JP2002373928A - 被移送体移送装置及びその移送方法 - Google Patents
被移送体移送装置及びその移送方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 設置占有面積の小さなウェーハ移送装置を提
供する。 【解決手段】 トランスファーチャンバ及びトランスフ
ァーチャンバに接続された少なくとも一つのプロセスチ
ャンバの間にウェーハを移送する装置であって、ベース
１１０と、ベース上でｚ方向へ移動可能な下部アーム１
２０と、下部アーム上端に連結される一端を有し軸ｒ１
で回動する上部アーム１３０と、上部アームの他端に連
結される一端を有し軸ｒ２で回動可能でウェーハｗを保
持するハンド１４０とを有する。これにより、ウェーハ
移送時アームの干渉半径が最小化でき、その設置占有面
積と外部干渉面積とを少なくして狭い空間でも設置が可
能となる。
供する。 【解決手段】 トランスファーチャンバ及びトランスフ
ァーチャンバに接続された少なくとも一つのプロセスチ
ャンバの間にウェーハを移送する装置であって、ベース
１１０と、ベース上でｚ方向へ移動可能な下部アーム１
２０と、下部アーム上端に連結される一端を有し軸ｒ１
で回動する上部アーム１３０と、上部アームの他端に連
結される一端を有し軸ｒ２で回動可能でウェーハｗを保
持するハンド１４０とを有する。これにより、ウェーハ
移送時アームの干渉半径が最小化でき、その設置占有面
積と外部干渉面積とを少なくして狭い空間でも設置が可
能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被移送体を移送す
るための移送装置に関するものであり、より詳しくは移
送装置の設置占有面積を少なくして狭い空間でも移送動
作が可能なウェーハ移送装置に関するものである。
るための移送装置に関するものであり、より詳しくは移
送装置の設置占有面積を少なくして狭い空間でも移送動
作が可能なウェーハ移送装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、クラスタシステムは移送装置と
その周囲に設けられた複数の処理モジュールを含むマル
チチャンバ製造装置を指す。
その周囲に設けられた複数の処理モジュールを含むマル
チチャンバ製造装置を指す。
【０００３】最近、液晶モニタ装置（ＬＣＤ）、プラズ
マディスプレイ装置、半導体製造装置等において複数の
処理を一貫して実行できるクラスタシステムの需要が高
まっている。
マディスプレイ装置、半導体製造装置等において複数の
処理を一貫して実行できるクラスタシステムの需要が高
まっている。
【０００４】たとえば、特開平１０−２７５８４８号公
報に開示されているように、移送装置は、搬送室を規定
する８角形のハウジングと、このハウジング内に回動自
在に設けられた移送装置を有している。そして、処理モ
ジュールは、ハウジングの８角形の角辺に装着できる。
移送装置は被処理体、たとえばウェーハをロードロック
（ｌｏａｄ ｌｏｃｋ）室のロードロックカセットから
取り出し、これを処理モジュールの処理室に搬入する。
処理室で所定の処理が成された被処理体は移送装置によ
り搬出され、次の処理モジュール、ロードロックモジュ
ール又はその外のモジュールに搬送される。
報に開示されているように、移送装置は、搬送室を規定
する８角形のハウジングと、このハウジング内に回動自
在に設けられた移送装置を有している。そして、処理モ
ジュールは、ハウジングの８角形の角辺に装着できる。
移送装置は被処理体、たとえばウェーハをロードロック
（ｌｏａｄ ｌｏｃｋ）室のロードロックカセットから
取り出し、これを処理モジュールの処理室に搬入する。
処理室で所定の処理が成された被処理体は移送装置によ
り搬出され、次の処理モジュール、ロードロックモジュ
ール又はその外のモジュールに搬送される。
【０００５】こうしたクラスタシステムに使用される移
送装置は、ベースに第１アームが回動可能に連結され、
第１アームに対して第２アームが回動可能に連結され、
第２アームの端にはハンドラが回動可能に連結されて相
互相対的な回動運動する多関節状の蛙後足形（ｆｒｏｇ
−ｌｅｇ ｔｙｐｅ）より成る。こうした移送装置は平
面上でウェーハハンドリングが行われるため、水平アー
ムの動作のために広い空間を必要とした。
送装置は、ベースに第１アームが回動可能に連結され、
第１アームに対して第２アームが回動可能に連結され、
第２アームの端にはハンドラが回動可能に連結されて相
互相対的な回動運動する多関節状の蛙後足形（ｆｒｏｇ
−ｌｅｇ ｔｙｐｅ）より成る。こうした移送装置は平
面上でウェーハハンドリングが行われるため、水平アー
ムの動作のために広い空間を必要とした。
【０００６】前述した通常的なクラスタシステムに用い
られている従来の移送装置では、以下のようないくつか
の問題を有する。
られている従来の移送装置では、以下のようないくつか
の問題を有する。
【０００７】すなわち、平面上のウェーハハンドリング
により水平アームの一連の平面的な回転動作のための広
い空間が必要である。このため、装置が必要とする設置
占有面積（これをフートプリント（ｆｏｏｔｐｒｉｎ
ｔ）と称する）として広い場所が必要なため、全体的な
設備の占有面積も増加し、単位面積当たり空間効率が下
がるという問題がある。
により水平アームの一連の平面的な回転動作のための広
い空間が必要である。このため、装置が必要とする設置
占有面積（これをフートプリント（ｆｏｏｔｐｒｉｎ
ｔ）と称する）として広い場所が必要なため、全体的な
設備の占有面積も増加し、単位面積当たり空間効率が下
がるという問題がある。
【０００８】これは、量産ラインの場合、製造ラインの
維持費用の増加、及び自動化の物流移送の非効率化等の
問題が発生される。そして、こうした移送距離をカバー
するため必然的にアームの長さが長くなり得るしかな
い。また、ウェーハの移動距離が長くなることによる処
理量が制限されてしまうといった問題もある。
維持費用の増加、及び自動化の物流移送の非効率化等の
問題が発生される。そして、こうした移送距離をカバー
するため必然的にアームの長さが長くなり得るしかな
い。また、ウェーハの移動距離が長くなることによる処
理量が制限されてしまうといった問題もある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、移送
装置の設置占有面積を最小限に縮められる新たな形態の
ウェーハ移送装置を提供することであり、この移送装置
を用いた被移送体の移送方法を提供することである。
装置の設置占有面積を最小限に縮められる新たな形態の
ウェーハ移送装置を提供することであり、この移送装置
を用いた被移送体の移送方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ための本発明は、被移送体を移送する装置において、ベ
ースと、前記ベース上に設けられ、第１方向に沿って移
動可能で、第１方向を軸として回動可能な第１アーム
と、前記第１アームの一端部で前記第１方向と直交する
方向の第１ピボットで回動可能に連結され前記第１方向
と直交する第２方向に延びた第１部分と該第１部分から
前記第１方向に延びた第２部分とを持つ第２アームと、
前記第２アームの前記第２部分の第１方向端部に、前記
第１方向と直交する方向の第２ピボットで回動可能に連
結され、前記被移送体を保持するハンドと、を有するこ
とを特徴とする被移送体移送装置である。
ための本発明は、被移送体を移送する装置において、ベ
ースと、前記ベース上に設けられ、第１方向に沿って移
動可能で、第１方向を軸として回動可能な第１アーム
と、前記第１アームの一端部で前記第１方向と直交する
方向の第１ピボットで回動可能に連結され前記第１方向
と直交する第２方向に延びた第１部分と該第１部分から
前記第１方向に延びた第２部分とを持つ第２アームと、
前記第２アームの前記第２部分の第１方向端部に、前記
第１方向と直交する方向の第２ピボットで回動可能に連
結され、前記被移送体を保持するハンドと、を有するこ
とを特徴とする被移送体移送装置である。
【００１１】ここで、第１方向は地面に対して垂直方向
であり得る。したがって、第２方向は水平方向であり得
る。
であり得る。したがって、第２方向は水平方向であり得
る。
【００１２】このような本発明において、第１アーム
と、上部アームと、ハンドとの各連結関節はそれら各々
に対応する駆動手段により各々独立的に回動される。
と、上部アームと、ハンドとの各連結関節はそれら各々
に対応する駆動手段により各々独立的に回動される。
【００１３】このような本発明において、ハンドはウェ
ーハを運搬する時、地面と常に水平を維持するように回
動できる。
ーハを運搬する時、地面と常に水平を維持するように回
動できる。
【００１４】また、本発明は、請求項１〜３のいずれか
一つに記載の被移送体移送装置を用いた被移送体の移送
方法であって、前記被移送体を移送する方向へ第１アー
ムを回転する段階と、前記第１アームを第１方向へ移動
させる段階と、前記第１ピボットを軸として、第２アー
ムを回動させるとともに、第２ピボットを軸としてハン
ドを回動させて、前記ハンドが常に水平を維持したまま
前記第２方向に移動させる段階と、を有することを特徴
とする被移送体移送方法である。
一つに記載の被移送体移送装置を用いた被移送体の移送
方法であって、前記被移送体を移送する方向へ第１アー
ムを回転する段階と、前記第１アームを第１方向へ移動
させる段階と、前記第１ピボットを軸として、第２アー
ムを回動させるとともに、第２ピボットを軸としてハン
ドを回動させて、前記ハンドが常に水平を維持したまま
前記第２方向に移動させる段階と、を有することを特徴
とする被移送体移送方法である。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
した図１及び図１２を参照して、より詳細に説明する。
図面において、同一な機能を遂行する構成要素に対して
は同一な参照番号が併記されている。
した図１及び図１２を参照して、より詳細に説明する。
図面において、同一な機能を遂行する構成要素に対して
は同一な参照番号が併記されている。
【００１６】また、本発明の実施の形態は色々の形態で
変形でき、本発明の範囲が後述する実施の形態により限
定されることと解析されてはいけない。本実施の形態は
当業界で平均的な知識を持つ者に本発明をより完全に説
明するために提供されることである。したがって、図面
での要素の形状等はより明確な説明を強調するために誇
張されたものである。
変形でき、本発明の範囲が後述する実施の形態により限
定されることと解析されてはいけない。本実施の形態は
当業界で平均的な知識を持つ者に本発明をより完全に説
明するために提供されることである。したがって、図面
での要素の形状等はより明確な説明を強調するために誇
張されたものである。
【００１７】図１及び図２は本発明を適用した実施の形
態によるウェーハ移送装置を示す斜視図及び正面図であ
る。
態によるウェーハ移送装置を示す斜視図及び正面図であ
る。
【００１８】図１及び図２を参照すると、ウェーハ移送
装置１００は、ベース１１０と、下部アーム（第１アー
ム）１２０と、上部アーム（第２アーム）１３０と、ハ
ンド１４０とより成る。
装置１００は、ベース１１０と、下部アーム（第１アー
ム）１２０と、上部アーム（第２アーム）１３０と、ハ
ンド１４０とより成る。
【００１９】ベース１１０は、たとえばトランスファー
チャンバの底に設けられる。下部アーム１２０は、この
ベース１１０上に第１方向ｚ（地面に対して垂直方向、
以下、垂直方向という）に沿って移動可能なように、そ
して垂直方向ｚを軸として回動可能なように設けられて
いる。
チャンバの底に設けられる。下部アーム１２０は、この
ベース１１０上に第１方向ｚ（地面に対して垂直方向、
以下、垂直方向という）に沿って移動可能なように、そ
して垂直方向ｚを軸として回動可能なように設けられて
いる。
【００２０】この下部アーム１２０の上下移動、すなわ
ち、垂直方向の移動は、図１０に示すようなシリンダ駆
動方式、図１１に示すようなカム駆動方式、または、図
１２に示すようなラックギヤ駆動方式等の多様な方式よ
り構成することができる。
ち、垂直方向の移動は、図１０に示すようなシリンダ駆
動方式、図１１に示すようなカム駆動方式、または、図
１２に示すようなラックギヤ駆動方式等の多様な方式よ
り構成することができる。
【００２１】上部アーム１３０は、下部アーム１２０と
第１ピボットｒ１により回動可能に連結されており、水
平方向に延びた水平部分（第１部分）とこの水平部分か
ら垂直方向に延びている垂直部分（第２部分）を有する
ほぼ“Ｌ”字形状をしている。
第１ピボットｒ１により回動可能に連結されており、水
平方向に延びた水平部分（第１部分）とこの水平部分か
ら垂直方向に延びている垂直部分（第２部分）を有する
ほぼ“Ｌ”字形状をしている。
【００２２】この上部アーム１３０は、水平部分が下部
アーム１２０の上端に設けられている第１ピボットｒ１
を軸として、図示ａ方向に沿うように回動する。
アーム１２０の上端に設けられている第１ピボットｒ１
を軸として、図示ａ方向に沿うように回動する。
【００２３】そして、この上部アーム１３０は、下部ア
ーム１２０の上端に垂直に立てられた状態で待機し、こ
のとき設置場所の投影面が最小面積となる。
ーム１２０の上端に垂直に立てられた状態で待機し、こ
のとき設置場所の投影面が最小面積となる。
【００２４】また、ウェーハ移送時には、前進方向ａへ
回動して上部アーム１３０の長さｘ１とハンド長さ（ハ
ンドにホールディングされたウェーハの中心からハンド
の回転軸の間の距離）ｘ２との和がウェーハ移送距離Ｌ
と相応する。
回動して上部アーム１３０の長さｘ１とハンド長さ（ハ
ンドにホールディングされたウェーハの中心からハンド
の回転軸の間の距離）ｘ２との和がウェーハ移送距離Ｌ
と相応する。
【００２５】ハンド１４０は、ウェーハｗをホールディ
ングする部分であって、上部アーム１３０の垂直端に第
２ピボットｒ２により連結されている。
ングする部分であって、上部アーム１３０の垂直端に第
２ピボットｒ２により連結されている。
【００２６】このハンド１４０は、水平方向ｘを軸とし
て上部アーム１３０の回動方向ａと反対方向ｂへ回動さ
れる。このハンド１４０の回動はウェーハｗを運搬する
時、地面と常に水平を維持するようにするためである。
て上部アーム１３０の回動方向ａと反対方向ｂへ回動さ
れる。このハンド１４０の回動はウェーハｗを運搬する
時、地面と常に水平を維持するようにするためである。
【００２７】下部ブーム１２０の回転動作、下部アーム
１２０と上部アーム１３０の連結軸である第１ピボット
ｒ１での回動動作、上部アーム１３０とハンド１４０の
連結軸である第２ピボットｒ２の回転動作は、それら各
々に対応する駆動手段、たとえばステッピングモータや
サーボモータとタイミングベルト等との組み合わせ（図
面の単純化のために表示せず）等により各々独立的に成
される。このような駆動手段は、たとえば、通常の多関
節ロボットに使用される機械的装置により具現されるこ
とが望ましい。
１２０と上部アーム１３０の連結軸である第１ピボット
ｒ１での回動動作、上部アーム１３０とハンド１４０の
連結軸である第２ピボットｒ２の回転動作は、それら各
々に対応する駆動手段、たとえばステッピングモータや
サーボモータとタイミングベルト等との組み合わせ（図
面の単純化のために表示せず）等により各々独立的に成
される。このような駆動手段は、たとえば、通常の多関
節ロボットに使用される機械的装置により具現されるこ
とが望ましい。
【００２８】この移送装置１００によれば、図２（Ａ）
に示すように、垂直に立てられている上部アーム１３０
が、図２（Ｂ）に示すように、下部アーム１２０との接
続部を軸ｒ１としてａ方向へ回動されながら軸ｒ２でｂ
方向に回動することにより、ウェーハｗを地面と水平に
保ちつつ方向ｘに伸びて距離Ｌをウェーハを移送する
（前進状態）。一方、これとは逆の動作により垂直に立
てられることで、ウェーハｗを元の位置に移送する（後
進状態）。
に示すように、垂直に立てられている上部アーム１３０
が、図２（Ｂ）に示すように、下部アーム１２０との接
続部を軸ｒ１としてａ方向へ回動されながら軸ｒ２でｂ
方向に回動することにより、ウェーハｗを地面と水平に
保ちつつ方向ｘに伸びて距離Ｌをウェーハを移送する
（前進状態）。一方、これとは逆の動作により垂直に立
てられることで、ウェーハｗを元の位置に移送する（後
進状態）。
【００２９】そして、上部アーム１３０が垂直に立てら
れた後進状態で下部アーム１２０が回転されてウェーハ
の移送方向を変えられるので、狭い空間（平面的空間）
でもウェーハ移送に対する一連の動作が可能であるとい
う利点がある。
れた後進状態で下部アーム１２０が回転されてウェーハ
の移送方向を変えられるので、狭い空間（平面的空間）
でもウェーハ移送に対する一連の動作が可能であるとい
う利点がある。
【００３０】特に、本発明の移送装置では、ウェーハ移
送距離をカバーするため上部アームの長さを延ばしても
この上部アームが平面的に占める空間、すなわち、移送
装置の設置占有面積（フートプリント）は全く増加しな
いという利点がある。
送距離をカバーするため上部アームの長さを延ばしても
この上部アームが平面的に占める空間、すなわち、移送
装置の設置占有面積（フートプリント）は全く増加しな
いという利点がある。
【００３１】このように、最小のフートプリントが可能
な本発明の移送装置１００は、液晶モニタ装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ装置、半導体製造装置等に
おいて複数の処理を一貫して実行できるクラスタシステ
ムに非常に有用に適用できる。
な本発明の移送装置１００は、液晶モニタ装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ装置、半導体製造装置等に
おいて複数の処理を一貫して実行できるクラスタシステ
ムに非常に有用に適用できる。
【００３２】図３は、本発明の移送装置が適用された半
導体設備を示す図面で、図３（Ａ）が平面図、図３
（ｂ）が図３（Ａ）の（Ｂ）方向から見た正面図、図３
（ｃ）が図３（Ａ）の（ｃ）方向から見た側面図であ
る。
導体設備を示す図面で、図３（Ａ）が平面図、図３
（ｂ）が図３（Ａ）の（Ｂ）方向から見た正面図、図３
（ｃ）が図３（Ａ）の（ｃ）方向から見た側面図であ
る。
【００３３】半導体設備２００は、ウェーハカセット２
４０が置かれるロードロックチャンバ２３０と、所定の
処理が成されるプロセスチャンバ２１０、そして本発明
の移送装置１００が設けられたトランスファーチャンバ
２２０とより成る。ここで、半導体設備２００はトラン
スファーチャンバ２２０の周囲に複数のプロセスチャン
バを備えたマルチチャンバ製造設備としても理解でき
る。移送装置１００はウェーハ（被処理体）をロードロ
ックチャンバ２３０のウェーハカセット２４０から取り
出し、これをプロセスチャンバ２１０へ搬入する一連の
動作を遂行する。
４０が置かれるロードロックチャンバ２３０と、所定の
処理が成されるプロセスチャンバ２１０、そして本発明
の移送装置１００が設けられたトランスファーチャンバ
２２０とより成る。ここで、半導体設備２００はトラン
スファーチャンバ２２０の周囲に複数のプロセスチャン
バを備えたマルチチャンバ製造設備としても理解でき
る。移送装置１００はウェーハ（被処理体）をロードロ
ックチャンバ２３０のウェーハカセット２４０から取り
出し、これをプロセスチャンバ２１０へ搬入する一連の
動作を遂行する。
【００３４】図３乃至図５は、移送装置がロードロック
チャンバのウェーハカセットからウェーハを引き出して
工程チャンバへローディングする過程を順次に示す図面
である。
チャンバのウェーハカセットからウェーハを引き出して
工程チャンバへローディングする過程を順次に示す図面
である。
【００３５】ロードロックチャンバ２３０に置かれたカ
セット２４０からウェーハｗを引き出す過程を具体的に
説明する。
セット２４０からウェーハｗを引き出す過程を具体的に
説明する。
【００３６】まず、下部アーム１２０が垂直方向へ上下
移動すると同時に上部アーム１３０が水平方向ｘを軸と
して回動する。
移動すると同時に上部アーム１３０が水平方向ｘを軸と
して回動する。
【００３７】このときハンド１４０は、下部アーム１２
０に連結された上部アーム１３０の回動によりロードロ
ックチャンバ２３０側へ前進移動する。
０に連結された上部アーム１３０の回動によりロードロ
ックチャンバ２３０側へ前進移動する。
【００３８】前進移動するハンド１４０は上部アーム１
３０の回動方向と反対される方向ｂへ回動して常に地面
と水平を維持しながらカセット上のウェーハをホールデ
ィングさせる。
３０の回動方向と反対される方向ｂへ回動して常に地面
と水平を維持しながらカセット上のウェーハをホールデ
ィングさせる。
【００３９】移送装置１００は、このようにハンド１４
０にウェーハｗがホールディングされた前進状態（上部
アームとハンドとが延べられた状態）（図４に示され
る）で前述した一連の動作を逆に進行すると、移送装置
は後進状態（上部アームとハンドとが折られた状態）
（図５に示される）になる。
０にウェーハｗがホールディングされた前進状態（上部
アームとハンドとが延べられた状態）（図４に示され
る）で前述した一連の動作を逆に進行すると、移送装置
は後進状態（上部アームとハンドとが折られた状態）
（図５に示される）になる。
【００４０】図６乃至図９は引き出したウェーハをプロ
セスチャンバのステージ上にローディングする過程を段
階的に示している。
セスチャンバのステージ上にローディングする過程を段
階的に示している。
【００４１】図面を参照すると、移送装置１００は後進
状態で垂直方向ｚを軸として下部アーム１２０を９０度
回動して、ハンド１４０の端がプロセスチャンバ２１０
を向くように方向を変更する（図６参照）。
状態で垂直方向ｚを軸として下部アーム１２０を９０度
回動して、ハンド１４０の端がプロセスチャンバ２１０
を向くように方向を変更する（図６参照）。
【００４２】次に、ウェーハｗをカセット２４０から引
き出す過程と同様に、下部アーム１２０が垂直方向へ上
下移動し、同時に上部アーム１３０は水平方向を軸とし
て回動する動作によりウェーハｗがホールディングされ
ているハンド１４０は下部アーム１２０に連結された上
部アーム１３０の回動によりプロセスチャンバ２１０側
へ前進移動する（図７参照）。
き出す過程と同様に、下部アーム１２０が垂直方向へ上
下移動し、同時に上部アーム１３０は水平方向を軸とし
て回動する動作によりウェーハｗがホールディングされ
ているハンド１４０は下部アーム１２０に連結された上
部アーム１３０の回動によりプロセスチャンバ２１０側
へ前進移動する（図７参照）。
【００４３】このとき、前進移動するハンド１４０は常
に地面と水平が維持できるように上部アーム１３０の回
動方向と反対される方向へ回動する。プロセスチャンバ
のステージ２１２の上部に位置したウェーハｗはステー
ジ２１２上へ上昇するリフトピン２１４に置かれる（図
８参照）。移送装置１００は前進状態で前述した一連の
動作を逆に進行して後進状態（上部アームとハンドとが
折られた状態）（図９に示される）で待機する。一方、
プロセスチャンバで所定の処理が成されたウェーハは移
送装置により搬出されて、次処理チャンバ、ロードロッ
クチャンバ又はその外のモジュールに搬送される。
に地面と水平が維持できるように上部アーム１３０の回
動方向と反対される方向へ回動する。プロセスチャンバ
のステージ２１２の上部に位置したウェーハｗはステー
ジ２１２上へ上昇するリフトピン２１４に置かれる（図
８参照）。移送装置１００は前進状態で前述した一連の
動作を逆に進行して後進状態（上部アームとハンドとが
折られた状態）（図９に示される）で待機する。一方、
プロセスチャンバで所定の処理が成されたウェーハは移
送装置により搬出されて、次処理チャンバ、ロードロッ
クチャンバ又はその外のモジュールに搬送される。
【００４４】以上のように、本発明による移送装置の構
成及び作用を、実施の形態として、前述した説明及び図
面により示したが、本発明は、このような実施の形態に
限定されるものではなく、本発明の技術的思想を外れな
い範囲内で多様な変化及び変更が可能なことは勿論であ
る。
成及び作用を、実施の形態として、前述した説明及び図
面により示したが、本発明は、このような実施の形態に
限定されるものではなく、本発明の技術的思想を外れな
い範囲内で多様な変化及び変更が可能なことは勿論であ
る。
【００４５】したがって、上述した実施の形態では、本
発明による移送装置を立てた状態、すなわち、図１にお
いてｚ方向を垂直、ｘ方向を水平としているが、このよ
うな設置状態に限らず、ｚ方向が水平、ｘ方向が垂直と
なるように、本発明による移送装置を寝かせた状態とし
て設置してもよいし、さらには、斜めに角度を持った状
態で設置してもよい。また、このような場合には、ハン
ドは常に水平を保つようにしてもよいし、たとえば、ハ
ンドに真空チャックや静電チャックなどの被移送体を吸
着させる装置を用いることで、ハンドを水平に保たなく
てもよいようにしてもよい。
発明による移送装置を立てた状態、すなわち、図１にお
いてｚ方向を垂直、ｘ方向を水平としているが、このよ
うな設置状態に限らず、ｚ方向が水平、ｘ方向が垂直と
なるように、本発明による移送装置を寝かせた状態とし
て設置してもよいし、さらには、斜めに角度を持った状
態で設置してもよい。また、このような場合には、ハン
ドは常に水平を保つようにしてもよいし、たとえば、ハ
ンドに真空チャックや静電チャックなどの被移送体を吸
着させる装置を用いることで、ハンドを水平に保たなく
てもよいようにしてもよい。
【００４６】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、ウェーハ
等の被移送体の移送時にアームの回転半径が最小化で
き、装置の設置占有面積と外部干渉面積とが少なくなり
狭い空間でも設置が可能となる。
等の被移送体の移送時にアームの回転半径が最小化で
き、装置の設置占有面積と外部干渉面積とが少なくなり
狭い空間でも設置が可能となる。
【図１】 本発明の実施の形態によるウェーハ移送装置
を示す斜視図及び正面図である。
を示す斜視図及び正面図である。
【図２】 本発明の実施の形態によるウェーハ移送装置
を示す斜視図及び正面図である。
を示す斜視図及び正面図である。
【図３】 移送装置がロードロックチャンバのウェーハ
カセットからウェーハを引き出して工程チャンバへロー
ディングする過程を説明するための図面である。
カセットからウェーハを引き出して工程チャンバへロー
ディングする過程を説明するための図面である。
【図４】 移送装置がロードロックチャンバのウェーハ
カセットからウェーハを引き出して工程チャンバへロー
ディングする過程を説明するための図面である。
カセットからウェーハを引き出して工程チャンバへロー
ディングする過程を説明するための図面である。
【図５】 移送装置がロードロックチャンバのウェーハ
カセットからウェーハを引き出して工程チャンバへロー
ディングする過程を説明するための図面である。
カセットからウェーハを引き出して工程チャンバへロー
ディングする過程を説明するための図面である。
【図６】 ロードロックチャンバから引き出したウェー
ハをプロセスチャンバのステージ上にローディングする
過程を説明するための図面である。
ハをプロセスチャンバのステージ上にローディングする
過程を説明するための図面である。
【図７】 ロードロックチャンバから引き出したウェー
ハをプロセスチャンバのステージ上にローディングする
過程を説明するための図面である。
ハをプロセスチャンバのステージ上にローディングする
過程を説明するための図面である。
【図８】 ロードロックチャンバから引き出したウェー
ハをプロセスチャンバのステージ上にローディングする
過程を説明するための図面である。
ハをプロセスチャンバのステージ上にローディングする
過程を説明するための図面である。
【図９】 ロードロックチャンバから引き出したウェー
ハをプロセスチャンバのステージ上にローディングする
過程を説明するための図面である。
ハをプロセスチャンバのステージ上にローディングする
過程を説明するための図面である。
【図１０】 下部アームの多様な駆動方式を示す図面で
ある。
ある。
【図１１】 下部アームの多様な駆動方式を示す図面で
ある。
ある。
【図１２】 下部アームの多様な駆動方式を示す図面で
ある。
ある。
１００ 移送装置 １１０ ベース １２０ 下部アーム １３０ 上部アーム １４０ ハンド ２１０ プロセスチャンバ ２２０ トランスファーチャンバ ２３０ ロードロックチャンバ ｗ ウェーハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3C007 AS24 CT04 CT05 CV07 CY36 HS12 HS27 HT02 HT21 5F031 CA02 CA05 FA01 FA07 FA11 FA12 GA02 GA08 GA09 GA24 GA42 GA46 GA47 HA33 LA09 LA11 LA13 LA14 LA15 NA07
Claims (5)
- 【請求項１】 被移送体を移送する装置において、 ベースと、 前記ベース上に設けられ、第１方向に沿って移動可能
で、第１方向を軸として回動可能な第１アームと、 前記第１アームの一端部で前記第１方向と直交する方向
の第１ピボットで回動可能に連結され前記第１方向と直
交する第２方向に延びた第１部分と該第１部分から前記
第１方向に延びた第２部分とを持つ第２アームと、 前記第２アームの前記第２部分の第１方向端部に、前記
第１方向と直交する方向の第２ピボットで回動可能に連
結され、前記被移送体を保持するハンドと、 を有することを特徴とする被移送体移送装置。 - 【請求項２】 前記第１アームと、前記第２アームと、
前記ハンドとの各連結部は、各々に対応する駆動手段に
より各々独立に回動することを特徴とする請求項１に記
載の被移送体移送装置。 - 【請求項３】 前記ハンドは、地面と常に水平を維持す
るように回動することを特徴とする請求項１に記載の被
移送体移送装置。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか一つに記載の被
移送体移送装置を用いた被移送体の移送方法であって、 前記被移送体を移送する方向へ第１アームを回転する段
階と、 前記第１アームを第１方向へ移動させる段階と、 前記第１ピボットを軸として、第２アームを回動させる
とともに、第２ピボットを軸としてハンドを回動させ
て、前記ハンドが常に水平を維持したまま前記第２方向
に移動させる段階と、を有することを特徴とする被移送
体移送方法。 - 【請求項５】 前記ハンドは、前記第２アームとの連結
部において、前記第２アームの回動方向と反対の方向に
回動することを特徴とする請求項４に記載の被移送体移
送方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2001-0020147A KR100428781B1 (ko) | 2001-04-16 | 2001-04-16 | 웨이퍼 이송 장치 및 그 이송 방법 |
| KR2001-020147 | 2001-04-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002373928A true JP2002373928A (ja) | 2002-12-26 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002109193A Expired - Fee Related JP4056283B2 (ja) | 2001-04-16 | 2002-04-11 | 被移送体移送装置及びその移送方法 |
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|---|---|
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| JP (1) | JP4056283B2 (ja) |
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| JP2018190869A (ja) * | 2017-05-09 | 2018-11-29 | キヤノン株式会社 | 搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
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| DE112014003220T5 (de) * | 2013-07-11 | 2016-04-28 | Kla-Tencor Corporation | Konfigurationen für einen Metrologietisch und Verfahren zum Betreiben des Metrologietisches |
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| JP7296825B2 (ja) * | 2019-08-26 | 2023-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置装置の制御方法、載置装置および検査装置 |
| JP7005690B2 (ja) * | 2020-06-17 | 2022-02-10 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、およびプログラム |
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| US3033059A (en) * | 1958-09-19 | 1962-05-08 | Gen Mills Inc | Drive means for remote control manipulator |
| US4382743A (en) * | 1981-02-23 | 1983-05-10 | Newell Lawrence H | Loading apparatus with a tiltable and extendable fork carriage mounted thereon |
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-
2001
- 2001-04-16 KR KR10-2001-0020147A patent/KR100428781B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-04-10 US US10/120,477 patent/US6991419B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-11 JP JP2002109193A patent/JP4056283B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP4056283B2 (ja) | 2008-03-05 |
| US20020150456A1 (en) | 2002-10-17 |
| US6991419B2 (en) | 2006-01-31 |
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