種駆動機構を備えており、これらによって洗浄ユニッ
トＳＳ１，ＳＳ２に基板Ｗを搬入するとともに洗浄ユニ
ットＳＳ１，ＳＳ２から洗浄処理後の基板Ｗを搬出する
ことができる。また、基板Ｗの表裏面を反転させる反転
ユニットＲＶとの間で基板Ｗの受け渡しを行う。

【００３９】水平移動部４１は、搬送ロボットＴＲの最
下部を構成して搬送ロボットＴＲ全体を支持する部分で
あり、搬送路５の長手方向（Ｙ方向）に沿って水平移動
可能とされている。水平移動部４１が搬送路５に沿って
移動する機構としては、例えばボールネジを用いた送り
ねじ機構やプーリとベルトを用いた機構等の周知の駆動
機構を採用することができる。これにより、図１中矢視
ＡＲ１にて示すように、搬送アーム４５を含む搬送ロボ
ットＴＲの全体が搬送路５に沿ってＹ方向に水平移動を
行うことができる。

【００４０】水平移動部４１の上部には昇降部４２が設
置されている。昇降部４２は、例えば特開２０００−１
３５４７５号公報に示されているようないわゆるテレス
コピック型の昇降機構を具備している。このテレスコピ
ック型の昇降機構は多段の入れ子構造をなす複数の昇降
部材を順次に収納したり引き出したりすることにより鉛
直方向に沿って昇降を行う機構である。これにより、図
２中矢視ＡＲ２にて示すように、アーム基台４３および
搬送アーム４５が同時に鉛直方向（Ｚ方向）に沿って昇
降移動を行う。

【００４１】水平移動部４１および昇降部４２によっ
て、搬送アーム４５は搬送路５内をＹ軸方向に自在に移
動することができ、各カセットＣおよび洗浄ユニットＳ
Ｓ１，ＳＳ２、反転ユニットＲＶのそれぞれの正面に位
置することができる。

【００４２】アーム基台４３は、鉛直方向に沿った回転
軸Ｑ周りで昇降部４２に対して回転することができる。
この回転動作は、アーム基台４３に内蔵したステッピン
グモータ等によって行われる。これにより、図１中矢視
ＡＲ３にて示すように、搬送アーム４５は回転軸Ｑを中
心として水平面内（ＸＹ平面内）にて回転自在となり、
カセットＣ１〜Ｃ４および洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ
２、反転ユニットＲＶのそれぞれに対向することができ
る。

【００４３】アーム基台４３の上部には、基板Ｗを保持
する搬送アーム４５が設けられている。搬送ロボットＴ
Ｒは、上述した駆動機構以外に、搬送アーム４５を水平
面内にて進退移動させるための屈伸機構を備えており、
搬送アーム４５は、基板Ｗを保持して水平面内（ＸＹ平
面内）にて進退移動を行うことができる。これにより、
搬送アーム４５は、図１に示すように、矢視ＡＲ４方向
に進退してカセットＣに対してアクセス可能とするとと
もに、矢視ＡＲ５方向に進退して処理部に対してアクセ
ス可能としている。

【００４４】次に、上記の基板洗浄装置１における処理
手順について説明する。基板洗浄装置１の処理内容の概
略は、カセットＣ１（もしくはＣ２）から取り出した未
処理の基板Ｗの表面および裏面を洗浄し、洗浄後の基板
ＷをカセットＣ３（もしくはＣ４）に収容するというも
のである。このときの基板搬送は全て搬送ロボットＴＲ
によって行われる。

【００４５】基板洗浄装置１における基板搬送手順の一
例を示す。まず、搬送ロボットＴＲがカセットＣ１（も
しくはＣ２）の位置まで移動すると、搬送アーム４５に
よってカセットＣ１（もしくはＣ２）から未処理の基板
Ｗが取り出される。

【００４６】次に、搬送ロボットＴＲが、基板Ｗを保持
したまま洗浄ユニットＳＳ１の位置まで移動し、搬送ア
ーム４５の伸縮動作などがおこなわれ、基板Ｗが洗浄ユ
ニットＳＳ１に受け渡される。

【００４７】洗浄ユニットＳＳ１において洗浄処理が終
了すると、搬送アーム４５の伸縮動作などが行われ、表
面洗浄処理済の基板Ｗが取り出される。

【００４８】次に、搬送ロボットＴＲが、基板Ｗを保持
したまま反転ユニットＲＶの位置まで移動し、基板Ｗが
反転ユニットＲＶに受け渡される。そして、反転ユニッ
トＲＶにおいて基板Ｗの表裏面が逆転されると、再び、
搬送アーム４５によって表面処理済の基板Ｗが取り出さ
れる。

【００４９】続いて、搬送ロボットＴＲが、基板Ｗを保
持したまま処理ユニットＳＳ２の位置まで移動すると、
洗浄ユニットＳＳ２に基板Ｗが受け渡される。そして、
洗浄ユニットＳＳ２において基板Ｗの裏面の洗浄処理が
行われ、洗浄処理が終了すると、搬送アーム４５によっ
て、裏面洗浄処理済の基板Ｗが取り出され、裏面洗浄処
理済の基板Ｗが、洗浄ユニットＳＳ２からカセットＣ３
（もしくはＣ４）に搬送され、カセットＣ３（もしくは
Ｃ４）内に収納される。

【００５０】以上のような処理が行われる際の、カセッ
トＣおよび洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２における基板の
保持構造と、搬送アーム４５の形状との関係について説
明する。

【００５１】図１０は、搬送アーム４５が、カセットＣ
から基板Ｗを取り出すときの状態、もしくは、搬送アー
ム４５が、カセットＣに対して基板Ｗを受け渡すときの
状態を示す図である。

【００５２】このとき、搬送アーム４５の左のアーム
は、平面視において基板保持面Ｄ１と基板保持面Ｄ２と
の間に位置しており、右のアームは、平面視において基
板保持面Ｄ３と基板保持面Ｄ４との間に位置している。
したがって、基板Ｗを取り出す動作、および、基板Ｗを
受け渡す動作において、搬送アーム４５が基板の保持構
造と干渉することはない。

【００５３】図１１は、搬送アーム４５が、洗浄ユニッ
トＳＳ１において、バキュームチャック５０から基板Ｗ
を取り出すときの状態、もしくは、搬送アーム４５が、
バキュームチャック５０に対して基板Ｗを受け渡すとき
の状態を示す図である。

【００５４】このとき、平面視において、バキュームチ
ャック５０、つまり、基板保持面Ｄ５は、搬送アーム４
５の左右のアームの間に位置するので、基板Ｗを取り出
す動作、および、基板Ｗを受け渡す動作において、搬送
アーム４５が基板の保持構造と干渉することはない。

【００５５】図１２は、搬送アーム４５が、洗浄ユニッ
トＳＳ２において、支持部材６２，６２・・・等に保持
された基板Ｗを取り出すときの状態、もしくは、搬送ア
ーム４５が、支持部材６２，６２・・・に対して基板Ｗ
を受け渡すときの状態を示す図である。

【００５６】このとき、搬送アーム４５の左のアーム
は、平面視において基板保持面Ｄ６，Ｄ７と基板保持面
Ｄ８，Ｄ１１との間に位置しており、右のアームは、平
面視において基板保持面Ｄ８，Ｄ１１と基板保持面Ｄ
９，Ｄ１０との間に位置している。したがって、基板Ｗ
を取り出す動作、および、基板Ｗを受け渡す動作におい
て、搬送アーム４５が基板の保持構造と干渉することは
ない。なお、処理ユニットＳＳ２は、回転停止位置を制
御する手段を備えており、基板Ｗの受け渡し時において
は、常に、図１２に示すような状態で回転停止してい
る。したがって、基板の受け渡し時における保持部材６
２，６２・・・の位置は、一定の位置に固定されるの
で、搬送アーム４５は、常に、基板の保持構造と干渉す
ることなく、基板の受け渡し動作を行うことが可能であ
る。

【００５７】本実施の形態においては、基板Ｗが、カセ
ットＣ１（もしくはＣ２）から取り出され、洗浄ユニッ
トＳＳ１，ＳＳ２において洗浄処理が行われ、再び、カ
セットＣ３（もしくはＣ４）に収納されるまでの間に、
複数の異なる保持構造をもった処理部や収納部に保持さ
れる。そこで、搬送アーム４５の平面視形状は、これら
の保持構造とは、いずれも干渉しない形状としているの
である。

【００５８】つまり、平面視において、搬送アーム４５
のアーム形状は、いずれの基板保持面Ｄとも干渉しない
よう形成されているので、単一の搬送アーム４５を使用
して基板Ｗの搬送動作を全て実行することが可能であ
る。これによって、基板洗浄装置１のコンパクト化を図
ることが可能であり、また、低コスト化を実現すること
もできる。また、複数の搬送アームを使用し、複数の搬
送アーム間で基板の受け渡しを行う場合にくらべて処理
工程が簡素化されるため、生産性の向上を図ることも可
能である。

【００５９】＜２．第２の実施の形態＞第１の実施の形
態では、カセットＣ、洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２にお
ける全ての基板保持構造に干渉しない形状をもった搬送
アーム４５を採用することで、単一の搬送アームによる
基板Ｗの搬送を可能としている。これは、平面視におい
て基板保持面Ｄ１〜Ｄ１１の全てに干渉しない形状の搬
送アームが製作可能であることを前提としている。

【００６０】第２の実施の形態では、基板保持面Ｄ１〜
Ｄ１１の全てに干渉しない形状が存在しない場合、もし
くは、全てに干渉しない形状が存在しても、事実上、そ
のような形状の搬送アームを製作することが困難である
場合にも、有効な実施の形態である。

【００６１】図１３は、第２の実施の形態の搬送アーム
７０を示す図である。搬送アーム７０は、左右の長いア
ーム７１，７１と、左右の短いアーム７２，７２と、こ
れらアーム７１，７２を支持している支持ボックス７３
等とから構成されている。

【００６２】アーム７１，７２は、ともに、平面視略Ｌ
字形状であり、その基端部が支持ボックス７３内で支持
されている。そして、支持ボックス７３内には、アーム
７１，７２を、左右方向（図１４に示す矢視Ｗ方向）、
および、前後方向（図１４に示す矢視Ｌ方向）にスライ
ド移動可能とする駆動手段（図示せず）が収納されてい
る。つまり、搬送アーム７０は、左右のアーム７１，７
１間の間隔、左右のアーム７２，７２間の間隔を、自由
に変更可能であり、また、矢視Ｌ方向にアーム７１，７
２を自由に出し入れ可能としているのである。

【００６３】また、アーム７１，７２の先端部には、そ
れぞれ保持手段７１ａ，７２ａが設けられており、当該
保持手段７１ａ，７２ａにおいて基板Ｗの縁端部を保持
するようにしている。保持手段７１ａ，７２ａは、基板
Ｗの位置決め、位置ずれ等を防止するための構造を有し
ている。

【００６４】図１５、図１６、図１７は、それぞれ、カ
セットＣ、洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２の平面図（一部
断面図）であり、搬送アーム７０によって基板Ｗの受け
渡しを行う状態を示している。なお、カセットＣ、洗浄
ユニットＳＳ１，ＳＳ２の基本的な構成は、第１の実施
の形態と同様であるものとし、各構成部材には同様の符
番を付けて説明する。

【００６５】カセットＣ、洗浄ユニットＳＳ１，ＳＳ２
において、基板Ｗは、第１の実施の形態と同様、基板保
持面Ｄ１〜Ｄ１１で保持されるものである。ただし、第
２の実施の形態では、第１の実施の形態に比べて、洗浄
ユニットＳＳ１におけるバキュームチャック５０の平面
面積が大きいものとする。したがって、洗浄ユニットＳ
Ｓ１における基板保持面Ｄ５の面積が大きくなるため、
基板保持面Ｄ１〜Ｄ１１の全てに干渉しないスペースは
非常に狭くなっている。

【００６６】そこで、図１６に示すように、洗浄ユニッ
トＳＳ１にアクセスするときは、搬送アーム７０のアー
ム７１，７１間の間隔を広くすることで、容易に、基板
保持面Ｄ５との干渉を防ぐことが可能である。逆に、図
１７に示すように、洗浄ユニットＳＳ２に対してアクセ
スするときは、搬送アーム７０のアーム７１，７１間の
間隔を狭くすることで、基板保持面Ｄ６〜Ｄ９との干渉
を防ぐことが可能となるのである。なお、アーム７１，
７１間の間隔を変更する際には、基板Ｗを保持するバラ
ンスをとるため、あわせて、アーム７２，７２間の間隔
も変更するようにしている。

【００６７】また、アーム７１，７２が左右方向Ｗにス
ライドすることによって、アーム７１，７２が基板Ｗを
保持している保持手段７１ａ，７２ａが基板Ｗの縁端部
からずれることになるが、これに対しては、アーム７
１，７２を前後方向Ｌにスライドさせることによって、
保持手段７１ａ，７２ａにおいて確実に基板Ｗの縁端部
を保持できるようにしている。

【００６８】このように、第２の実施の形態における搬
送アーム７０を利用することによっても、単一の搬送ア
ームを用いて収納部および処理部に対して基板の搬送動
作を行うことが可能である。さらに、第２の実施の形態
においては、搬送アームのアームを可動構造とすること
で、複数の異なる基板の保持構造に対しても動的に対応
し、基板の保持構造との干渉を回避することが可能であ
る。

【００６９】つまり、搬送アーム７０のアーム７１，７
２をスライド移動させる駆動手段は、収納部もしくは処
理部に対してアクセスする前に、そのアクセスする収納
部もしくは処理部の基板保持構造に対応して予めアーム
７１，７２をスライド移動させるのである。

【００７０】以上説明した第１および第２の実施の形態
においては、基板処理装置として洗浄処理を行う装置を
例に説明したが、本実施の形態の搬送アームは、基板に
対してレジスト塗布、現像、エッチング、層間絶縁膜の
形成、熱処理などの諸処理を施す装置に対しても適用可
能である。

【００７１】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明では、基板を第１の部位において保持する収納部と、
基板を第２の部位において保持する処理部との間で基板
の受け渡しを行う搬送アームは、第１および第２の部位
とは異なる第３の部位において基板を保持するので、単
一の搬送アームを利用して収納部および処理部の双方に
対して基板の受け渡し動作を行うことができる。これに
より、装置のコンパクト化、低コスト化を図ることがで
きる。

【００７２】請求項２記載の発明では、基板を縁端部で
保持する収納部と、基板を中央部で保持する処理部から
なる基板洗浄装置においても、単一の搬送アームを利用
して収納部および処理部の双方に対して基板の受け渡し
動作を行うことができるので、実用性が高い。

【００７３】請求項３記載の発明では、収納部および処
理部が複数の場合であっても、搬送アームは、全ての収
納部および処理部における基板を保持する部位とは異な
る部位において基板を保持するので、単一の搬送アーム
を利用して収納部および処理部の双方に対して基板の受
け渡し動作を行うことができる。

【００７４】請求項４記載の発明では、基板を縁端部で
保持する収納部と、基板を中央部で保持する処理部、お
よび、縁端部で保持する処理部からなる基板処理装置に
おいても適用可能であり、実用性が高い。

【００７５】請求項５の発明は、基板処理装置に設けら
れた基板の搬送手段が、搬送アームの平面視形状を変更
する手段を備えるので、異なる保持構造をもった複数の
収納部や処理部に対しても、各保持構造と干渉すること
のないよう、搬送アームの形状を変形させることが可能
である。

【００７６】請求項６の発明は、変更手段は、搬送手段
が次工程で基板の受け渡し動作を行う収納部もしくは処
理部に対応して、前記搬送アームが受け渡し動作時に当
該基板の保持構造と干渉しないよう前記搬送アームの平
面視形状を変更するので、単一の搬送アームを用いて処
理工程を進行させることが可能である。

【００７７】請求項７の発明は、変更手段は、各アーム
部材を、支持部材に対して個別に略水平方向にスライド
移動させるので、各保持構造と干渉することのないよう
記搬送アームの平面視形状を変更することが可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】基板洗浄装置の全体平面図である。

【図２】基板洗浄装置の全体側面図である。

【図３】カセットの正面図である。

【図４】図３におけるカセットの矢視Ａ−Ａ断面図であ
る。

【図５】洗浄ユニットＳＳ１におけるバキュームチャッ
クの側面図である。

【図６】洗浄ユニットＳＳ１におけるバキュームチャッ
クの平面図である。

【図７】洗浄ユニットＳＳ２におけるメカチャックの側
面図である。

【図８】洗浄ユニットＳＳ２におけるメカチャックの平
面図である。

【図９】基板保持面を示す拡大図である。

【図１０】搬送アームによりカセットにアクセスした状
態を示す図である。

【図１１】搬送アームにより洗浄ユニットＳＳ１にアク
セスした状態を示す図である。

【図１２】搬送アームにより洗浄ユニットＳＳ２にアク
セスした状態を示す図である。

【図１３】第２の実施形態における搬送アームを示す図
である。

【図１４】搬送アームの可動状態を示す図である。

【図１５】第２の実施形態の搬送アームによりカセット
にアクセスした状態を示す図である。

【図１６】第２の実施形態の搬送アームにより処理ユニ
ットＳＳ１にアクセスした状態を示す図である。

【図１７】第２の実施形態の搬送アームにより処理ユニ
ットＳＳ２にアクセスした状態を示す図である。

【図１８】従来の搬送アームにより収納部にアクセスし
た状態を示す図である。

【図１９】従来の搬送アームにより処理部にアクセスし
た状態を示す図である。

【符号の説明】

１ 基板洗浄装置 ４５ 搬送アーム Ｃ（Ｃ１〜Ｃ４） カセット Ｄ（Ｄ１〜Ｄ１１） 基板保持面 ＳＳ１，ＳＳ２ 洗浄ユニット Ｗ 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西村 讓一 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 FA01 FA02 FA11 FA12 GA02 GA06 GA15 GA48 HA24 HA33 MA23 MA24 MA27 MA30 MA32 MA34 PA02

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の第１の部位を保持して収納する収
   納部から基板を受け取り、前記第１の部位とは異なる基
   板の第２の部位を保持して処理する処理部に基板を搬送
   し、前記処理部において基板を処理する基板処理装置に
   おいて、 前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、 基板の前記第１と第２の部位とは異なる第３の部位にお
   いて基板を保持する形状の搬送アームと、 前記収納部と前記処理部とのいずれに対しても前記アー
   ムをアクセス可能とするアーム駆動機構と、を備え、 前記搬送アームによって、前記収納部と前記処理部との
   それぞれにおける基板の保持構造に干渉せずに、前記収
   納部と前記処理部とに対する基板の出し入れが可能であ
   ることを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記収納部における基板の保持構造は、基板の縁端部を
   保持する構造であり、前記処理部における基板の保持構
   造は、基板の中央部を保持する構造であることを特徴と
   する基板処理装置。
3. 【請求項３】 基板の第１の部位を保持して収納する複
   数の収納部から選択的に基板を受け取って当該基板を複
   数の処理部に順次に搬送して処理を行うことが可能であ
   り、かつ前記複数の処理部の少なくとも一部が前記第１
   の部位とは異なる基板部位において基板を保持して基板
   処理を行う基板処理装置において、 前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、 基板の前記第１の部位と、前記複数の処理部のそれぞれ
   において保持される基板部位との、いずれとも異なる部
   位で基板を保持する形状の搬送アームと、 前記収納部と前記複数の処理部とのいずれに対しても前
   記アームをアクセス可能とするアーム駆動機構と、を備
   え、 前記搬送アームによって、前記収納部と前記複数の処理
   部とのそれぞれにおける基板の保持構造に干渉せずに、
   前記収納部と前記複数の処理部とに対する基板の出し入
   れが可能であることを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の基板処理装置におい
   て、 各収納部における基板の保持構造は、基板の縁端部を保
   持する構造であり、 各処理部における基板の保持構造は、基板の中央部を保
   持する構造のもの、および、基板の縁端部を保持する構
   造のもの、を含んでいることを特徴とする基板処理装
   置。
5. 【請求項５】 基板を収納する収納部から基板を受け取
   り、受け取った基板を処理部に搬送し、前記処理部にお
   いて基板を処理する基板処理装置において、 前記基板処理装置に設けられた基板の搬送手段が、 基板を保持する搬送アームと、 前記搬送アームの平面視形状を変更する変更手段と、を
   備えることを特徴とする基板処理装置。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の基板処理装置におい
   て、 前記変更手段は、前記搬送手段が次工程で基板の受け渡
   し動作を行う収納部もしくは処理部に対応して、前記搬
   送アームが受け渡し動作時に当該基板の保持構造と干渉
   しないよう前記搬送アームの平面視形状を変更すること
   を特徴とする基板処理装置。
7. 【請求項７】 請求項５または請求項６に記載の基板処
   理装置において、 前記搬送アームは、 複数のアーム部材と、 各アーム部材を支持する支持部材と、を備え、 前記変更手段は、各アーム部材を、前記支持部材に対し
   て個別に略水平方向にスライド移動させることにより前
   記搬送アームの平面視形状を変更することを特徴とする
   基板処理装置。