JPH09260478A - ウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式処理装置及び方法 - Google Patents
ウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式処理装置及び方法Info
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- JPH09260478A JPH09260478A JP6347996A JP6347996A JPH09260478A JP H09260478 A JPH09260478 A JP H09260478A JP 6347996 A JP6347996 A JP 6347996A JP 6347996 A JP6347996 A JP 6347996A JP H09260478 A JPH09260478 A JP H09260478A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 湿式処理を行ったウェーハへのパーティクル
付着を低減させる。 【解決手段】 方形の枠体11と、枠体11の外側面に沿っ
て縦方向に延在し、枠体11を挟んで二本ずつ対向するよ
うに各々の中間部で枠体11に回動自在に軸着された四本
のアーム13と、対向するアーム13を連結するように両端
部がアーム13の下端部に固着されて枠体11の下方で横方
向に延在する二本のウェーハ支持棒14と、を有し、ウェ
ーハ支持棒14にはウェーハの周縁部を挿入する溝がな
く、枠体11のウェーハ支持棒14に平行な対向する二内側
面にはそれぞれウェーハ支持棒14が支持するウェーハの
周縁部を挿入してウェーハの傾斜を抑制する縦溝11a が
設けられたウェーハキャリアとする。湿式処理中はウェ
ーハ支持棒14をウェーハから離す。
付着を低減させる。 【解決手段】 方形の枠体11と、枠体11の外側面に沿っ
て縦方向に延在し、枠体11を挟んで二本ずつ対向するよ
うに各々の中間部で枠体11に回動自在に軸着された四本
のアーム13と、対向するアーム13を連結するように両端
部がアーム13の下端部に固着されて枠体11の下方で横方
向に延在する二本のウェーハ支持棒14と、を有し、ウェ
ーハ支持棒14にはウェーハの周縁部を挿入する溝がな
く、枠体11のウェーハ支持棒14に平行な対向する二内側
面にはそれぞれウェーハ支持棒14が支持するウェーハの
周縁部を挿入してウェーハの傾斜を抑制する縦溝11a が
設けられたウェーハキャリアとする。湿式処理中はウェ
ーハ支持棒14をウェーハから離す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工程においてウェーハの湿式処理に使用するウェーハキ
ャリア、並びにそのウェーハキャリアを含むウェーハ湿
式処理装置及びそのウェーハキャリアを使用するウェー
ハ湿式処理方法に関する。
工程においてウェーハの湿式処理に使用するウェーハキ
ャリア、並びにそのウェーハキャリアを含むウェーハ湿
式処理装置及びそのウェーハキャリアを使用するウェー
ハ湿式処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造に際して、ウェーハの
湿式処理（エッチング、洗浄等）がしばしば行われる。
この場合、通常は複数のウェーハを一つのウェーハキャ
リアに平行に直立させて収納し、このウェーハキャリア
を搬送ロボットが液体槽に搬送してバッチ処理してい
る。
湿式処理（エッチング、洗浄等）がしばしば行われる。
この場合、通常は複数のウェーハを一つのウェーハキャ
リアに平行に直立させて収納し、このウェーハキャリア
を搬送ロボットが液体槽に搬送してバッチ処理してい
る。
【０００３】従来のウェーハキャリア（第一の従来例）
を図６を参照しながら説明する。図６は第一の従来例の
説明図であり、（Ａ）は側断面図、（Ｂ）は上面図であ
る。同図において、８１は下部案内溝、８２は中間部案
内溝、Ｗはウェーハである。ウェーハＷの下部周縁を下
部案内溝８１に挿入し、中間部周縁を中間部案内溝８２
に挿入して、このウェーハＷを略直立させる。
を図６を参照しながら説明する。図６は第一の従来例の
説明図であり、（Ａ）は側断面図、（Ｂ）は上面図であ
る。同図において、８１は下部案内溝、８２は中間部案
内溝、Ｗはウェーハである。ウェーハＷの下部周縁を下
部案内溝８１に挿入し、中間部周縁を中間部案内溝８２
に挿入して、このウェーハＷを略直立させる。
【０００４】ウェーハキャリアを使用せずにウェーハの
湿式処理を行うキャリアレス方式の湿式処理装置がある
（第二の従来例）。これを図７を参照しながら説明す
る。図７は第二の従来例の説明図である。同図におい
て、９１は搬送ロボット、９２は搬送ロボット９１のア
ーム、９３は液体槽、９４はウェーハ支持部材、Ｗはウ
ェーハである。搬送ロボット９１がアーム９２により複
数のウェーハＷを把持して液体槽９３に搬送し、これを
ウェーハ支持部材９４の案内溝内に載置して直立させる
ように構成されている。
湿式処理を行うキャリアレス方式の湿式処理装置がある
（第二の従来例）。これを図７を参照しながら説明す
る。図７は第二の従来例の説明図である。同図におい
て、９１は搬送ロボット、９２は搬送ロボット９１のア
ーム、９３は液体槽、９４はウェーハ支持部材、Ｗはウ
ェーハである。搬送ロボット９１がアーム９２により複
数のウェーハＷを把持して液体槽９３に搬送し、これを
ウェーハ支持部材９４の案内溝内に載置して直立させる
ように構成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、第一の従来
例の場合には、ウェーハがウェーハキャリアの上向きに
開口する案内溝内で支持されるからこの部分に溜まった
パーティクルでのウェーハの汚染が避けられず、製造の
歩留りが低下する、という問題があり、又、第二の従来
例の場合には、搬送ロボットのアームにより多数のウェ
ーハを確実に把持するには高精度の位置制御を必要とす
る上、アームが薬液槽内に浸漬されるからアームを洗浄
する工程と洗浄槽を必要とし、装置が高価になる、とい
う問題があった。
例の場合には、ウェーハがウェーハキャリアの上向きに
開口する案内溝内で支持されるからこの部分に溜まった
パーティクルでのウェーハの汚染が避けられず、製造の
歩留りが低下する、という問題があり、又、第二の従来
例の場合には、搬送ロボットのアームにより多数のウェ
ーハを確実に把持するには高精度の位置制御を必要とす
る上、アームが薬液槽内に浸漬されるからアームを洗浄
する工程と洗浄槽を必要とし、装置が高価になる、とい
う問題があった。
【０００６】本発明は、このような問題を解決して、湿
式処理を行うウェーハへのパーティクル付着を低減させ
ることが可能なウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式
処理装置及びウェーハ湿式処理方法を提供することを目
的とする。
式処理を行うウェーハへのパーティクル付着を低減させ
ることが可能なウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式
処理装置及びウェーハ湿式処理方法を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は、複数のウェーハを略平行に直立保持する
ウェーハキャリアであって、方形の枠体と、該枠体の外
側面に沿って縦方向に延在し、該枠体を挟んで二本ずつ
対向するように各々の中間部で該枠体に回動自在に軸着
された四本のアームと、対向する該アームを連結するよ
うに両端部が該アームの下端部に固着されて該枠体の下
方で横方向に延在する二本のウェーハ支持棒と、を有
し、該枠体の該ウェーハ支持棒に平行な対向する二内側
面にはそれぞれ該ウェーハ支持棒が支持する該ウェーハ
の周縁部を挿入して該ウェーハの傾斜を抑制する縦溝が
設けられているウェーハキャリアとしている。
め、本発明は、複数のウェーハを略平行に直立保持する
ウェーハキャリアであって、方形の枠体と、該枠体の外
側面に沿って縦方向に延在し、該枠体を挟んで二本ずつ
対向するように各々の中間部で該枠体に回動自在に軸着
された四本のアームと、対向する該アームを連結するよ
うに両端部が該アームの下端部に固着されて該枠体の下
方で横方向に延在する二本のウェーハ支持棒と、を有
し、該枠体の該ウェーハ支持棒に平行な対向する二内側
面にはそれぞれ該ウェーハ支持棒が支持する該ウェーハ
の周縁部を挿入して該ウェーハの傾斜を抑制する縦溝が
設けられているウェーハキャリアとしている。
【０００８】又、本発明は、複数のウェーハを直立保持
する請求項１記載のウェーハキャリアと、内部にキャリ
ア支持部材及びウェーハ支持部材を備えた液体槽と、該
ウェーハキャリアの前記アームの上端部に設けた係合部
材と掛着して該ウェーハキャリアを保持搬送する搬送手
段と、を有し、該ウェーハ搬送時には該ウェーハキャリ
アの前記ウェーハ支持棒が該ウェーハキャリアの前記枠
体の下方にあって該ウェーハを支持し、該ウェーハ湿式
処理時には該キャリア支持部材が該枠体を支持するとと
もに該ウェーハ支持部材が該ウェーハを支持し、該ウェ
ーハ支持棒は該ウェーハから離隔するように構成したウ
ェーハ湿式処理装置としている。
する請求項１記載のウェーハキャリアと、内部にキャリ
ア支持部材及びウェーハ支持部材を備えた液体槽と、該
ウェーハキャリアの前記アームの上端部に設けた係合部
材と掛着して該ウェーハキャリアを保持搬送する搬送手
段と、を有し、該ウェーハ搬送時には該ウェーハキャリ
アの前記ウェーハ支持棒が該ウェーハキャリアの前記枠
体の下方にあって該ウェーハを支持し、該ウェーハ湿式
処理時には該キャリア支持部材が該枠体を支持するとと
もに該ウェーハ支持部材が該ウェーハを支持し、該ウェ
ーハ支持棒は該ウェーハから離隔するように構成したウ
ェーハ湿式処理装置としている。
【０００９】又、本発明は、ウェーハの周縁部を、内側
面に縦溝を設けた枠体と該枠体の下方で横方向に延在す
るウェーハ支持棒とを有するウェーハキャリアの該縦溝
に挿入するとともに該ウェーハ支持棒に載置して、複数
のウェーハを該ウェーハキャリアに直立収容する工程
と、該ウェーハキャリアを液体槽内に搬送して該ウェー
ハキャリアの前記枠体を該液体槽内に設けたキャリア支
持部材上に載置し、該ウェーハを該液体槽内に設けたウ
ェーハ支持部材上に載置するとともに、該ウェーハキャ
リアの前記ウェーハ支持棒を側方に移動して該ウェーハ
から離隔する工程と、再び該ウェーハ支持棒を該ウェー
ハの下方に移動して該ウェーハを支持させる工程と、該
ウェーハキャリアを該液体槽外に搬送する工程と、を有
するウェーハ湿式処理方法としている。
面に縦溝を設けた枠体と該枠体の下方で横方向に延在す
るウェーハ支持棒とを有するウェーハキャリアの該縦溝
に挿入するとともに該ウェーハ支持棒に載置して、複数
のウェーハを該ウェーハキャリアに直立収容する工程
と、該ウェーハキャリアを液体槽内に搬送して該ウェー
ハキャリアの前記枠体を該液体槽内に設けたキャリア支
持部材上に載置し、該ウェーハを該液体槽内に設けたウ
ェーハ支持部材上に載置するとともに、該ウェーハキャ
リアの前記ウェーハ支持棒を側方に移動して該ウェーハ
から離隔する工程と、再び該ウェーハ支持棒を該ウェー
ハの下方に移動して該ウェーハを支持させる工程と、該
ウェーハキャリアを該液体槽外に搬送する工程と、を有
するウェーハ湿式処理方法としている。
【００１０】即ち、ウェーハキャリアのウェーハ支持棒
のウェーハ支持部分は平滑であるから、ウェーハはパー
ティクルが溜まり易い上向き開口の案内溝内で支持され
ることがなく、しかも湿式処理中はこのウェーハ支持棒
をウェーハから離すから、ウェーハへのパーティクルの
付着が低減され、従って、半導体装置製造の歩留りが向
上する。
のウェーハ支持部分は平滑であるから、ウェーハはパー
ティクルが溜まり易い上向き開口の案内溝内で支持され
ることがなく、しかも湿式処理中はこのウェーハ支持棒
をウェーハから離すから、ウェーハへのパーティクルの
付着が低減され、従って、半導体装置製造の歩留りが向
上する。
【００１１】又、湿式処理中もウェーハキャリアがその
縦溝でウェーハの傾斜を抑制しているから、キャリアレ
ス方式の湿式処理装置のように高精度の位置制御を必要
とせず、しかも搬送ロボットのアームが直接ウェーハに
接触することも、薬液中に浸漬することもないから、頻
繁なアームの洗浄も必要としない。
縦溝でウェーハの傾斜を抑制しているから、キャリアレ
ス方式の湿式処理装置のように高精度の位置制御を必要
とせず、しかも搬送ロボットのアームが直接ウェーハに
接触することも、薬液中に浸漬することもないから、頻
繁なアームの洗浄も必要としない。
【００１２】
〔ウェーハキャリア〕本発明のウェーハキャリアの実施
の形態を図１及び図２を参照しながら説明する。図１は
本発明のウェーハキャリアを示す斜視図、図２は本発明
のウェーハキャリアを示す正面図である。両図におい
て、１１は枠体、１２はピン、１３はアーム、１４はウ
ェーハ支持棒、１５は上部連結棒、Ｗは被収容物のウェ
ーハである。
の形態を図１及び図２を参照しながら説明する。図１は
本発明のウェーハキャリアを示す斜視図、図２は本発明
のウェーハキャリアを示す正面図である。両図におい
て、１１は枠体、１２はピン、１３はアーム、１４はウ
ェーハ支持棒、１５は上部連結棒、Ｗは被収容物のウェ
ーハである。
【００１３】枠体１１は方形であり、その対向する二つ
の内側面にはそれぞれ複数（例えば２５本）の縦溝１１
ａが等間隔に設けられている。一枚のウェーハＷの周縁
部を対向する一対の縦溝１１ａの双方に挿入することに
より、そのウェーハＷの傾斜を抑制する。枠体１１の四
つの外側面の内、上記の対向する一対の縦溝１１ａがガ
イドして直立するウェーハＷに対して平行となる二面に
は、それぞれ二本（合計四本）のアーム１３が縦方向に
延在し、いずれもピン１２を介して回動自在に枠体１１
に取り付けられている。
の内側面にはそれぞれ複数（例えば２５本）の縦溝１１
ａが等間隔に設けられている。一枚のウェーハＷの周縁
部を対向する一対の縦溝１１ａの双方に挿入することに
より、そのウェーハＷの傾斜を抑制する。枠体１１の四
つの外側面の内、上記の対向する一対の縦溝１１ａがガ
イドして直立するウェーハＷに対して平行となる二面に
は、それぞれ二本（合計四本）のアーム１３が縦方向に
延在し、いずれもピン１２を介して回動自在に枠体１１
に取り付けられている。
【００１４】この四本のアーム１３は二本づつ枠体１１
を挟んで対向しており、対向する二本のアーム１３は下
端部ではウェーハ支持棒１４により連結され、上端部で
は上部連結棒１５で連結されている。アーム１３の回動
によりウェーハ支持棒１４が枠体１１の下方で移動す
る。このウェーハ支持棒１４はウェーハＷをガイドする
案内溝を持たない丸棒である。
を挟んで対向しており、対向する二本のアーム１３は下
端部ではウェーハ支持棒１４により連結され、上端部で
は上部連結棒１５で連結されている。アーム１３の回動
によりウェーハ支持棒１４が枠体１１の下方で移動す
る。このウェーハ支持棒１４はウェーハＷをガイドする
案内溝を持たない丸棒である。
【００１５】上部連結棒１５の両端部は係合部材１５ａ
となっており、搬送ロボットがこの部分に掛着してこの
ウェーハキャリアを搬送するとともに、アーム１３を回
動させる。二本のウェーハ支持棒１４を所定の距離に接
近させた状態でこの二本のウェーハ支持棒１４で複数の
ウェーハＷを支持する。尚、支持係合部材１５ａは二本
のウェーハ支持棒１４でウェーハＷを直立支持した状態
でそのウェーハＷの上縁より充分に高くなる位置に設け
られている。
となっており、搬送ロボットがこの部分に掛着してこの
ウェーハキャリアを搬送するとともに、アーム１３を回
動させる。二本のウェーハ支持棒１４を所定の距離に接
近させた状態でこの二本のウェーハ支持棒１４で複数の
ウェーハＷを支持する。尚、支持係合部材１５ａは二本
のウェーハ支持棒１４でウェーハＷを直立支持した状態
でそのウェーハＷの上縁より充分に高くなる位置に設け
られている。
【００１６】〔ウェーハ湿式処理装置及びウェーハ湿式
処理方法〕本発明のウェーハ湿式処理装置及びウェーハ
湿式処理方法の実施の形態を図３、図４及び図５を参照
しながら説明する。図３はウェーハ湿式処理装置の構成
を示す模式図、図４及び図５は本発明の湿式処理装置及
び方法の説明図である。これらの図において、図１及び
図２と同じものには同一の符号を付与した。４はＩＮポ
ート、５はＯＵＴポート、６はＨＥＰＡフィルタ、７は
排気口、３１はキャリア支持部材、３２はウェーハ支持
部材である。
処理方法〕本発明のウェーハ湿式処理装置及びウェーハ
湿式処理方法の実施の形態を図３、図４及び図５を参照
しながら説明する。図３はウェーハ湿式処理装置の構成
を示す模式図、図４及び図５は本発明の湿式処理装置及
び方法の説明図である。これらの図において、図１及び
図２と同じものには同一の符号を付与した。４はＩＮポ
ート、５はＯＵＴポート、６はＨＥＰＡフィルタ、７は
排気口、３１はキャリア支持部材、３２はウェーハ支持
部材である。
【００１７】キャリア支持部材３１は対をなして液体槽
３の底部に固着されており、ウェーハキャリア１の枠体
１１を所定の位置で支持する。この一対のキャリア支持
部材３１の間には二本のウェーハ支持部材３２が同じ高
さで水平且つ平行に延在し、その両端部でキャリア支持
部材３１に固着されている。
３の底部に固着されており、ウェーハキャリア１の枠体
１１を所定の位置で支持する。この一対のキャリア支持
部材３１の間には二本のウェーハ支持部材３２が同じ高
さで水平且つ平行に延在し、その両端部でキャリア支持
部材３１に固着されている。
【００１８】図３において、液体槽３は複数個あり、そ
れぞれウェーハＷの薬液処理や純水洗浄等を行う。先ず
ＩＮポート４で複数のウェーハＷをウェーハキャリア１
に収容すると、搬送ロボット（搬送手段）２はこのウェ
ーハキャリア１をＩＮポート４から第一の液体槽３に、
次いで第一の液体槽３から第二の液体槽３、第三の液体
槽３へと順次搬送し、最後に最後の液体槽３（若しくは
乾燥槽）からＯＵＴポートに搬送する。複数の搬送ロボ
ット２がそれぞれ異なる領域内でウェーハキャリア１を
搬送する場合もある。
れぞれウェーハＷの薬液処理や純水洗浄等を行う。先ず
ＩＮポート４で複数のウェーハＷをウェーハキャリア１
に収容すると、搬送ロボット（搬送手段）２はこのウェ
ーハキャリア１をＩＮポート４から第一の液体槽３に、
次いで第一の液体槽３から第二の液体槽３、第三の液体
槽３へと順次搬送し、最後に最後の液体槽３（若しくは
乾燥槽）からＯＵＴポートに搬送する。複数の搬送ロボ
ット２がそれぞれ異なる領域内でウェーハキャリア１を
搬送する場合もある。
【００１９】図４（Ａ）は搬送ロボット２がウェーハキ
ャリア１を搬送している状態を示している。搬送ロボッ
ト２の係合部材２ａ（二個ずつ対をなし、合計四個）が
ウェーハキャリア１の係合部材１５ａ（各アーム１３に
一個、合計四個）に掛着して搬送ロボット２がウェーハ
キャリア１を吊り下げている。対をなす係合部材２ａの
間隔が拡げられているからウェーハ支持棒１４の間隔は
狭まっている。複数のウェーハＷはこの二本のウェーハ
支持棒１４にその荷重が支えられ、枠体１１の縦溝１１
ａにより傾斜が抑制されて略直立している。
ャリア１を搬送している状態を示している。搬送ロボッ
ト２の係合部材２ａ（二個ずつ対をなし、合計四個）が
ウェーハキャリア１の係合部材１５ａ（各アーム１３に
一個、合計四個）に掛着して搬送ロボット２がウェーハ
キャリア１を吊り下げている。対をなす係合部材２ａの
間隔が拡げられているからウェーハ支持棒１４の間隔は
狭まっている。複数のウェーハＷはこの二本のウェーハ
支持棒１４にその荷重が支えられ、枠体１１の縦溝１１
ａにより傾斜が抑制されて略直立している。
【００２０】この状態で搬送ロボット２がウェーハキャ
リア１を液体槽３の上方から降下させると、やがてウェ
ーハＷが二本のウェーハ支持部材３２に触れ、更にその
直後に枠体１１がキャリア支持部材３１上に載置され
る。その後、搬送ロボット２の対をなす係合部材２ａの
間隔を狭めるとウェーハ支持棒１４の間隔が拡がり、ウ
ェーハＷから離隔する。搬送ロボット２の係合部材２ａ
はウェーハキャリア１の係合部材１５ａから離れてい
る。図４（Ｂ）はこの状態を示している。
リア１を液体槽３の上方から降下させると、やがてウェ
ーハＷが二本のウェーハ支持部材３２に触れ、更にその
直後に枠体１１がキャリア支持部材３１上に載置され
る。その後、搬送ロボット２の対をなす係合部材２ａの
間隔を狭めるとウェーハ支持棒１４の間隔が拡がり、ウ
ェーハＷから離隔する。搬送ロボット２の係合部材２ａ
はウェーハキャリア１の係合部材１５ａから離れてい
る。図４（Ｂ）はこの状態を示している。
【００２１】この状態でウェーハＷの湿式処理が始ま
る。一方、搬送ロボット２はその後上昇し、別のウェー
ハキャリア１の搬送に携わる。所定の時間後に搬送ロボ
ット２が戻ってきて図４（Ｂ）の状態となり、引き続き
搬送ロボット２の対をなす係合部材２ａの間隔を拡げて
ウェーハ支持棒１４の間隔を狭め、この状態で搬送ロボ
ット２がウェーハキャリア１を液体槽３の上方に吊り上
げ、更に他の液体槽３内に搬送する。
る。一方、搬送ロボット２はその後上昇し、別のウェー
ハキャリア１の搬送に携わる。所定の時間後に搬送ロボ
ット２が戻ってきて図４（Ｂ）の状態となり、引き続き
搬送ロボット２の対をなす係合部材２ａの間隔を拡げて
ウェーハ支持棒１４の間隔を狭め、この状態で搬送ロボ
ット２がウェーハキャリア１を液体槽３の上方に吊り上
げ、更に他の液体槽３内に搬送する。
【００２２】以上のようなウェーハキャリア、湿式処理
装置、湿式処理方法によりウェーハを湿式処理した場合
のウェーハへのパーティクルの付着状況を表１に示す。
装置、湿式処理方法によりウェーハを湿式処理した場合
のウェーハへのパーティクルの付着状況を表１に示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】比較のために、従来のウェーハキャリア、
湿式処理装置、湿式処理方法によりウェーハを湿式処理
した場合の結果を表２に示す。
湿式処理装置、湿式処理方法によりウェーハを湿式処理
した場合の結果を表２に示す。
【００２５】
【表２】
【００２６】いずれも、２５枚のウェーハをウェーハキ
ャリアに１／１ピッチで収容し、ＨＦ（10％）に80秒浸
漬した後、純水洗浄（サイドフロー＋層流アップフロー
＋サイドドレイン）し、３枚のウェーハを抜き取ってそ
れぞれパーティクルカウンタ（ＷＭ−３）で計測した
０．２μｍ以上のパーティクルの数を示している。これ
らの表により明らかなように、本発明によれば従来技術
による場合よりもウェーハへのパーティクルの付着が低
減する。
ャリアに１／１ピッチで収容し、ＨＦ（10％）に80秒浸
漬した後、純水洗浄（サイドフロー＋層流アップフロー
＋サイドドレイン）し、３枚のウェーハを抜き取ってそ
れぞれパーティクルカウンタ（ＷＭ−３）で計測した
０．２μｍ以上のパーティクルの数を示している。これ
らの表により明らかなように、本発明によれば従来技術
による場合よりもウェーハへのパーティクルの付着が低
減する。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ウェーハのパーティクル汚染を低減させることが可能な
ウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式処理装置及びウ
ェーハ湿式処理方法を提供することができ、半導体装置
の製造歩留り向上に寄与する。
ウェーハのパーティクル汚染を低減させることが可能な
ウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式処理装置及びウ
ェーハ湿式処理方法を提供することができ、半導体装置
の製造歩留り向上に寄与する。
【図１】 本発明のウェーハキャリアを示す斜視図であ
る。
る。
【図２】 本発明のウェーハキャリアを示す正面図であ
る。
る。
【図３】 ウェーハ湿式処理装置の構成を示す模式図で
ある。
ある。
【図４】 本発明の湿式処理装置及び方法の説明図（そ
の１）である。
の１）である。
【図５】 本発明の湿式処理装置及び方法の説明図（そ
の２）である。
の２）である。
【図６】 第一の従来例の説明図である。
【図７】 第二の従来例の説明図である。
１ ウェーハキャリア ２ 搬送手段（搬送ロボット） ２ａ 係合部材 ３ 液体槽 ４ ＩＮポート ５ ＯＵＴポート ６ ＨＥＰＡフィルタ ７ 排気口 １１ 枠体 １１ａ 縦溝 １２ ピン １３ アーム １４ ウェーハ支持棒 １５ 上部連結棒 １５ａ 係合部材 ３１ キャリア支持部材 ３２ ウェーハ支持部材 ８１ 下部案内溝 ８２ 中間部案内溝 ９１ 搬送ロボット ９２ アーム ９３ 液体槽 ９４ ウェーハ支持部材
Claims (3)
- 【請求項１】 複数のウェーハを略平行に直立保持する
ウェーハキャリアであって、 方形の枠体と、 該枠体の外側面に沿って縦方向に延在し、該枠体を挟ん
で二本ずつ対向するように各々の中間部で該枠体に回動
自在に軸着された四本のアームと、 対向する該アームを連結するように両端部が該アームの
下端部に固着されて該枠体の下方で横方向に延在する二
本のウェーハ支持棒と、を有し、 該枠体の該ウェーハ支持棒に平行な対向する二内側面に
はそれぞれ該ウェーハ支持棒が支持する該ウェーハの周
縁部を挿入して該ウェーハの傾斜を抑制する縦溝が設け
られていることを特徴とするウェーハキャリア。 - 【請求項２】 方形の枠体と該枠体の外側面に沿って縦
方向に延在し該枠体を挟んで二本ずつ対向するように各
々の中間部で該枠体に回動自在に軸着された四本のアー
ムと該アームの下端部に固着されて該枠体の下方で横方
向に延在する二本のウェーハ支持棒とを有し、該枠体の
該ウェーハ支持棒に平行な対向する二内側面にはそれぞ
れ該ウェーハ支持棒が支持する該ウェーハの周縁部を挿
入して該ウェーハの傾斜を抑制する縦溝が設けられたウ
ェーハキャリアと、 内部にキャリア支持部材及びウェーハ支持部材を備えた
液体槽と、 該ウェーハキャリアの前記アームの上端部に設けた係合
部材と掛着して該ウェーハキャリアを保持搬送する搬送
手段と、を有し、 該ウェーハ搬送時には該ウェーハキャリアの前記ウェー
ハ支持棒が該ウェーハキャリアの前記枠体の下方にあっ
て該ウェーハを支持し、 該ウェーハ湿式処理時には該キャリア支持部材が該枠体
を支持するとともに該ウェーハ支持部材が該ウェーハを
支持し、該ウェーハ支持棒は該ウェーハから離隔するよ
うに構成したことを特徴とするウェーハ湿式処理装置。 - 【請求項３】ウェーハの周縁部を、内側面に縦溝を設け
た枠体と該枠体の下方で横方向に延在するウェーハ支持
棒とを有するウェーハキャリアの該縦溝に挿入するとと
もに該ウェーハ支持棒に載置して、複数のウェーハを該
ウェーハキャリアに直立収容する工程と、 該ウェーハキャリアを液体槽内に搬送して該ウェーハキ
ャリアの該枠体を該液体槽内に設けたキャリア支持部材
上に載置し、該ウェーハを該液体槽内に設けたウェーハ
支持部材上に載置するとともに、該ウェーハキャリアの
前記ウェーハ支持棒を側方に移動して該ウェーハから離
隔する工程と、 再び該ウェーハ支持棒を該ウェーハの下方に移動して該
ウェーハを載置する工程と、 該ウェーハキャリアを該液体槽外に搬送する工程と、を
有することを特徴とするウェーハ湿式処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6347996A JPH09260478A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式処理装置及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6347996A JPH09260478A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式処理装置及び方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09260478A true JPH09260478A (ja) | 1997-10-03 |
Family
ID=13230424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6347996A Withdrawn JPH09260478A (ja) | 1996-03-19 | 1996-03-19 | ウェーハキャリア、並びにウェーハ湿式処理装置及び方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09260478A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990070641A (ko) * | 1998-02-23 | 1999-09-15 | 윤종용 | 슬롯지지대의 고정을 강화한 습식세정장비의 웨이퍼 가이드 |
| CN115106329A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-27 | 广东先导微电子科技有限公司 | 一种晶片处理装置 |
| CN117438347A (zh) * | 2023-12-15 | 2024-01-23 | 山东联盛电子设备有限公司 | 一种晶圆腐蚀装置 |
-
1996
- 1996-03-19 JP JP6347996A patent/JPH09260478A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990070641A (ko) * | 1998-02-23 | 1999-09-15 | 윤종용 | 슬롯지지대의 고정을 강화한 습식세정장비의 웨이퍼 가이드 |
| CN115106329A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-27 | 广东先导微电子科技有限公司 | 一种晶片处理装置 |
| CN115106329B (zh) * | 2022-06-17 | 2024-05-24 | 广东先导微电子科技有限公司 | 一种晶片处理装置 |
| CN117438347A (zh) * | 2023-12-15 | 2024-01-23 | 山东联盛电子设备有限公司 | 一种晶圆腐蚀装置 |
| CN117438347B (zh) * | 2023-12-15 | 2024-03-12 | 山东联盛电子设备有限公司 | 一种晶圆腐蚀装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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