JP3048735B2 - ウェーハ処理装置用搬送機構 - Google Patents

ウェーハ処理装置用搬送機構

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JP3048735B2
JP3048735B2 JP4057554A JP5755492A JP3048735B2 JP 3048735 B2 JP3048735 B2 JP 3048735B2 JP 4057554 A JP4057554 A JP 4057554A JP 5755492 A JP5755492 A JP 5755492A JP 3048735 B2 JP3048735 B2 JP 3048735B2
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明信 清和
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山形日本電気株式会社
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  • Weting (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置に
おける半導体基板であるウェーハを処理するウェーハ処
理装置、特に複数のウェーハを搬送するウェーハ処理装
置用搬送機構に関する。
【0002】
【従来の技術】図4(a)は、従来の搬送機構の一例を
示す斜視図、図4(b)は、処理槽内にウェーハを設置
した場合の部分正面図である。
【0003】従来、この種の搬送機構は、図4(a)に
示すように、複数のウェーハ1を挟持するアーム2a,
2bと、アーム2a,2bを支持し、アーム2a,2b
を開閉させウェーハを脱着させるアーム動作部3と、ア
ーム動作部3を支持し、レール5に沿いウェーハ1及び
アーム動作部3を各処理槽6まで搬送し、レール5に垂
直方向に上下動作することにより、処理槽6内にウェー
ハ1を入出させる支持機構4aと、図4(b)に示すよ
うな処理槽6内でウェーハが装填される溝の切ってある
台座7とから構成される。
【0004】処理槽6内の台座7へのウェーハ1の装
填は、支持機構4aのレール5に対し垂直方向での下方
動作より台座7上へウェーハ1が移動し、アーム2
a,2bが開放することにより実施される。さらに、台
座7からのウェーハ1の取り出しは、これとは逆動作
で実施される。
【0005】図5(a)は、従来の搬送機構の第二例を
示す斜視図、図5(b)は、図5(a)の部分正面図で
ある。従来、この種の搬送機構は、図5(a)に示すよ
うに、ウェーハが複数枚収納されたキャリアー11を支
持する複数のテフロン製の一対のアーム2と、アーム2
の一端を保持し、アーム2を吊すとともにアーム2と垂
直方向に摺動穴が開けられた固定具9と、固定具9の摺
動穴に貫通するアーム支持棒10と、このアーム支持棒
10の一端を保持し、さらに回転動作を行なうアーム動
作部3と、アーム動作部3を支える支持機構4aと、ア
ーム動作部3の移動する際に支持機構4aを案内するレ
ール5とで構成されている。
【0006】図5(b)に示すように、アーム支持棒1
0の矢印方向への回転運動で、一対のアーム2が矢印方
向に開閉され、キャリアー11を把んだり、離脱させた
りしている。さらに、支持機構4aの上下動により、図
5(a)に示す処理槽6に浸したり、引揚げたりするこ
とができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の第1の搬送機構
において、各処理槽内でウェーハを処理する場合に、ア
ームによってウェーハを各処理槽上まで運搬し、その
後、槽内の台座に装填するために、アームから台座へウ
ェーハを移す際にピッチずれを起した場合は、槽内にウ
ェーハが散乱してしまう。さらに、各処理槽に移動させ
るごとに、上記のようなウェーハの移し替えを行なうた
め、ピッチずれを起す割合が多くなるという問題点があ
った。
【0008】第2の搬送機構においては、ウェーハを収
納するキャリアは周囲が閉塞されているため、キャリア
ーによって薬液のウェーハへの循環が阻害されてしま
う。さらに、ウェーハに対してキャリアーの容量がかな
り大きいために、ウェーハ径が大きくなると、かなり大
きなキャリアーが必要となり、処理槽自体が非常に大き
くなるという問題点があった。
【0009】本発明の目的は、ウェーハの散乱等の事故
を防止するとともに、薬液のウェーハに対する循環性を
向上させたウェーハ処理装置用搬送機構を提供すること
にある。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係るウェーハ処理装置用搬送機構は、複数
の処理槽を有し、前記複数の処理槽間を移動して前記各
処理槽間の処理液へウェーハを出入れするウェーハ処理
装置用搬送機構において、ボートとアーム動作部と支持
機構とを有し、前記ボートは、複数のウェーハ周辺を両
側で保持する骨組と底部で保持する骨組により3点支持
する骨組を有し、前記アーム動作部は、前記ボートを脱
着可能に支持するものであり、前記支持機構は、前記ボ
ートを前記アーム動作部を介して吊下し、前記ボートが
前記複数の処理槽のうちのある処理槽の上方に達した
時、該ボートを前記処理槽内に搬出入するものであっ
て、前記処理槽内での処理後、該ボートを前記処理槽か
ら引き上げ、他の処理槽に搬出入を行うことを特徴とす
る。
【0011】
【作用】半導体ウェーハを支持するボートを骨組構造と
することにより、薬液の循環性を向上させる。さらに、
ボートに支持したまま半導体ウェーハを処理槽内にセッ
トし、ウェーハの処理を行うことにより、ウェーハの散
乱等を防止する。
【0012】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図により説明す
る。図1は、本発明の一実施例を示す斜視図、図2は、
同正面図、図3は、処理槽内にウェーハ及びボートを設
置した状態を示す図である。
【0013】図において、本実施例に係るウェーハ処理
装置用搬送機構は、ボート8と、アーム動作部3と、支
持機構4aとを有している。
【0014】ボート8は、複数の半導体ウェーハを並列
に支持するものである。
【0015】アーム動作部3は、ボート8を脱着可能に
支持するものである。
【0016】支持機構4aは、ボート8をアーム動作部
3を介して吊下してレール5に沿い処理槽6間を移動
し、ボート8を処理槽6内に搬出入させるものである。
【0017】ボート8は、半導体ウェーハ1の底縁,両
側縁で3点支持する骨組構造としたものである。具体的
には、ボート8は、中抜き構造の側枠8a,8aと、両
側枠8a,8a間に底部と側部とに配置されて張設さ
れ、ウェーハ1の側縁,底縁を嵌合保持する溝を設けた
3本の細管8b,8b,8bとからなる骨組構造であ
り、これらは石英製からなる。
【0018】実施例において、処理する複数のウェーハ
1を装填したボート8をアーム動作部3のアーム2によ
り把持し、支持機構4aをレール5に沿い移動させる各
処理槽6まで移送する。
【0019】支持機構4aは、処理槽6の上方に達した
時点でアーム動作部3によりボート8を処理槽6内の
の切ってない石英製の台座7a上に載置する。この状態
でボート8内のウェーハ1に対する処理が行なわれる。
この際、ボート8は骨組構造であるため、ウェーハ1に
対する処理液の循環性が向上する。
【0020】処理後、支持機構4aは、ボート8を処理
槽6から引上げ、他の処理槽6に搬出入を行い、処理を
続行する。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェーハ
をボートに収容し、ウェーハをボート毎移送するように
するため、ウェーハ単位で移し替えることがなく、ウェ
ーハの散乱等の事故を防止できる。
【0022】さらに、ボートは骨組構造であるため、ウ
ェーハに対する薬液の循環が良く、ウェーハに対する処
理効率を向上できる。また、ウェーハ径が拡大した場
合、キャリアー使用の場合よりはボートの拡大による処
理槽の拡大への影響は少なく、コンパクトにできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す斜視図である。
【図2】同正面図である。
【図3】処理槽内にウェーハ及びボートを設置した状態
を示す図である。
【図4】(a)は、従来例を示す斜視図、(b)は、処
理槽内を示す正面図である。
【図5】(a)は、他の従来例を示す斜視図、(b)
は、部分正面図である。
【符号の説明】
1 ウェーハ 2 アーム 3 アーム動作部 4 支持機構 5 レール 6 処理槽 7a 台座
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B65G 49/07,49/04 H01L 21/68

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の処理槽を有し、前記複数の処理槽間
    を移動して前記各処理槽間の処理液へウェーハを出入れ
    するウェーハ処理装置用搬送機構において、ボートとア
    ーム動作部と支持機構とを有し、 前記ボートは、複数のウェーハ周辺を両側で保持する骨
    組と底部で保持する骨組により3点支持する骨組を有
    し、 前記アーム動作部は、前記ボートを脱着可能に支持する
    ものであり、 前記支持機構は、前記ボートを前記アーム動作部を介し
    て吊下し、前記ボートが前記複数の処理槽のうちのある
    処理槽の上方に達した時、該ボートを前記処理槽内に搬
    出入するものであって、前記処理槽内での処理後、該ボ
    ートを前記処理槽から引き上げ、他の処理槽に搬出入を
    行う ことを特徴とするウェーハ処理装置用搬送機構。
JP4057554A 1992-02-10 1992-02-10 ウェーハ処理装置用搬送機構 Expired - Fee Related JP3048735B2 (ja)

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