JP2852856B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板、ガラス基
板等の基板（以下、単に「基板」という）を処理する基
板処理装置に関し、詳しくは、基板を移載する移載装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の基板処理装置では、多数
枚の基板を一度に処理するために、例えば、２５枚の基
板を収納したカセットを２個搬送し、これらのカセット
から基板群をそれぞれ取り出し、同時に５０枚の基板を
薬液処理することができる装置がある。このような基板
処理装置では、一方のカセットから取り出した基板群と
他方のカセットから取りだした基板群との間隔が広い
と、処理槽が大型化したり、両基板群の端に位置する基
板に処理むらを生じ易い。こうした課題を解決する技術
として、特開平４−１８７２７９号公報に示されている
ような基板移載装置がある。

【０００３】上記従来の公報の技術における基板移載装
置は、図１５及び図１６に示すように、２つの挿通孔５
０２Ａ，５０２Ｂを形成したカセット載置テーブル５０
０と、上記挿通孔５０２Ａ，５０２Ｂの下方に互いに平
行に立設されかつその上部に基板載置部分５０４Ａ，５
０４Ｂを有する第１及び第２突き上げ部材５０６Ａ，５
０６Ｂと、第１及び第２突き上げ部材５０６Ａ，５０６
Ｂをそれぞれ昇降する昇降手段（図示省略）と、第１及
び第２突き上げ部材５０６Ａ，５０６Ｂを互いに近接ま
たは離反するようにスライドさせるスライド駆動手段５
１０と、を備えている。こうした構成の基板移載装置で
は、まず、図１５に示す状態から、カセット載置テーブ
ル５００の挿通孔５０２Ａ，５０２Ｂの位置に、第１及
び第２カセット５２０Ａ，５２０Ｂを載置する。続い
て、昇降手段により第１及び第２突き上げ部材５０６
Ａ，５０６Ｂを上昇させて、その基板載置部分５０４
Ａ，５０４Ｂで２５枚で１組の基板群５２２Ａ，５２２
Ｂを保持しつつカセット５２０Ａ，５２０Ｂ内から基板
を取り出し、さらに、スライド駆動手段５１０により第
１及び第２突き上げ部材５０６Ａ，５０６Ｂを近接させ
る。これにより、図１６に示すように、第１及び第２突
き上げ部材５０６Ａ，５０６Ｂに保持された基板群５２
２Ａ，５２２Ｂを互いに近接させる幅寄せ動作を行な
い、両基板群５２２Ａ，５２２Ｂを基板搬送ロボット
（図示省略）により同時に搬送して処理槽により一括処
理する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】こうした従来の基板移
載装置では、基板載置部分５０４Ａ，５０４Ｂは、基板
との接触部分が大きいと、基板の脱着や搬送の際にパー
ティクルが生じ易いので可能な限り小さくしている。し
かし、従来の装置では、第１及び第２突き上げ部材５０
６Ａ，５０６Ｂを突き上げた状態にてスライド駆動手段
５１０によりスライドさせる幅寄せ動作を行なっている
ので、基板載置部分５０４Ａ，５０４Ｂの部分にて基板
が振動してパーティクルが発生し易く、また、隣接する
基板同士が接触して損傷を受けるという問題があった。
また、第１及び第２突き上げ部材５０６Ａ，５０６Ｂに
よる高い位置でのスライド動作であるので、基板の位置
合わせ精度がよくなく、このため、基板搬送ロボットに
よる受け渡しの際にも、基板の損傷やパーティクルが生
じ易いという問題もあった。

【０００５】本発明は、上記従来の技術の問題を解決す
るものであり、複数のカセットから基板を取り出して幅
寄せして一括搬送する際に、基板の損傷やパーティクル
の発生が生じ難い基板処理装置を提供することを目的と
する。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた請求項１の発明は、下部開口を有し、複数の
基板からなる基板群を起立整列状態で収容する複数のカ
セットから、該基板群をぞれぞれ取り出して整列させて
他の処理手段へ搬送する基板処理装置において、上記基
板群を起立整列状態で保持する第１基板載置部分を有す
る第１基板受け渡し具と、第１基板受け渡し具を下降位
置から基板受け渡し位置を経て上昇位置の間で昇降駆動
させる第１昇降手段と、他の基板群を、上記第１基板載
置部分にて保持された基板群と連続した間隔の起立整列
状態で保持する第２基板載置部分を有する第２基板受け
渡し具と、第２基板受け渡し具を下降位置から基板受け
渡し位置を経て上昇位置の間で昇降駆動させる第２昇降
手段と、第１及び第２カセットを保持する第１及び第２
カセット保持部をそれぞれ有するカセット保持手段と、
第１カセット保持部を第１回転軸を中心に所定の搬送経
路で回転駆動しその搬送経路での停止位置が上記第１カ
セットを受け渡しするカセット搬送位置と上記第１基板
受け渡し具における基板受け渡し位置になるように設け
られた第１回転駆動部と、第２カセット保持部を第２回
転軸を中心に所定の搬送経路で回転駆動しその搬送経路
での停止位置が第２カセットを受け渡しするカセット搬
送位置と上記第２基板受け渡し具における基板受け渡し
位置になるように設けられた第２回転駆動部と、を有
し、上記第１回転軸または第２回転軸の少なくとも一方
がカセット保持部の中心位置に対し偏心した位置に設け
られたカセット回転搬送手段と、第１及び第２基板受け
渡し具からその上昇位置で保持した両基板群を受け取っ
て搬送する基板搬送手段と、を具備することを特徴とす
る。

【０００７】また、請求項２の発明は、請求項１に記載
の基板処理装置において、請求項１に記載の基板処理装
置において、第１及び第２昇降手段、カセット回転搬送
手段及び基板搬送手段を制御する制御手段を備え、上記
制御手段は、上記第１回転駆動部に対して、第１カセッ
トを保持した第１カセット保持部をカセット搬送位置か
ら第１基板受け渡し具における基板受け渡し位置まで回
転駆動する指令を出力し、第１昇降手段に対して、第１
基板受け渡し具を下降位置から上昇させて第１基板載置
部分にて第１カセット内から基板群を保持して取り出す
指令を出力し、第１回転駆動部を基板受け渡し位置から
退避させる指令を出力し、上記第２回転駆動部に対し
て、第２カセットを保持した第２カセット保持部をカセ
ット搬送位置から第２基板受け渡し具における基板受け
渡し位置まで回転駆動する指令を出力し、第２昇降手段
に対して、第２基板受け渡し具を上昇させて、第２基板
載置部分にて第２カセット内から基板群を保持して取り
出す指令を出力し、上記基板搬送手段に対して、第１及
び第２基板受け渡し具により上昇位置にて保持された基
板群を受け取って搬送する指令を出力する構成を備えた
ものである。

【０００８】

【作用】本発明の基板処理装置は、第１及び第２昇降手
段、カセット回転搬送手段及び基板搬送手段を制御する
ことにより、複数のカセットから基板群をそれぞれ取り
出し整列させて基板搬送手段に渡し、この基板搬送手段
により基板群を他の処理手段に搬送する。

【０００９】すなわち、第１及び第２カセット保持部が
第１カセット及び第２カセットをそれぞれ保持する。次
に、カセット回転搬送手段の第１回転駆動部に対して、
第１カセットを保持した第１カセット保持部を、第１カ
セットを受け渡しするカセット搬送位置から第１基板受
け渡し具における基板受け渡し位置まで、回転駆動させ
る。そして、第１昇降手段に対して、第１基板受け渡し
具を上昇位置まで上昇させて、第１カセット内の基板群
をカセットの下部開口を通じて第１基板載置部分にて保
持して取り出す。その後、第１回転駆動部に対して基板
受け渡し位置から退避させる。続いて、第２回転駆動部
に対して、第２カセットを保持した第２カセット保持部
を、第２カセットを受け渡しするカセット搬送位置から
第２基板受け渡し具における基板受け渡し位置まで回転
駆動させ、第２昇降手段に対して、第２基板受け渡し具
を上昇させて第２カセット内から基板群を第２基板載置
部分にて保持して取り出す。

【００１０】これにより、両基板群は、第１及び第２基
板受け渡し具における第１及び第２基板載置部分により
上昇位置にてそれぞれ保持されることになるが、第１及
び第２基板載置部分を設置した関係から、両基板群の各
基板が連続したほぼ等間隔の整列状態に支持される。こ
こで、第１及び第２カセット保持部は、第１及び第２回
転軸を中心に回転するが、その回転中心の少なくとも一
方は、カセット保持部の中心位置に対して偏心している
から、第１及び第２基板載置部分で保持された両基板群
の間隔は、上記回転軸とカセット保持部の中心位置に対
して偏心した位置との距離だけ、第１カセットと第２カ
セットの載置された間隔より狭くなる。そして、基板搬
送手段により、整列状態の基板群が受け渡されて、他の
処理手段へ搬送される。

【００１１】

【実施例】以上説明した本発明の構成・作用を一層明ら
かにするために、以下本発明の好適な実施例について説
明する。

【００１２】図１は本発明の一実施例に係る基板処理装
置１０を示す斜視図である。図２は基板処理装置１０の
平面図を示す。図１及び図２に示すように、基板処理装
置１０は、カセット搬出入ステージ２０と、カセット搬
送ロボット３０と、基板移載部４０と、基板搬送ロボッ
ト２００と、基板処理部２２０と、カセット洗浄器２４
０と、を備えている。なお、この実施例で用いるカセッ
ト３００は、内部に基板整列収容溝を備え、この基板整
列収納溝に２５枚の基板Ｗを起立整列状態で収容できる
ようになっている。

【００１３】まず、基板処理装置１０の全体の概略動作
について説明する。基板処理装置１０では、基板処理装
置１０外から未処理基板Ｗａを収納したカセット３００
がカセット搬出入ステージ２０の搬入位置２２に２ケー
ス搬入されると、これらのカセット３００は、カセット
搬送ロボット３０により基板移載部４０に搬送される。
続いて、カセット３００内の未処理基板Ｗａが基板移載
部４０と基板搬送ロボット２００によりカセット３００
から取り出され、基板搬送ロボット２００により基板処
理部２２０へ搬送される。基板処理部２２０では、未処
理基板Ｗａに各種の薬液処理がなされる。処理済み基板
Ｗｂは、基板搬送ロボット２００により基板乾燥部２３
０へ搬送されて乾燥処理がなされ、さらに基板移載部４
０へ搬送される。一方、先に基板移載部４０にて未処理
基板Ｗａを取り出された空のカセット３００は、カセッ
ト搬送ロボット３０でカセット洗浄器２４０へ搬送され
て洗浄される。そして、この洗浄済みカセット３００
は、カセット搬送ロボット３０で基板移載部４０に搬送
される。次に、基板移載部４０で処理済み基板Ｗｂを洗
浄済みカセット３００に移載し、このカセット３００を
カセット搬送ロボット３０でカセット搬出入ステージ２
０の搬出位置２４に搬送し、ここから基板処理装置１０
外に搬出する。

【００１４】こうした基板処理装置１０では、上述した
ように基板移載部４０が設けられている。この基板移載
部４０は、カセット搬送ロボット３０で搬送されるカセ
ット３００から未処理基板Ｗａを基板搬送ロボット２０
０に受け渡すと共に、基板搬送ロボット２００からの処
理済み基板Ｗｂをカセット３００に収納し、さらにカセ
ット３００をカセット搬送ロボット３０へ渡すものであ
り、その際、上記搬入位置２２及び搬出位置２４に載置
される基板の向きと、基板処理部２２０の処理槽で処理
される基板の向きとを合わせるために、カセット３００
の向きを９０゜回転する機構を備えている。以下、基板
移載部４０の構成について図３ないし図６を用いて説明
する。

【００１５】図３に示すように、上記基板移載部４０
は、基板処理装置１０の上板４２とほぼ同一面に設けら
れかつ回転自在に支持された第１ターンテーブル８０Ａ
及び第２ターンテーブル８０Ｂ（図４）と、第１ターン
テーブル８０Ａを回転駆動する第１回転駆動装置１００
Ａと、第２ターンテーブル８０Ｂを回転駆動する第２回
転駆動装置１００Ｂと、第１基板受け渡し具１１０Ａ
と、第２基板受け渡し具１１０Ｂ（図４）と、第１基板
受け渡し具１１０Ａを昇降駆動する第１昇降駆動装置１
３０Ａと、第２基板受け渡し具１１０Ｂの下方に設置さ
れ、第２基板受け渡し具１１０Ｂを昇降駆動しかつ第１
昇降駆動装置１３０Ａとほぼ同様な構成の第２昇降駆動
機構（図示省略）と、を備えている。

【００１６】図５に示すように、上板４２には、テーブ
ル挿通孔５２Ａ及びテーブル挿通孔５２Ｂが形成されて
いる。また、上記上板４２と平行に下板４６が設けられ
ており、この下板４６には、外側ギヤ５４ａ及び内側ギ
ヤ５４ｂからなるリングギヤ５４が上記テーブル挿通孔
５２Ａ，５２Ｂにそれぞれ同心位置に形成されている。

【００１７】次に第１及び第２ターンテーブル８０Ａ，
８０Ｂについて説明する。図４及び図５は第１ターンテ
ーブル８０Ａを反時計方向へ９０゜回転させ、第２ター
ンテーブル８０Ｂを回転させていない状態を示す。な
お、第１及び第２ターンテーブル８０Ａ，８０Ｂは、ほ
ぼ同一の構成であるので、第１ターンテーブル８０Ａに
ついて説明する。

【００１８】第１ターンテーブル８０Ａは、ほぼ長方形
でかつ一辺が円弧状の偏心板８２（図４参照）と、リン
グギヤ５４に回転自在に支持された下円板８６と、偏心
板８２と下円板８６とを連結固定する連結部材８４とを
備えた一体的な構成であり、偏心板８２の回転中心Ｃに
て回転するよう支持されている。上記偏心板８２には、
受け渡し具挿通孔９２が形成され、その周囲には、カセ
ット位置決め枠９４及びカセットクランプ（図示省略）
が装着されている。上記カセット位置決め枠９４は、偏
心板８２の回転中心Ｃに対して、円弧側の位置に設けら
れている。したがって、カセット３００をカセット位置
決め枠９４に載置して第１ターンテーブル８０Ａを回転
すると、該カセット３００の中心を回転中心Ｃに一致さ
せて載置して回転した場合より、第２ターンテーブル８
０Ｂに接近することになる。

【００１９】第１及び第２ターンテーブル８０Ａ，８０
Ｂを回転駆動する第１及び第２回転駆動装置１００Ａ，
１００Ｂは、図６に示すように、第１及び第２回転用シ
リンダ１０２Ａ，１０２Ｂと、下円板８６に固定された
係止部材１０７及び両側の止め部１０８を有するストッ
パ１０６とを備え、第１及び第２回転用シリンダ１０２
Ａ，１０２Ｂの一端が下板４６に軸支されると共に、そ
のピストンロッド１０４の先端が第１及び第２ターンテ
ーブル８０Ａ，８０Ｂの下円板８６にそれぞれ固定され
ている。この第１及び第２回転駆動装置１００Ａ，１０
０Ｂの構成により、第１及び第２回転用シリンダ１０２
Ａ，１０２Ｂを駆動すると、ピストンロッド１０４の進
退により、第１及び第２ターンテーブル８０Ａ，８０Ｂ
がストッパ１０６の規制によってそれぞれ９０゜の範囲
で回転する。

【００２０】図４に示す上記第１及び第２基板受け渡し
具１１０Ａ，１１０Ｂは、第１及び第２ターンテーブル
８０Ａ，８０Ｂにそれぞれ対応して設けられ、ほぼ同様
な構成を備えているから、第１基板受け渡し具１１０Ａ
について説明する。図３に示すように、第１基板受け渡
し具１１０Ａは、第１昇降載置部１１２Ａと、この第１
昇降載置部１１２Ａを支持する支持用パイプ１１４と、
第１昇降駆動装置１３０Ａと、を備えている。上記第１
昇降載置部１１２Ａの上部には、第１基板載置部分１１
５Ａが形成されており、この第１基板載置部分１１５Ａ
の基板整列保持溝１１６により基板Ｗを保持するよう構
成されている。

【００２１】また、上記第１昇降駆動装置１３０Ａは、
モータ１３２と、このモータ１３２に動力伝達機構１３
４を介して連結された縦送りネジ軸１３６と、縦送りネ
ジ軸１３６に沿って立設されたガイド部材１３８と、支
持用パイプ１１４に固定されかつガイド部材１３８にガ
イドされると共に縦送りネジ軸１３６に螺合している連
結部材１４２と、を備えている。この構成により、モー
タ１３２を回転駆動すると、動力伝達機構１３４を介し
て縦送りネジ軸１３６が回転する。縦送りネジ軸１３６
の回転により連結部材１４２を介してガイド部材１３８
にガイドされながら支持用パイプ１１４及び第１昇降載
置部１１２Ａが一体的に昇降する。

【００２２】次に上記基板搬送ロボット２００の構成を
説明する。基板搬送ロボット２００は、図７に示すよう
に、走行部本体２０２と、この走行部本体２０２からほ
ぼ水平に突出した左右１対のアーム回転軸２０４と、こ
のアーム回転軸２０４を回転させる軸回転手段２０６
と、上記各アーム回転軸２０４に固定されかつ基板Ｗを
起立整列状態で一括保持する基板チャック２１０と、を
備えている。１対の基板チャック２１０は、１対の対向
面２１２と、その裏面２１４同士とに、それぞれカセッ
ト３００が有する基板整列収納溝と同一ピッチの基板整
列保持溝２１６，２１８を備えている。

【００２３】この基板搬送ロボット２００の構成によ
り、軸回転手段２０６を駆動すると、アーム回転軸２０
４を介して基板チャック２１０が回転する。基板チャッ
ク２１０の回転により基板整列保持溝２１６により未処
理基板Ｗａが保持され、または、基板整列保持溝２１８
により処理済み基板Ｗｂ（図１参照）が保持される。未
処理または処理済みの基板Ｗを保持した基板搬送ロボッ
ト２００は、走行部本体２０２の搬送動作により、基板
処理部２２０と基板移載部４０との搬入または搬送を行
なう。なお、基板搬送ロボット２００は、未処理基板Ｗ
ａを搬送する場合には、基板チャック２１０の１対の対
向面２１２同士を対向する姿勢にし、一方、処理済み基
板Ｗｂを搬送する場合には、裏面２１４同士を対向する
姿勢にする。これにより、未処理基板Ｗａと処理済み基
板Ｗｂとが異なった基板整列保持溝２１６，２１８にて
保持されるので、処理済み基板Ｗｂが未処理基板Ｗａを
保持した基板整列保持溝２１６に接触することによる汚
染が防止される。

【００２４】図８は上述した基板処理装置１０の制御系
を示すブロック図である。図８において、基板処理装置
１０は、ＣＰＵを含む電子制御装置４１０を中心に構成
され、電子制御装置４１０の制御により、カセット搬送
ロボット３０の駆動手段４２０、第１回転駆動装置１０
０Ａ及び第２回転駆動装置１００Ｂの駆動手段４３０、
第１昇降駆動装置１３０Ａ及び第２昇降駆動装置の駆動
手段４４０、及び基板搬送ロボット２００の駆動手段４
５０を駆動するよう構成されている。

【００２５】次に、未処理基板Ｗａを収納したカセット
３００をカセット搬出入ステージ２０の搬入位置２２に
載置してから、基板移載部４０により受け渡し、さらに
基板搬送ロボット２００を介して基板処理部２２０へ搬
送し、そして、基板処理部２２０で処理された処理済み
基板Ｗｂを基板搬送ロボット２００から基板移載部４０
を介してカセット搬出入ステージ２０の搬出位置２４に
搬送するまでの動作について説明する。

【００２６】まず、図１に示すカセット搬送ロボット３
０が搬入位置２２に載置された２つのカセット３００を
保持し、さらに１８０゜回転して第１及び第２ターンテ
ーブル８０Ａ，８０Ｂまで搬送する。第１及び第２ター
ンテーブル８０Ａ，８０Ｂでは、カセット３００をカセ
ット位置決め枠９４で位置決めする。図９に示すよう
に、両カセット３００は、同じ方向に向くように載置さ
れる。

【００２７】次に、第１回転用シリンダ１０２Ａが駆動
されることにより、第１ターンテーブル８０Ａが図示反
時計方向へ９０゜回転する（図１０）。このとき、第１
ターンテーブル８０Ａの偏心板８２は、その回転中心Ｃ
を中心に回転するが、カセット３００は、その回転中心
Ｃより円弧側の先端に位置しているから、回転中心Ｃに
その中心を一致させて載置した場合より、第２ターンテ
ーブル８０Ｂに近づくことになる。

【００２８】次に、第１昇降駆動装置１３０Ａのモータ
１３２を駆動することにより、第１基板受け渡し具１１
０Ａが第１ターンテーブル８０Ａの受け渡し具挿通孔９
２及びカセット３００の下開口部３０４を通って、上昇
位置まで上昇する（図１１参照）。これにより、第１昇
降載置部１１２Ａの第１基板載置部分１１５Ａは、基板
整列保持溝１１６によって２５枚で１群の未処理基板Ｗ
ａを上昇位置で保持する。

【００２９】続いて、第１回転用シリンダ１０２Ａが駆
動されることにより、第１ターンテーブル８０Ａが図示
時計方向へ９０゜回転して元の位置に戻す（図１２）。
このとき、第１基板受け渡し具１１０Ａは、上昇位置の
ままであり、未処理基板Ｗａを保持している。次に、第
２回転用シリンダ１０２Ｂが駆動されることにより、第
２ターンテーブル８０Ｂが図示時計方向へ９０゜回転す
る（図１３）。このとき、第１ターンテーブル８０Ａ
は、元の位置に戻されているから、第２ターンテーブル
８０Ｂは、第１ターンテーブル８０Ａの側部に衝突しな
い。

【００３０】次に、図示しない第２昇降駆動装置のモー
タを駆動することにより、第２基板受け渡し具１１０Ｂ
が第２ターンテーブル８０Ｂの受け渡し具挿通孔９２及
びカセット３００の下開口部３０４を通って上昇位置ま
で上昇する（図１４参照）。これにより、第２昇降載置
部１１２Ｂの第２基板載置部分１１５Ｂは、基板整列保
持溝１１６によって他の１群の未処理基板Ｗａを上昇位
置で保持する。

【００３１】上述した一連の動作により、第１基板受け
渡し具１１０Ａにより保持された未処理基板Ｗａと第２
基板受け渡し具１１０Ｂで保持された１群の未処理基板
Ｗａとは、その間隔を狭める幅寄せが行なわれて連続し
た所定間隔で整列配置されることになる。次に、幅寄せ
されて整列配置された未処理基板Ｗａは、図７に示す基
板搬送ロボット２００により基板処理部２２０に搬送さ
れる。

【００３２】一方、基板処理部２２０で処理された処理
済み基板Ｗｂは、上述の搬送動作と逆の動作により、基
板搬送ロボット２００から、基板移載部４０を介してカ
セット搬出入ステージ２０の搬出位置２４まで搬送す
る。この動作は、上述した図９から図１４の逆の順序に
より行なわれる。すなわち、基板搬送ロボット２００
は、処理済み基板Ｗｂを第１及び第２基板受け渡し具１
１０Ａ，１１０Ｂに受け渡す（図１４、図１３参照）。
次に、第２基板受け渡し具１１０Ｂの下降動作により処
理済み基板Ｗｂを一方のカセット３００に収納する。そ
して、第２ターンテーブル８０Ｂを反時計方向へ９０゜
回転して元の位置に戻す（図１２、図１１参照）。次
に、第１ターンテーブルを反時計方向へ９０゜回転する
（図１０参照）。第１基板受け渡し具１１０Ａの下降動
作により、処理済み基板Ｗｂを他方のカセット３００に
収納し、さらに、第１ターンテーブル８０Ａを時計方向
へ９０゜回転する（図９参照）。そして、両カセット３
００をカセット搬送ロボット３０により搬送する。これ
により、一連の搬送動作が終了する。

【００３３】上記実施例の基板移載部４０によれば、第
１及び第２ターンテーブル８０Ａ，８０Ｂの偏心した位
置にカセット３００を載置し、時間差をもって向き合う
方向へ回転することにより、両カセット３００に収納さ
れた基板Ｗを幅寄せするので、従来の技術のように、基
板Ｗを突き上げ部材で突き上げた状態で行なっていない
ので、スライドの際における基板Ｗの振動がなく、基板
Ｗの損傷やパーティクルの発生がない。よって、基板Ｗ
の歩留りを高めることができる。

【００３４】また、第１及び第２基板受け渡し具１１０
Ａ，１１０Ｂは、昇降動作だけで、水平方向へ可動する
構成となっていないので、第１及び第２基板受け渡し具
１１０Ａ，１１０Ｂを基板処理部２２０の処理槽に一致
した搬送ラインに固定設置しておけば、基板搬送ロボッ
ト２００の位置合わせ調整などが不要となり、よってメ
ンティナンスも簡単になる。

【００３５】なお、この発明は上記実施例に限られるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の
態様において実施することが可能であり、例えば次のよ
うな変形も可能である。

【００３６】（１） 上記実施例では、第１ターンテー
ブル８０Ａ及び第２ターンテーブル８０Ｂの両方に偏心
板８２を用いているが、これに限らず、一方のターンテ
ーブルを幅寄せできる距離だけ偏心させても同様な効果
を奏することができる。この場合に、両ターンテーブル
を互いに衝突しないように両テーブルを構成し及び作動
させることは勿論である。

【００３７】（２） 上記実施例の基板移載部４０で
は、第１及び第２回転駆動装置１００Ａ，１００Ｂのエ
アーシリンダによる１ストロークの進退によりスライド
または回転動作するように構成しているが、これに限ら
ず、スライドまたは回転駆動することができる機構であ
れば、モータであってもよい。

【００３８】（３） また、カセット３００の数は、上
記実施例のように、２個にかぎらず、基板受け渡し具に
より等間隔で基板を保持できる配置構成であれば、その
数は特に限定されない。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の基板処理
装置によれば、第１及び第２カセットを保持した第１及
び第２カセット保持部を第１及び第２回転軸を中心に回
転しており、しかもその回転中心の少なくとも一方をカ
セット保持部の中心位置に対して偏心させていることに
より、回転中心と中心位置との距離だけ基板群の間隔を
狭め、従来の技術のように、基板を突き上げ部材で突き
上げた状態でスライドさせていないので、スライドの際
における基板の振動がなく、基板の損傷やパーティクル
の発生がない。よって基板の歩留りを高めることができ
る。

【００４０】また、第１及び第２基板受け渡し具は、昇
降するだけで、水平方向へ可動する構成となっていない
ので、例えば、第１及び第２基板受け渡し具を他の処理
手段の処理槽に一致した搬送ラインに固定設置しておけ
ば、基板搬送手段等との位置合わせ調整などが不要とな
り、よってメンティナンスも簡単になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る基板処理装置の外観を
示す斜視図。

【図２】同実施例に係る基板処理装置を示す平面図。

【図３】同実施例に係る基板移載部を示す断面図。

【図４】同実施例に係る基板移載部の要部を示す平面
図。

【図５】図４のＶ−Ｖ線に沿った断面図。

【図６】第１及び第２回転駆動装置を説明する説明図。

【図７】基板搬送ロボットを説明する説明図。

【図８】基板処理装置の制御系を示すブロック図。

【図９】基板移載部の動作のうち第１及び第２ターンテ
ーブルでの移載動作を説明する説明図。

【図１０】図９に続く第１及び第２ターンテーブルでの
移載動作を説明する説明図。

【図１１】基板移載部の動作のうち第１基板受け渡し具
の上昇動作を説明する説明図。

【図１２】図１１に続く第１及び第２ターンテーブルで
の移載動作を説明する説明図。

【図１３】図１２に続く第１及び第２ターンテーブルで
の移載動作を説明する説明図。

【図１４】基板移載部の動作のうち第２基板受け渡し具
の上昇動作を説明する説明図。

【図１５】従来の基板移載部の動作を説明する説明図。

【図１６】図１５に続く基板移載部の動作を説明する説
明図。

【符号の説明】

１０…基板処理装置 ２０…カセット搬出入ステージ ２２…搬入位置 ２４…搬出位置 ３０…カセット搬送ロボット ４０…基板移載部 ４２…上板 ４６…下板 ５２Ａ，５２Ｂ…テーブル挿通孔 ５４…リングギヤ ５４ａ…外側ギヤ ５４ｂ…内側ギヤ ８０Ａ…第１ターンテーブル ８０Ｂ…第２ターンテーブル ８２…偏心板 ８４…連結部材 ８６…下円板 ９２…受け渡し具挿通孔 ９４…カセット位置決め枠 １００Ａ…第１回転駆動装置 １００Ｂ…第２回転駆動装置 １０２Ａ…第１回転用シリンダ １０２Ｂ…第２回転用シリンダ １０４…ピストンロッド １０６…ストッパ １０７…係止部材 １０８…止め部 １１０Ａ…第１基板受け渡し具 １１０Ｂ…第２基板受け渡し具 １１２Ａ…第１昇降載置部 １１２Ｂ…第２昇降載置部 １１４…支持用パイプ １１５Ａ…第１基板載置部分 １１５Ｂ…第２基板載置部分 １１６…基板整列保持溝 １３０Ａ…第１昇降駆動装置 １３２…モータ １３４…動力伝達機構 １３６…縦送りネジ軸 １３８…ガイド部材 １４２…連結部材 ２００…基板搬送ロボット ２０２…走行部本体 ２０４…アーム回転軸 ２０６…軸回転手段 ２１０…基板チャック ２１２…対向面 ２１４…裏面 ２１６…基板整列保持溝 ２１８…基板整列保持溝 ２２０…基板処理部 ２３０…基板乾燥部 ２４０…カセット洗浄器 ３００…カセット ３０４…下開口部 ４１０…電子制御装置 ４２０，４３０，４４０，４５０…駆動手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 49/07

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下部開口を有し、複数の基板からなる基
   板群を起立整列状態で収容する複数のカセットから、該
   基板群をぞれぞれ取り出して整列させて他の処理手段へ
   搬送する基板処理装置において、 上記基板群を起立整列状態で保持する第１基板載置部分
   を有する第１基板受け渡し具と、 第１基板受け渡し具を下降位置から基板受け渡し位置を
   経て上昇位置の間で昇降駆動させる第１昇降手段と、 他の基板群を、上記第１基板載置部分にて保持された基
   板群と連続した間隔の起立整列状態で保持する第２基板
   載置部分を有する第２基板受け渡し具と、 第２基板受け渡し具を下降位置から基板受け渡し位置を
   経て上昇位置の間で昇降駆動させる第２昇降手段と、 第１及び第２カセットを保持する第１及び第２カセット
   保持部をそれぞれ有するカセット保持手段と、 第１カセット保持部を第１回転軸を中心に所定の搬送経
   路で回転駆動しその搬送経路での停止位置が上記第１カ
   セットを受け渡しするカセット搬送位置と上記第１基板
   受け渡し具における基板受け渡し位置になるように設け
   られた第１回転駆動部と、第２カセット保持部を第２回
   転軸を中心に所定の搬送経路で回転駆動しその搬送経路
   での停止位置が第２カセットを受け渡しするカセット搬
   送位置と上記第２基板受け渡し具における基板受け渡し
   位置になるように設けられた第２回転駆動部と、を有
   し、上記第１回転軸または第２回転軸の少なくとも一方
   がカセット保持部の中心位置に対し偏心した位置に設け
   られたカセット回転搬送手段と、 第１及び第２基板受け渡し具からその上昇位置で保持し
   た両基板群を受け取って搬送する基板搬送手段と、 を具備することを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、第１及び第２昇降手段、カセット回転搬送手段及び
   基板搬送手段を制御する制御手段を備え、 上記制御手段は、 上記第１回転駆動部に対して、第１カセットを保持した
   第１カセット保持部をカセット搬送位置から第１基板受
   け渡し具における基板受け渡し位置まで回転駆動する指
   令を出力し、 第１昇降手段に対して、第１基板受け渡し具を下降位置
   から上昇させて、第１基板載置部分にて第１カセット内
   から基板群を保持して取り出す指令を出力し、第１回転
   駆動部を基板受け渡し位置から退避させる指令を出力
   し、 上記第２回転駆動部に対して、第２カセットを保持した
   第２カセット保持部をカセット搬送位置から第２基板受
   け渡し具における基板受け渡し位置まで回転駆動する指
   令を出力し、 第２昇降手段に対して、第２基板受け渡し具を上昇させ
   て、第２基板載置部分にて第２カセット内から基板群を
   保持して取り出す指令を出力し、 上記基板搬送手段に対して、第１及び第２基板受け渡し
   具により上昇位置にて保持された基板群を受け取って搬
   送する指令を出力する構成を備えた基板処理装置。