JP2000164689A - 基板保持具および基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の主面の全体にわたって均一に処理液が
供給されるように、適切なフローを形成して基板を処理
する技術を提供する。 【解決手段】 基板Ｗを保持するボート２０は、搬送ロ
ボット用係合部２３とリフタ用係合部２４とを備える。
ボート２０は、基板浸漬時において、処理槽ＭＢの底面
ＢＦ上に直接載置されず、底面ＢＦから所定の距離を置
いた上方位置で、リフタＬＦによって保持される。これ
らの係合部２３，２４は基板Ｗの整列方向の端部に存在
する結合部材２２の外面側に設けられており、処理液の
フローを阻害しない。また、リフタＬＦの連結部材３３
が、処理液に対する整流板として処理液のフローを対称
にすることができる。この際、基板受け部材２１の中央
部材２１Ａも協働して整流機能を果たす。処理後の基板
Ｗは、ボート２０に保持されたまま、ボート搬送ロボッ
トによって搬送され、基板に対する直接接触を伴う授受
の回数も少ない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示器用基板等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板（以下「基板」という）を処理液に浸漬させて処理
する基板処理装置と、そのような基板処理装置において
基板を保持するために好適な基板保持具とに関する。

【０００２】

【従来の技術】複数の基板を縦姿勢で保持して処理液の
中に浸漬する装置として、特開平９−３３０９０１号公
報に開示された装置がある。この従来装置では、搬送用
キャリアから移載された複数の基板を処理用キャリアに
よって縦姿勢で保持し、その処理用キャリアを搬送ロボ
ットで水平搬送するとともに、その処理用キャリアを昇
降自在なリフタに受渡し、そのリフタが処理用キャリア
を基板とともに処理槽内の処理液に浸漬させるよう構成
されている。

【０００３】このようなタイプの装置（キャリア付き装
置）は、基板をキャリアを介さずに直接に搬送ロボット
やリフタで保持して処理液中に浸漬するタイプの装置
（キャリアレス装置）と比較して、基板に直接接触する
状態で搬送ロボットやリフタとの間での基板を受渡す必
要がなくなるため、搬送不良が生じにくいという利点が
ある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のキャ
リア付き装置では、図１６に模式的に示すように、処理
用キャリア５２０を搬送ロボットで搬送する際には基板
Ｗの整列方向Ｙに伸びるフランジ部５２１の部分を搬送
ロボットの開閉自在なチャック６０１で挟持して懸架す
るようになっている。また、リフタによって処理用キャ
リア５２０を支持するときには、整列方向Ｙに伸びたリ
フタアーム６０２を処理用キャリアの底部の両端部５２
２に係合させて持ち上げるように構成されている。

【０００５】このため、このような従来装置では、処理
用キャリア５２０には整列方向Ｙに沿ってフランジ部５
２１が存在し、また、処理用キャリア５２０をリフタで
保持して処理液中に浸漬させる際には整列方向Ｙに伸び
たリフタアーム６０２が処理用キャリア５２０の底部両
端に存在することになる。

【０００６】このような状況は、静止状態の処理液に基
板を浸漬させるだけであればさほどの障害にならない
が、基板の主面に沿って処理液にフロー（流れ）を生じ
させて基板の処理効率を向上させようとする際には処理
液のフローの流線を乱し、ひいては基板処理の効率性や
均一性を阻害する原因となる。

【０００７】そして、これは、「処理用キャリア」と呼
ばれているかどうかにかかわらず、基板を保持して処理
液中に浸漬させる際に使用されるとともに、基板を保持
したままリフタから搬送ロボットに受け渡される基板保
持具一般について解決すべき問題となっている。

【０００８】本発明の第１の目的は、上述のような点に
鑑み、適切なフローが形成できて、基板の主面の全体に
わたって均一に処理液が供給できる基板保持具を提供す
ることにある。

【０００９】また、本発明の第２の目的は、基板の主面
の全体にわたって均一に処理液が供給されるように、適
切なフローを形成して基板を処理できる基板処理装置を
提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るため、請求項１に記載の基板保持具は、複数の基板の
浸漬処理を行う基板処理装置において、前記複数の基板
を保持した状態で搬送手段によって搬送されるととも
に、昇降自在な昇降手段によって支持されて前記複数の
基板とともに所定の処理液へ浸漬される基板保持具であ
って、複数の基板をその主面が互いに略平行となる縦姿
勢の状態で保持するとともに、互いに所定の間隔をおい
て配列された複数の基板受け部材と、前記複数の基板受
け部材の両端部のそれぞれにおいて、各基板受け部材を
相互に結合する１組の結合部材と、前記１組の結合部材
の少なくともひとつの外面側に設けられ、前記昇降手段
と係合可能な昇降用係合部と、前記１組の結合部材の少
なくともひとつの外面側に設けられ、前記搬送手段と係
合可能な搬送用係合部と、を備えることを特徴とする。

【００１１】請求項２に記載の基板保持具は、請求項１
に記載の基板保持具において、前記複数の基板受け部材
は、板面が立った状態で略水平方向に伸びた長板状の中
央部材を含み、前記基板保持具が、前記中央部材を通る
鉛直面に関して実質的に対称の形状とされていることを
特徴とする。

【００１２】上記第２の目的を達成するため、請求項３
に記載の基板処理装置は、請求項１または請求項２に記
載の基板保持具によって保持された複数の基板を所定の
処理液に浸漬して処理する基板処理装置であって、処理
液を貯留する処理槽と、前記処理槽内に処理液を供給す
る処理液供給手段と、前記昇降用係合部に係合して前記
基板保持具を保持し、前記基板保持具を昇降させる昇降
手段と、前記搬送用係合部に係合して前記基板保持具を
保持し、前記基板保持具を搬送する基板搬送手段と、を
備えることを特徴とする。

【００１３】請求項４に記載の基板処理装置は、前記昇
降用係合部が前記１組の結合部材のそれぞれに設けられ
た請求項１に記載の基板保持具によって保持された複数
の基板を所定の処理液に浸漬して処理する基板処理装置
であって、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内に
処理液を供給する処理液供給手段と、前記昇降用係合部
に係合して前記基板保持具を保持し、前記基板保持具を
昇降させる昇降手段と、前記搬送用係合部に係合して前
記基板保持具を保持し、前記基板保持具を搬送する基板
搬送手段と、を備え、前記昇降手段は、前記１組の結合
部材のそれぞれに設けられる前記昇降用係合部に係合し
て、前記基板保持具をその両端部においてそれぞれ保持
する１組の基板保持具受け部材と、前記１組の基板保持
具受け部材の相互間をその両下端部において連結する連
結部材とを有し、前記連結部材は、基板浸漬時において
基板保持具に保持される基板の中央下方に位置するよう
に設けられて、板面が立った状態で略水平方向に伸びた
長板状の部材であることを特徴とする。

【００１４】請求項５に記載の基板処理装置は、前記昇
降用係合部が前記１組の結合部材のそれぞれに設けられ
た請求項２に記載の基板保持具によって保持された複数
の基板を所定の処理液に浸漬して処理する基板処理装置
であって、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内に
処理液を供給する処理液供給手段と、前記昇降用係合部
に係合して前記基板保持具を保持し、前記基板保持具を
昇降させる昇降手段と、前記搬送用係合部に係合して前
記基板保持具を保持し、前記基板保持具を搬送する基板
搬送手段と、を備え、前記昇降手段は、前記１組の結合
部材のそれぞれに設けられる前記昇降用係合部に係合し
て、前記基板保持具をその両端部においてそれぞれ保持
する１組の基板保持具受け部材と、前記１組の基板保持
具受け部材の相互間をその両下端部において連結する連
結部材とを有し、前記連結部材は、基板浸漬時において
基板保持具に保持される基板の中央下方に位置するよう
に設けられて、板面が立った状態で略水平方向に伸びた
長板状の部材であり、前記昇降手段が前記基板保持具を
保持した状態で前記中央部材と上下方向に整列すること
を特徴とする。

【００１５】

【発明の実施の形態】＜Ａ．第１実施形態＞ ＜装置および動作の概要＞図１は、この発明の第１実施
形態に係る基板処理装置１の概略平面図であり、図２
は、概略側面図である。図示のように、基板処理装置１
は、カセット載置部２と、基板取出部３と、基板移載部
４と、処理部５Ａ〜５Ｄとを備える。

【００１６】基板処理装置１において処理の対象となる
複数の未処理基板は、カセットＣＳに収容された状態で
カセット載置部２の所定位置に載置される。そして、載
置されたカセットＣＳは、水平移動、昇降移動及び垂直
軸回りの回転が可能なカセット移載ロボット１２によっ
て、基板取出部３に移載される。

【００１７】基板取出部３は、昇降移動する一対の基板
ホルダ３ａ，３Ｂを備える。各基板ホルダ３ａ，３Ｂの
上面には基板保持用の溝が刻設されており、カセットＣ
Ｓ中の未処理基板を垂直かつ互いに平行に支持すること
ができるようになっている。したがって、基板ホルダ３
ａ，３Ｂが上昇すると、位置Ｐ３２（図２）に配置され
るカセットＣＳの内部から複数の基板が同時に取り出さ
れる。

【００１８】カセットＣＳから取り出された基板Ｗは、
位置Ｐ３３において基板移載ロボット１４が有する一対
の回転可能なハンド１４ａによって把持され、基板移載
ロボット１４の水平移動に伴って、基板移載部４のボー
ト昇降用のリフタ３０（ＬＦ）上の位置Ｐ４３にまで水
平移動される。そして、基板移載ロボット１４に直接的
に把持されるこれらの複数の基板Ｗは、リフタ３０の上
昇動作に伴って、リフタ３０上に配置されるボート（基
板保持具）２０に移載され、所定の位置Ｐ４４にまで上
昇する。

【００１９】その後、ボート２０は、ボート搬送ロボッ
ト１６の回転可能な一対のハンド１６ａによって保持さ
れ、リフタ３０からボート搬送ロボット１６へと受け渡
される。このボート搬送ロボット１６は、基板移載部４
および処理部５に亙って水平方向（矢印Ａ２）に移動可
能であり、このボート搬送ロボット１６の水平移動に伴
って、ボート２０に保持される基板Ｗが、他の処理部５
Ａ〜５Ｄに対して搬送される。

【００２０】処理部５は、薬液処理部５Ａ、水洗処理部
５Ｂ、多機能処理部５Ｃ、乾燥処理部５Ｄを有し、これ
らの複数の処理部５Ａ〜５Ｄにおいて、順次洗浄処理お
よび乾燥処理が行われる。

【００２１】薬液処理部５Ａは、薬液を収容する薬液槽
ＣＢを有し、水洗処理部５Ｂは、純水を収容する水洗槽
ＷＢを有する。また多機能処理部５Ｃは、単一槽内で各
種の薬液処理や水洗処理を行う処理槽ＭＢを有する。さ
らに乾燥処理部５Ｄは、基板の乾燥を行うための図示し
ない乾燥装置をその内部に有している。

【００２２】また各処理部５Ａ〜５Ｄは、それぞれ、昇
降可能なリフタＬＦ（３０Ａ〜３０Ｄ）をさらに有して
おり、ボート２０に保持される複数の基板をボート搬送
ロボット１６との間で授受することができる。それぞれ
のリフタＬＦは、その昇降可能範囲の上部位置において
ボート搬送ロボット１６に把持されるボート２０を受け
取った後、下降してボート２０上の基板Ｗを処理液に浸
漬するなどして各処理部における処理を行うことができ
る。

【００２３】そして各処理部において所定の一連の処理
が終了した後、上記で説明した動作と逆の動作によっ
て、ボート搬送ロボット１６に把持された複数の基板Ｗ
は、基板移載部４においてボート２０から取り出された
後、基板取出部３およびカセット載置部２を介して、カ
セットＣＳに収容されて基板処理装置１の外部に搬出さ
れる。

【００２４】＜ボート２０＞ここで、複数の基板を保持
する基板保持具であるボート２０について図３の概略斜
視図を参照しながら説明する。ボート２０は、複数（図
では３本）の基板受け部材２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１
Ｃ）と、１組の結合部材２２と、各結合部材２２の外面
側から突出する凸部として形成される円柱形状の搬送ロ
ボット用係合部２３と、各結合部材２２の外面側から突
出する凸部として形成される円柱形状のリフタ用係合部
２４とを有している。

【００２５】複数の基板受け部材２１は、基板の主面
（半導体デバイスなどが作成される面）に垂直な略水平
方向に延びて配列した長板状（あるいは棒状）の部材で
あり、基板Ｗの中央下部を支持する中央部材２１Ａと、
基板Ｗの側部を支持する部材２１Ｂ，２１Ｃとを含む。
中央部材２１Ａおよび側部の部材２１Ｂ、２１Ｃが長板
状の場合は、図３中に示すようにそれらの板面ＰＦが立
った状態で略水平方向に伸びた配置関係にあることが好
ましい。

【００２６】各基板受け部材２１は、複数の基板保持溝
ＧＶを有し、この基板保持溝ＧＶにおいて基板Ｗを支持
することによって、複数の基板をその主面が互いに略平
行となる状態で保持することができる。これらの部材２
１Ａ〜２１Ｃは、互いに所定の間隔をおいて配置され、
基板処理時においては、この基板受け部材２１相互間の
間隙を通過して、基板に対して処理液などが供給され
る。また、１組の結合部材２２は、複数の基板受け部材
２１の両端部のそれぞれにおいて各基板受け部材２１
（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ）を相互に結合する部材であ
る。このボート２０は、中央部材２１Ａを通る鉛直面に
関して実質的に面対称の形状となっている。

【００２７】このボート２０は、ボート搬送ロボット１
６およびリフタＬＦのそれぞれに対して着脱自在であ
り、次述するように、ボート２０の搬送ロボット用係合
部２３およびリフタ用係合部２４を利用して、それぞ
れ、ボート搬送ロボット１６およびリフタＬＦによって
保持される。

【００２８】＜ボート搬送ロボット１６およびリフタＬ
Ｆ＞図４は、図２と同じ方向（Ｙ方向）から見たボート
搬送ロボット１６の側面図であり、図５はそれに対して
垂直な方向（Ｘ方向）から見たボート搬送ロボット１６
の側面図である。これらの図に示されるように、ボート
搬送ロボット１６は、軸Ａ１に対して矢印ＡＲ１の方向
に回転して開閉可能な一対のハンド１６ａと、本体１６
ｂとを有している。また、ハンド１６ａは、その下側先
端部付近において、半円状の切り欠き部１６ｃを有して
おり、ボート２０の搬送ロボット用係合部２３との間で
係合することができる。これにより、ボート搬送ロボッ
ト１６はボート２０を懸架して保持することが可能であ
る。

【００２９】また、図６の斜視図に示すように、リフタ
ＬＦ（３０，３０Ａ〜３０Ｄ）は、１組のボート受け部
材３１と、昇降駆動軸３２と、昇降駆動部ＤＬとを有し
ている。また、１組のボート受け部材３１は、その相互
間をその両下端部において連結部材３３によって連結さ
れている。ボート受け部材３１、昇降駆動軸３２、およ
び連結部材３３は、図示のように固定接続されており、
これらが一体となって、昇降駆動部ＤＬにより矢印ＡＺ
１の方向に昇降駆動される。好ましくは連結部材３３は
板面ＬＦＰが立った状態で略水平方向に伸びた長板状の
部材であり、図８を参照して後述するように、リフタＬ
Ｆによってボート２０を保持したとき、連結部材３３と
中央部材２１Ａとは上下方向に整列する。

【００３０】ボート受け部材３１は、リフタ用係合部２
４と係合することが可能な切り欠き部（係合端）３１ａ
を有している。この切り欠き部３１ａを用いて、ボート
２０の（Ｙ方向の）両端部側に設けられているリフタ用
係合部２４を支持することによって、ボート２０を保持
することができる。

【００３１】＜基板浸漬処理動作＞つぎに、基板処理装
置１における基板の浸漬処理動作について説明する。上
述したように、処理対象となる基板Ｗは、カセットＣＳ
（図２）から取り出された後、基板移載ロボット１４に
よって直接的に把持され、基板移載部４のリフタ３０上
に配置されるボート２０に移載される。そして、これら
の基板Ｗは、ボート搬送ロボット１６によって、ボート
２０に保持された状態で各処理部５Ａ〜５Ｄに対して搬
送される。ここでは、これらの基板Ｗが多機能処理部５
Ｃに対して搬送され、所定の処理が行われる場合につい
て説明する。

【００３２】多機能処理部５Ｃの上方位置Ｐ５４に搬送
されたボート２０は、ボート搬送ロボット１６からリフ
タＬＦへと受け渡される。図４に示すように、下方より
上昇したリフタＬＦ（３０Ｃ）の切り欠き部３１ａがボ
ート２０のリフタ用係合部２４と係合することにより、
ボート２０はリフタＬＦに保持される。そして、ボート
搬送ロボット１６のハンド１６ａが矢印ＡＲ１の方向に
開くことによって、ハンド１６ａに保持されていたボー
ト２０がリフタＬＦに受け渡される。その後、リフタＬ
ＦがＺ軸の負の向きに下降して、多機能処理槽ＭＢ内に
貯留される処理液に浸漬される。

【００３３】図７は、リフタＬＦに保持されるボート２
０が、多機能処理槽ＭＢ内に浸漬されている状態を示す
図である。この状態において、ボート２０に保持される
複数の基板Ｗに対して、所定の処理液Ｌ１による処理が
行われる。図８の概略側面図に示すように、多機能処理
槽ＭＢは、Ｙ方向に延びる供給管５１を有しており、供
給管５１に設けられた供給口５１ａから処理液が多機能
処理槽ＭＢに対して供給される。また、多機能処理槽Ｍ
Ｂから溢れた処理液は、処理液回収溝５２によって回収
され、フィルタ（図示せず）などを介して循環供給され
得る。

【００３４】これらの図に示すように、ボート２０は、
基板Ｗの浸漬処理中において、処理槽ＭＢの底面ＢＦ上
に直接載置されず、底面ＢＦから所定の距離を置いた上
方位置で、リフタＬＦによって保持されている。そのた
め、処理槽ＭＢの底面ＢＦ付近に配置される供給口５１
ａから供給される処理液のフローを形成するにあたって
障害となるような部材を処理槽ＭＢの底面ＢＦ近傍に配
置しなくて済む。また、搬送ロボット用係合部２３やリ
フタ用係合部２４が結合部材２２の外面側に形成されて
いるため、基板Ｗへ向かう処理液のフローをこれらの係
合部２３，２４が乱すこともない。したがって、ボート
２０に保持される複数の基板Ｗに対して、その主面の全
体にわたって均一に処理液Ｌ１が供給されるように、適
切なフローを形成して基板Ｗを処理することが可能にな
る。

【００３５】また、図８に示すように、連結部材３３
は、ボート２０浸漬時において中央部材２１Ａの直下に
位置し、ボート２０に保持される基板Ｗの中央下方に位
置するように設けられている。この連結部材３３は、Ｘ
Ｚ平面に平行な平面における断面形状が鉛直方向（Ｚ方
向）に細長い矩形状となっている。そのため、供給口５
１ａから供給される処理液は、連結部材３３に向けて進
行したのち、図中に矢印で示すように、基板Ｗの主面に
平行な面内において鉛直方向の直線に関して線対称とな
るようなフローを形成する。このように、連結部材３３
は、処理液のフローを整える整流板として機能する。し
たがって、基板Ｗの主面の全体にわたって均一に処理液
が供給されるように、適切なフローを形成して基板Ｗの
処理を行うことが可能になる。

【００３６】ここで、ボート２０の中央部材２１Ａは、
連結部材３３の直上に位置し、連結部材３３と協働して
整流機能を果たす。ただし、中央部材２１ＡのＺ方向の
幅が小さいためにこの整流機能が存在しないかあるいは
少ない場合（たとえば、中央部材２１ＡがＺ方向の幅を
十分に有しない棒状の部材である場合）であっても、連
結部材３３がＺ方向に十分な幅を有していれば、この連
結部材３３のみによっても十分な整流機能を果たすこと
ができる。

【００３７】＜ボート２０の分離構造について＞上述し
たように、ボート２０は、リフタＬＦに対して着脱自在
であり、リフタＬＦから分離できる構造となっている。
そして、このボート２０は、基板Ｗを保持したままで、
リフタＬＦとボート搬送ロボット１６との間で授受され
る。言い換えれば、基板Ｗは、ボート２０に保持された
まま授受される。したがって、この際において基板Ｗと
リフタＬＦとの間の直接的な接触が存在しない。たとえ
ば、リフタＬＦ自体に基板を保持する部分を設けて基板
移載ロボット１４との間で直接的に基板Ｗを授受する場
合に比べて、基板に対する直接接触を伴う受け渡しの回
数を減らすことが可能である。これにより、接触に起因
するパーティクルの発生、および基板Ｗの損傷などの可
能性を低減することができる。

【００３８】＜Ｂ．第２実施形態＞第２実施形態に係る
基板処理装置は、第１実施形態の基板処理装置１（図
１、図２）と同様の構成を備えるが、ボート２０の代わ
りにボート１２０（図９）を利用し、リフタＬＦ（３
０，３０Ａ〜３０Ｄ）の代わりに、ボート１２０に対応
する図１０のリフタＬＦ（１３０，１３０Ａ〜１３０
Ｄ）を備える点で異なる。このため、この第２実施形態
の基板処理装置のシステム構成の概要は図１の装置１と
同様であり、図１中においてこの第２実施形態の装置が
参照番号１Ｂによって表現されている。

【００３９】図９を参照すると、ボート１２０は、複数
（図では３本）の基板受け部材１２１（１２１Ａ，１２
１Ｂ，１２１Ｃ）と、１組の結合部材１２２と、各結合
部材１２２の外面側から突出する凸部として形成される
円柱形状の搬送ロボット用係合部１２３と、一方の結合
部材１２２（１２２ａ）の外面側から突出する凸部とし
て形成される円柱形状のリフタ用係合部１２４とを有し
ている。このリフタ用係合部１２４は、比較的大きな半
径を有する円柱形状の部材１２４ａがそれよりも小さな
半径を有する円柱形状の部材１２４ｂによって結合部材
１２２ａに固定される構造を有している。

【００４０】また、図１０の斜視図に示すように、リフ
タＬＦ（１３０，１３０Ａ〜１３０Ｄ）は、ボート受け
部材１３１と、昇降駆動軸１３２と、昇降駆動部ＤＬと
を有している。ボート受け部材１３１と昇降駆動軸１３
２とは、図示のように固定接続されており、一体となっ
て、昇降駆動部ＤＬにより矢印ＡＺ１の方向に昇降駆動
される。

【００４１】ボート１２０およびリフタＬＦ（１３０Ａ
など）の構成要素のそれぞれは、第１実施形態のボート
２０およびリフタＬＦ（３０Ａなど）の対応部分と同様
の構成を有するが、いくつかの相違点を有している。以
下では、この相違点を中心に説明を行う。

【００４２】＜ボート１２０の保持＞まず、本実施形態
においては、リフタＬＦがボート１２０をいわゆる「片
持ち」状態で保持するため、それに対応する構成が相違
している。

【００４３】リフタ用係合部１２４は、１組の結合部材
１２２のうちの片側の結合部材１２２ａにのみ設けられ
ているので、この点において、リフタ用係合部２４が両
側の結合部材２２に設けられている（第１実施形態の）
ボート２０と異なっている。

【００４４】一方のボート受け部材１３１は、リフタ用
係合部１２４が存在する側にのみ設けられており、リフ
タ用係合部１２４と係合することが可能な切り欠き部１
３１ａを有している。この切り欠き部１３１ａを用い
て、ボート１２０の（Ｙ方向の）片側に設けられている
リフタ用係合部１２４を係合保持することによって、ボ
ート１２０を「片持ち」で保持することができる。

【００４５】ここで、上記においては、部材１２４ａ，
１２４ｂを円柱形状としているが、その他の形状、たと
えば、楕円柱形状あるいは矩形形状としてもよい。ま
た、単一のリフタ用係合部１２４を設けるのではなく、
片側の結合部材１２２ａにおいて複数のリフタ用係合部
１２４を設けてもよい。これにより、より安定な保持を
実現することも可能である。

【００４６】＜ボート１２０の整流機能＞また、この第
２実施形態においては、整流機能に関する第１実施形態
との相違点が存在する。第２実施形態のリフタＬＦに
は、整流機能を有する連結部材３３が存在しない。しか
しながら、本実施形態では、ボート１２０の中央部材１
２１Ａが同様の整流機能を果たす。

【００４７】図１１は、リフタＬＦに保持されるボート
１２０が、多機能処理槽ＭＢ内に浸漬されている状態を
示す図である。この状態において、ボート１２０に保持
される複数の基板Ｗに対して、所定の処理液Ｌ１による
処理が行われる。図１２の概略側面図に示すように、多
機能処理槽ＭＢは、Ｙ方向に延びる供給管５１を有して
おり、供給管５１に設けられた供給口５１ａから処理液
が多機能処理槽ＭＢに対して供給される。また、多機能
処理槽ＭＢから溢れた処理液は、処理液回収溝５２によ
って回収される。

【００４８】図１２に示すように、基板の中央下部を支
持する中央部材１２１Ａは、ＸＺ平面に平行な平面にお
ける断面形状が鉛直方向（Ｚ方向）に細長い矩形状、す
なわち板面ＰＦ（図９、図１２）が立った状態で略水平
方向に伸びた長板状となっている。そのため、供給口５
１ａから供給される処理液は、中央部材１２１Ａに向け
て進行したのち、図中に矢印で示すように、基板Ｗの主
面に平行な面内において鉛直方向の直線に関して線対称
となるようなフローを形成する。このように、中央部材
１２１Ａは、処理液のフローを整える整流板として機能
する。したがって、基板Ｗの主面の全体にわたって均一
に処理液が供給されるように、適切なフローを形成して
基板を処理することが可能になる。搬送ロボット用係合
部１２３およびリフタ用係合部１２４が、基板Ｗに向か
う処理液のフローの障害とならないことも、第１の実施
形態と同様である。

【００４９】＜Ｃ．その他の変形例など＞第１実施形態
においては、図８に示すように、連結部材３３により整
流機能を持たせていたが、これに限定されない。

【００５０】たとえば、連結部材３３を設けることな
く、中央部材２１Ａを第２実施形態の中央部材１２１Ａ
（図１２）と同様の構成とすることにより、中央部材２
１Ａに同様の整流機能を持たせることも可能である。

【００５１】また、第１実施形態において、リフタＬＦ
（図７）には、ボート受け部材３１と昇降駆動軸３２と
の間に、基板浸漬時における処理槽ＭＢの側壁部ＳＦと
の干渉を回避するための迂回部分が設けられている。し
かしながら、基板移載部４や、処理槽への基板浸漬を行
わない処理部５（たとえば乾燥処理部５Ａ）に設けられ
るリフタＬＦ（たとえば、３０，３０Ａ）については、
このような迂回部分を有する必要が無く、切り欠き部３
１ａ（図６）の下方側にのみ昇降駆動軸３２が延びるよ
うな構造とすることもできる。第２実施形態におけるリ
フタＬＦについても同様である。

【００５２】さらに、上記実施形態においては、多機能
処理部５Ｃにおける処理について説明したが、その他の
処理部５においても同様の処理が行われ得る。

【００５３】また、上記実施形態においては、ボート２
０（１２０）は、１組の結合部材２２（１２２）のそれ
ぞれの外面側に搬送ロボット用係合部２３（１２３）を
設けているが、これに限定されず、１組の結合部材２２
（１２２）の少なくともひとつの外面側に設ければよ
い。

【００５４】図１３のボート１２０Ａは、そのような変
形例の一つを表す。搬送ロボット用係合部以外の構成に
ついては、第２実施形態のボート１２０と同様である。
ボート１２０Ａは、一方の結合部材１２２ｂのみに搬送
ロボット用係合部１２３Ａを有している。この搬送ロボ
ット用係合部１２３Ａは、結合部材１２２ｂの外面側か
ら突出する凸部として形成されており、比較的大きな半
径を有する円柱形状の部材１２３ａがそれよりも小さな
半径を有する円柱形状の部材１２３ｂによって結合部材
１２２ｂに固定される構造を有している。

【００５５】図１４は、ボート１２０Ａを搬送するボー
ト搬送ロボット１６Ａを表す概略斜視図である。ボート
搬送ロボット１６Ａは、本体１６ｄと一対のハンド１６
ｅとを有している。本体１６ｄは、水平方向（矢印ＡＲ
２の方向）および鉛直方向（矢印ＡＲ３の方向）に移動
可能であり、また一対のハンド１６ｅのそれぞれは、矢
印ＡＲ４に示すように本体１６ｄに対して水平方向に相
対的に移動可能であり、これにより一対のハンド１６ｅ
の相互間の距離を調整することができる。また、ハンド
１６ｅは、その下側先端部付近において、搬送ロボット
用係合部１２３Ａと係合することが可能な切り欠き部１
６ｆを有している。

【００５６】このボート搬送ロボット１６Ａは、ボート
１２０Ａに対向する正面位置にまで水平移動した後、一
対のハンド１６ｅの相互間の距離を広げた状態で下降
し、切り欠き部１６ｆが搬送ロボット用係合部１２３Ａ
よりも下方の所定の位置に到達した時点で、一対のハン
ド１６ｅの相互間の距離を狭くして鉛直方向に上昇す
る。これにより、搬送ロボット用係合部１２３Ａとの干
渉を回避しつつ、ボート搬送ロボット１６Ａの切り欠き
部１６ｆは搬送ロボット用係合部１２３Ａと係合するこ
とができる。このようにして、ボート搬送ロボット１６
Ａは、この切り欠き部１６ｆを用いて、一方の結合部材
１２２ｂにのみ設けられている搬送ロボット用係合部１
２３Ａを係合保持することによって、ボート１２０Ａを
「片持ち」状態で搬送することができる。なお、係合状
態を解除するには、上述の動作と逆の順序の動作を行え
ばよい。

【００５７】図１５のボート１２０Ｂは、さらに別の変
形例であり、搬送ロボット用係合部１２３Ａを設ける位
置が異なる点以外は、ボート１２０Ａと同様の構成を有
している。このボート１２０Ｂは、一方の結合部材１２
２ａ側、すなわち、リフタ用係合部１２４が配設される
側の結合部材にのみ搬送ロボット用係合部１２３Ａを有
しており、もう一方の結合部材１２２ａには、搬送ロボ
ット用係合部１２３Ａを有していない。

【００５８】また、このボート１２０Ｂも、図１４に示
すボート搬送ロボット１６Ａの切り欠き部１６ｆの位置
および向きなどを搬送ロボット用係合部１２３Ａの位置
に合わせて変更したボート搬送ロボットによって搬送可
能である。

【００５９】上記変形例では、リフタＬＦ（図１０）に
よって片持ちで保持されるボート１２０において、ボー
ト搬送ロボット１６Ａが片持ちでボート１２０を保持す
るための片持ち保持用の搬送ロボット用係合部１２３Ａ
を設けた場合を例示したが、リフタＬＦ（図６）によっ
て両持ちで保持されるボート２０（図３）において、搬
送ロボット用係合部２３の代わりに上述の搬送ロボット
用係合部１２３Ａを設けて、ボート搬送ロボット１６Ａ
により「片持ち」で保持して搬送してもよい。

【００６０】

【発明の効果】以上のように、請求項１の基板保持具で
は、搬送手段や昇降手段によって係合保持されるべき係
合部が、基板整列方向の端部側に対応する結合部材の外
側に設けられているため、基板に向かう処理液のフロー
がこれらによって乱されることがない。また、昇降手段
のアームを基板保持具の底部両端に伸ばす必要がないた
め、基板に向かう処理液のフローが昇降手段のアームに
よって実質的に乱されることも防止できる。その結果、
処理液のフローが滑らかになり、基板処理の効率化を図
ることができる。

【００６１】さらに、この基板保持具は昇降手段と搬送
手段とのいずれもが保持することができるため、キャリ
アレス装置と比較して基板に直接接触した状態での受渡
しが少ないというメリットも確保されている。

【００６２】請求項２の基板保持具では、中央部材自身
が整流板として機能するとともに、基板保持具が中央部
材に関して実質的に対称に形成されているため、基板付
近において対称的な処理液フローが実現され、基板処理
の均一性が特に向上する。

【００６３】請求項３の基板処理装置では、請求項１ま
たは請求項２の基板保持具の長所を生かして均一な基板
処理の効果が得られるとともに、キャリアレス装置と比
較して基板に直接接触した状態での受渡しが少ないとい
うメリットも確保される。

【００６４】請求項４の基板処理装置では、昇降手段の
連結部材が整流板として機能するので、基板付近におい
て対称的な処理液フローが実現され、基板処理の均一性
が特に向上する。

【００６５】請求項５の基板処理装置では、整流板とし
て機能する部材として基板保持具の中央部材と昇降手段
の連結部材との２つが存在し、しかもそれらが縦方向に
整列して協働することによって整流機能が特に高くな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る基板処理装置１（１
Ｂ）の概略構成を示す概略平面図である。

【図２】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の
概略側面図である。

【図３】第１実施形態に係るボート２０（基板保持具）
の概略斜視図である。

【図４】Ｙ方向から見たボート搬送ロボット１６の側面
図である。

【図５】Ｘ方向から見たボート搬送ロボット１６の側面
図である。

【図６】第１実施形態に係るリフタＬＦ（３０，３０Ａ
〜３０Ｄ）の斜視図である。

【図７】リフタＬＦに保持されるボート２０が、多機能
処理槽ＭＢ内に浸漬されている状態を示す図である。

【図８】ボート２０に保持される基板Ｗの浸漬状態を示
す概略側面図である。

【図９】第２実施形態に係るボート１２０（基板保持
具）の概略斜視図である。

【図１０】第２実施形態に係るリフタＬＦ（１３０，１
３０Ａ〜１３０Ｄ）の斜視図である。

【図１１】リフタＬＦに保持されるボート１２０が、多
機能処理槽ＭＢ内に浸漬されている状態を示す図であ
る。

【図１２】ボート１２０に保持される基板Ｗの浸漬状態
を示す概略側面図である。

【図１３】ボート１２０の変形例を示す概略斜視図であ
る。

【図１４】ボート搬送ロボット１６の変形例を示す概略
斜視図である。

【図１５】ボート１２０の別の変形例を示す概略斜視図
である。

【図１６】従来例に係る処理用キャリアの概念図であ
る。

【符号の説明】

１，１Ｂ 基板処理装置 ３ 基板取出部 ４ 基板移載部４ ５，５Ａ〜５Ｄ 処理部 １２ カセット移載ロボット １４ 基板移載ロボット １６ ボート搬送ロボット ２０，１２０ ボート ２１Ａ，１２１Ａ 中央部材（基板受け部材） ２３，１２３ 搬送ロボット用係合部 ２４，１２４ リフタ用係合部 ３０，３０Ａ〜３０Ｄ，１３０，１３０Ａ〜１３０Ｄ，
ＬＦ リフタ ３１，１３１ ボート受け部材 ３３ 連結部材 ５１ 供給管 ＢＦ 底面 ＣＢ，ＷＢ，ＭＢ 処理槽 Ｗ 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村岡 祐介 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 DA03 FA01 FA09 FA12 FA19 GA07 GA14 GA15 GA48 GA49 MA23 5F043 DD23 EE02 EE04 EE09 EE21 EE27 EE33 EE35 EE36

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基板の浸漬処理を行う基板処理装
   置において、前記複数の基板を保持した状態で搬送手段
   によって搬送されるとともに、昇降自在な昇降手段によ
   って支持されて前記複数の基板とともに所定の処理液へ
   浸漬される基板保持具であって、 複数の基板をその主面が互いに略平行となる縦姿勢の状
   態で保持するとともに、互いに所定の間隔をおいて配列
   された複数の基板受け部材と、 前記複数の基板受け部材の両端部のそれぞれにおいて、
   各基板受け部材を相互に結合する１組の結合部材と、 前記１組の結合部材の少なくともひとつの外面側に設け
   られ、前記昇降手段と係合可能な昇降用係合部と、 前記１組の結合部材の少なくともひとつの外面側に設け
   られ、前記搬送手段と係合可能な搬送用係合部と、を備
   えることを特徴とする基板保持具。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板保持具において、 前記複数の基板受け部材は、板面が立った状態で略水平
   方向に伸びた長板状の中央部材を含み、 前記基板保持具が、前記中央部材を通る鉛直面に関して
   実質的に対称の形状とされていることを特徴とする基板
   保持具。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の基板保
   持具によって保持された複数の基板を所定の処理液に浸
   漬して処理する基板処理装置であって、 処理液を貯留する処理槽と、 前記処理槽内に処理液を供給する処理液供給手段と、 前記昇降用係合部に係合して前記基板保持具を保持し、
   前記基板保持具を昇降させる昇降手段と、 前記搬送用係合部に係合して前記基板保持具を保持し、
   前記基板保持具を搬送する基板搬送手段と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 前記昇降用係合部が前記１組の結合部材
   のそれぞれに設けられた請求項１に記載の基板保持具に
   よって保持された複数の基板を所定の処理液に浸漬して
   処理する基板処理装置であって、 処理液を貯留する処理槽と、 前記処理槽内に処理液を供給する処理液供給手段と、 前記昇降用係合部に係合して前記基板保持具を保持し、
   前記基板保持具を昇降させる昇降手段と、 前記搬送用係合部に係合して前記基板保持具を保持し、
   前記基板保持具を搬送する基板搬送手段と、を備え、 前記昇降手段は、 前記１組の結合部材のそれぞれに設けられる前記昇降用
   係合部に係合して、前記基板保持具をその両端部におい
   てそれぞれ保持する１組の基板保持具受け部材と、 前記１組の基板保持具受け部材の相互間をその両下端部
   において連結する連結部材とを有し、 前記連結部材は、基板浸漬時において基板保持具に保持
   される基板の中央下方に位置するように設けられて、板
   面が立った状態で略水平方向に伸びた長板状の部材であ
   ることを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】 前記昇降用係合部が前記１組の結合部材
   のそれぞれに設けられた請求項２に記載の基板保持具に
   よって保持された複数の基板を所定の処理液に浸漬して
   処理する基板処理装置であって、 処理液を貯留する処理槽と、 前記処理槽内に処理液を供給する処理液供給手段と、 前記昇降用係合部に係合して前記基板保持具を保持し、
   前記基板保持具を昇降させる昇降手段と、 前記搬送用係合部に係合して前記基板保持具を保持し、
   前記基板保持具を搬送する基板搬送手段と、 を備え、 前記昇降手段は、 前記１組の結合部材のそれぞれに設けられる前記昇降用
   係合部に係合して、前記基板保持具をその両端部におい
   てそれぞれ保持する１組の基板保持具受け部材と、 前記１組の基板保持具受け部材の相互間をその両下端部
   において連結する連結部材とを有し、 前記連結部材は、基板浸漬時において基板保持具に保持
   される基板の中央下方に位置するように設けられて、板
   面が立った状態で略水平方向に伸びた長板状の部材であ
   り、前記昇降手段が前記基板保持具を保持した状態で前
   記中央部材と上下方向に整列することを特徴とする基板
   処理装置。