JPH07111963B2

JPH07111963B2 - 基板の洗浄乾燥装置

Info

Publication number: JPH07111963B2
Application number: JP63227987A
Authority: JP
Inventors: 哲雄小柳; 敏雄竹達; 正澄半井
Original assignee: SUGAI KK
Current assignee: SUGAI KK
Priority date: 1988-09-12
Filing date: 1988-09-12
Publication date: 1995-11-29
Anticipated expiration: 2010-11-29
Also published as: JPH0276227A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は基板の洗浄乾燥装置に関し、さらに詳細に
は、半導体ウエハやガラスマスク等の基板を自動的に洗
浄、乾燥するための技術に関する。

〔従来の技術〕

メガソニック洗浄、HFエッチングおよび乾燥からなる一
連の工程により、半導体ウエハを自動的に洗浄、乾燥す
る工程のあることは既に周知である。

すなわち、メガソニック洗浄は、石英ガラス槽にヒート
コントロールされたNH₄OH、OH、H₂O₂、純水の混合液を
入れ、この混合液中にウエハを浸せきした状態で、上記
槽の底に固定された950KHzの振動子により混合液を振動
させて、上記ウエハ表面に付着した異物を洗い落とす。
HFエッチングは、石英ガラス槽にHFと純水の混合液を入
れ、この混合液中にウエハを浸せきして、ウエハ表面の
エッチングを行う。また、乾燥は、洗浄液中からウエハ
を微速度で引き上げて、洗浄液の表面張力を利用して、
ウエハ表面を静的に乾燥させるスタティック乾燥や、純
水による洗浄後にウエハ表面に残存する純水をイソプロ
ピル・アルコールで置換して乾燥させるIPA乾燥等であ
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

これら従来の工程では、ウエハはすべて第１図に示すよ
うなフッ素樹脂等からなるキャリア１によって担持さ
れ、このキャリア１と一緒に上記一連の処理がなされて
いた。

ところで、キャリア１には、１個当たり20〜26枚のウエ
ハを相互に接触しないように担持するための案内溝2,2,
…が形成されており、非常に複雑な形状をしている。こ
れがため、キャリア１の案内溝２に接触するウエハ表面
が十分に洗浄、乾燥されなかったり、あるいは、HFエッ
チング中にキャリア表面から溶出してくる有機物のた
め、ウエハが汚染されてしまうという問題点があった。

この発明はかかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、洗浄乾燥処理工程中
におけるウエハの汚染要因を排除して、クリーン度をア
ップするとともに、効率的で安全な処理を実現し得る構
成を備える基板の洗浄乾燥装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明の基板の洗浄乾燥装置
は、搬入されたキャリアから基板を取り出すローダ部
と、このローダ部で取り出された基板を洗浄、乾燥する
処理部と、この処理部で洗浄、乾燥された基板をキャリ
アに収納するアンローダ部と、前記ローダ部でキャリア
から取り出された基板を、基板相互間が一定間隔に保た
れた状態で担持するチャッキング手段と、このチャッキ
ング手段を駆動するとともに、前記ローダ部、処理部お
よびアンローダ部の間で移動させる駆動搬送部とを備え
てなり、前記チャッキング手段は、基板の左右周縁部を
案内支持するように固定的に設けられた静止案内溝と、
基板の下側周縁部を吊持状に担持するように開閉可能に
設けられた開閉担持溝とを備えることを特徴とする。

具体的には、このような構成に対応して、前記ローダ
部、処理部およびアンローダ部には、前記チャッキング
手段との間で、基板相互間を一定間隔に保ちながら受渡
し動作を行う受渡し手段を備えており、これら受渡し手
段は、基板の左右周縁部を相互に接触しないように案内
する案内溝と、基板を支持して上下方向に昇降動作する
昇降装置とから構成されている。

さらに、前記処理部に設けられた前記受渡し手段の昇降
装置は、基板を支持して上下方向に昇降動作するリフト
バーの形態とされ、このリフトバーには、基板の下端周
縁を小さな接触面積をもって支持する支持部が設けられ
るとともに、この支持部の接触部分に、液切り用のスリ
ットが形成されている。

〔作用〕

本発明においてキャリアが介在するのは、本発明による
装置入口であるローダ部と出口であるアンローダ部のみ
で、洗浄、乾燥工程中のハンドリングは、ウエハとの接
触面積が小さくウエハを等間隔に保持する形状のチャッ
キングが行う。

このチャッキングは、ウエハを小さな接触面積をもって
保持するため、ウエハの洗浄、乾燥残しがなく、またキ
ャリアを使用しないため、HFエッチング中に有機物の流
出がなく、ウエハが汚染されることはない。

しかも、上記チャッキングには、ウエハの左右周縁部を
案内支持するように固定的に設けられた静止案内溝と、
ウエハの下側周縁部を吊持状に担持するように開閉可能
に設けられた開閉担持溝とを備えるため、このチャッキ
ングと、ローダ部、処理部またはアンローダ部との間に
おけるウエハの受渡しに際して、静止案内溝がウエハの
左右周縁部を案内し、ウエハを傷付けることなく、円滑
かつ安全な受渡し動作を確保する。

さらに、上記処理部に設けられた受渡し手段の昇降装置
には、ウエハの下端周縁を小さな接触面積をもって支持
する支持部が設けられるとともに、この支持部の接触部
分に、液切り用のスリットが形成されているため、ウエ
ハの液切り効果が大きく、また最後の液切りも効率良く
行われて、ウエハの乾燥速度が促進される。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。

第２図は本発明の一実施例の概略断面構成図である。本
発明による基板の洗浄乾燥装置３は、台座４が取り付け
られたハウジング５を備えるとともに、このハウジング
５の内部には、図示左側から順に、ローダ部６、チャッ
キング洗浄部７、メガソニック洗浄部８、HFエッチング
部９、IPA乾燥部10およびアンローダ部11が設けられて
おり、これらチャッキング洗浄部７、メガソニック洗浄
部８、HFエッチング部９およびIPA乾燥部10により、ウ
エハ17を洗浄、乾燥する処理部が構成されている。ま
た、ハウジング５の上部には、２台のチャッキング（チ
ャッキング手段）12,13とその駆動搬送部14が設けられ
ており、さらに、これらの上側には、ハウジング５内に
清浄な空気を送るための送風機（図示せず）とフィルタ
15とが設けられている。

ローダ部６は、搬入されたキャリア１からウエハ17を取
り出す部位で、キャリア１を置くための載置部16を有す
るとともに、その下側には、オリフラ合わせ機構18とリ
フト手段19とが設けられている。

上記オリフラ合わせ機構18は、上記キャリア１内の複数
のウエハ17,17,…（以下単にウエハ17と記す）の各オリ
フラ17aを上部に揃えるためのものであって、ウエハ17
の各周縁部に接触してこれらを回転させるためのシリコ
ンゴム製の駆動ローラ20と、この駆動ローラ20をキャリ
ア１の真下まで水平移動するための水平駆動装置21と、
上記駆動ローラ20を持ち上げてキャリア１内のウエハ17
に接触させるための垂直駆動装置22とで構成されてい
る。

また、上記リフト手段19は、ウエハ17を上記キャリア１
から垂直に押し出すためのものであって、ウエハ支持バ
ー23、プッシュロッド24およびエアシリンダ25で構成さ
れている。このリフト手段19は、キャリア１の案内溝２
と協働して、チャッキング12との間の受渡し手段を構成
する。

チャッキング12,13は、上記ローダ部６でキャリア１か
ら取り出されるウエハ17を担持するものであって、２本
の連結パイプ26,27と連結ボックス28とで上記駆動搬送
部14にそれぞれ連結されており、この駆動搬送部14内に
設けられた駆動装置（図示せず）により、水平移動、垂
直移動およびウエハ17の把持の各動作が行われる構成と
されている。これらチャッキング12,13は同一構成とさ
れ、以下チャッキング12を例にとって具体的に説明す
る。

チャッキング12の具体的構成が第３図および第５図に示
されており、上記連結ボックス28には、一本の固定アー
ム29が固定されるとともに、２本の回動アーム30,31が
一定の角度範囲で回動するように支持されている。

上記固定アーム29の先端には静止プレート32が固定さ
れ、この静止プレート32には、一対のガイド34、35が左
右対称に設けられている。

これらガイド34,35は石英ガラス製のもので、複数のウ
エハ17を相互に接触しないように案内支持するための案
内溝（静止案内溝）33を備えてなる。ガイド34,35はそ
れぞれ、プレート36,37、２本の固定バー38,38および２
本のボルト39,39により左右対称に挟持固定されてお
り、これにより、両ガイド34,35の案内溝33,33同士が互
いに対向して配置されている。

また、上記回動アーム30、31の先端には、扇動プレート
40,41がそれぞれ固定され、これら扇動プレート40,41に
は、一対の溝付バー43,44が左右対称に挟持固定されて
いる。

これら溝付バー43,44は、上記ガイド34,35と同様に、石
英ガラス製のもので、複数のウエハ17を相互に接触しな
いように担持するための円周溝（開閉担持溝）42を備え
てなる。溝付バー43,44はそれぞれ、プレート45,46、２
本の固定バー38,38および２本のボルト39,39により左右
対称に挟持固定されており、これにより、両溝付バー4
3,44の円周溝42,42同士が互いに対向して配置されてい
る。

以上のように構成されたチャッキング12（13）がウエハ
17を担持する場合は、まず、回動アーム30,31が、駆動
搬送部14内の図示しない駆動装置により、それぞれ矢印
51,52方向に一定角度だけ回動されて、扇動プレート39,
40が矢印53,54方向に扇動され、これにより、左右２本
の溝付バー43,44が、ガイド34,35の間隔と同距離になる
まで拡張される。そして、この拡張状態において、前述
したリフト手段19、あるいは後述するリフトバー63、6
7、ウエハ授受装置74またはリフト手段90等により、ウ
エハ17が下方から上昇されると、このウエハ17は、上記
溝付バー43,44の円周溝42およびガイド34,35の案内溝33
に案内されながら、所定の高さ位置まで挿入される。最
後に、回動アーム30,31の回動により、上記両溝付バー4
3,44が再び閉じて、ウエハ17はチャッキング12（13）内
に吊持状に担持される。

すなわち、この担持された状態において、上記静止プレ
ート32のガイド34,35が、ウエハ17の水平方向中心線上
の左右周縁部47,48を案内支持するとともに、扇動プレ
ート40,41の溝付バー43,44が、ウエハ17の下側の周縁部
49,50を下側から吊持状に支持しており、これにより、
ウエハ17は、その周縁部を強固に把持されることなく、
その下端を押し上げれば容易に上方に移動する状態に軽
くかつ安定して保持される。

一方、チャッキング12（13）がウエハ17を解放する場合
は、上記と同様に、回動アーム30,31の回動により、左
右２本の溝付バー43,44が、ガイド34,35の間隔と同距離
になるまで拡張されることにより、ウエハ17は下方に解
放される。この場合も、このウエハ17は、上記ガイド3
4,35の案内溝33および溝付バー43,44の円周溝42に案内
されながら降下して排出される。

第２図において、チャッキング洗浄部７には、洗浄ノズ
ル55,56が設けられており、これら洗浄ノズル55,56は、
純水をチャッキング12にスプレーして、チャッキング12
のガイド34、35や溝付バー43,44等を洗浄する。

メガソニック洗浄部８には、石英ガラス製のオーバフロ
ー槽57が配置されており、このオーバフロー槽57の下部
に、約950KHzの周波数で発振するメガソニック発振器58
が固定されている。

また、オーバフロー槽57には、工場内配管（図示せず）
からH₂O₂が、また貯液タンク59から図示しないポンプに
よりNH₄OHと純水の混合液がそれぞれ供給され、これに
より両者は混合されて、洗浄液となる。上記貯液タンク
59は、メガソニック洗浄部８の下部に配置されており、
工場内配管によりNH₄OHと純水が供給される。

上記オーバフロー槽57は、第４図に詳細を示すように、
外槽60の内側に内槽61が配置されており、この内槽61
は、その高さが上記外槽60の高さよりも少し低く設定さ
れるとともに、その内側面に左右一対の案内溝62,62が
設けられている。これら一対の案内溝62,62は、ウエハ1
7の左右周縁部を相互に接触しないように案内し保持す
るためのもので、相互に対向して上下方向へ延びて設け
られている。

また、上記内槽61の内部には、オーバフロー槽57へのウ
エハ17の出し入れを行うリフトバー63が配設されてい
る。このリフトバー63は、棒材が第４図に示すごとく折
曲されてなり、その基端部が図外の垂直駆動装置に連結
されるとともに、その先端部にはウエハ17を支持する支
持部64が設けられている。この支持部64は、図示のごと
く、ウエハ17の下端周縁を小さな接触面積をもって支持
する細い棒状とされるとともに、ウエハ17との接触部に
は、液切り用の細いスリット64aが全長にわたって形成
されている。このリフトバー63は、上記一対の案内溝6
2,62と協働して、チャッキング12との間の受渡し手段を
構成する。

オーバフロー槽57へのウエハ17の出し入れに際しては、
上記垂直駆動装置によりリフトバー63が上下方向に昇降
動作して、上記支持部64上に支持されたウエハ17が上記
両案内溝62,62に案内されながら行われる。そして、こ
のリフトバー63の昇降動作が前述したチャッキング12の
開閉動作と同期されることにより、これら両者12,57間
でウエハ17の受渡しが行われることとなる。

また、リフトバー63の上昇時、つまりウエハ17が洗浄液
中から取り出される際には、ウエハ17表面の洗浄液（純
水）が落下除去されて、乾燥される。この場合、上記支
持部64が細い棒状でウエハ17との接触面積が小さいた
め、ウエハ17の液切り効果が大きく、さらにこれに加え
て、支持部64のスリット64aによる毛管現象により、ウ
エハ17の下端周縁部に最後まで残存している洗浄液も強
制的に吸引されるため、最後の液切りが効率良く行われ
て、ウエハ17の乾燥速度が促進されることとなる。

HFエッチング部９には、上記メガソニック洗浄部８と同
様に、HFと純水の混合液を入れるための石英ガラス製の
オーバフロー槽65が設けられており、その具体的構造は
上記メガソニック洗浄部８のオーバフロー槽57と全く同
一である。オーバフロー槽57へのHFと純水の混合液の供
給は、貯液タンク66からポンプ（図示せず）により行わ
れる。この貯液タンク66は、HFエッチング部９の下部に
配置されており、工場内配管（図示せず）によりHFと純
水が供給される。また、オーバフロー槽65へのウエハ17
の出し入れは、メガソニック洗浄部と同様に、リフトバ
ー67の昇降動作により行われる。このリフトバー67も、
上記リフトバー63と同一構成であり、ウエハ17の液切
り、乾燥に関して同一の作用効果を有する。

IPA乾燥部10には、ステンレス製のIPA槽68が設けられて
おり、その底部にはIPA液を暖めて蒸発させるためのヒ
ータ69が、その上部には蒸発したIPA蒸気を凝縮して繰
り返し利用するための凝縮器70がそれぞれ設けられてい
る。また、IPAは揮発性で引火性が強いため、IPA槽68の
上側に両開きのオートシャッタ71が設けられており、さ
らにHFエッチング部９との境界およびアンローダ部11と
の境界にも、オートシャッタ72,73がそれぞれ設けられ
ており、これによりIPAの外部への漏れが防止される。

また、IPA槽68へのウエハ17の出し入れを行うウエハ授
受装置74が配設されている。このウエハ授受装置74は、
第５図に示すように、垂直駆動装置（図示せず）に接続
されたブロック79と、同じく別の垂直駆動装置（図示せ
ず）に接続されたブロック83を備えてなる。

上記ブロック79は４本の溝付バー75、76,77,78が固設さ
れてなり、これら溝付バーは前述したチャッキング12の
溝付バー43と同一構造とされている。このブロック79
は、２本のパイプ80,81により上記垂直駆動装置に接続
されている。また、上記ブロック83はやはり同一構造と
された１本の溝付バー82が固設されてなり、１本のパイ
プ84により上記垂直駆動装置に接続されている。なお、
パイプ84を駆動する垂直駆動装置は上記２本のパイプ8
0,81を駆動する垂直駆動装置上に載置されている。

IPA槽68内で処理中のウエハ17は、上記の５本の溝付バ
ー75〜78,82により吊持状に保持される。また、上記２
本のパイプ80,81を駆動する垂直駆動装置にはパイプ84
を駆動する垂直駆動装置が載置されているため、上記パ
イプ80,81が垂直移動されると、上記パイプ84も一緒に
同距離だけ垂直移動され、この結果、ブロック79に固定
された４本の溝付バー75,76,77,78と、ブロック83に固
定された１本の溝付バー82とが同時に昇降動作して、ウ
エハ17を持ち上げたり下げたりする。さらに、パイプ84
を駆動する垂直駆動装置によりパイプ84が垂直移動され
ると、ブロック83とそれに固定された溝付バー82のみが
垂直移動されて、ウエハ17の下端周縁部を持ち上げたり
下げたりすることができる。

IPA乾燥部10においては、ウエハ17がチャッキング12か
らウエハ授受装置74に移載されてIPA乾燥後、今度はウ
エハ授受装置74から別のチャッキング13に再び移載され
る工程を経るが、次にこの移載の方法を詳しく述べる
（第５図参照）。

ウエハ授受装置74の真上に、ウエハ17を担持するチャッ
キング12が停止すると、このチャッキング12に対して、
ウエハ授受装置74がまず実線85で示す位置まで上昇して
停止する。続いて、このウエハ授受装置74の溝付バー82
のみが上昇して、チャッキング12上のウエハ17の下端周
縁部を支持して、二点鎖線68の位置まで持ち上げると停
止する。この状態で、チャッキング12の扇動プレート4
0,41が矢印53,54方向へ扇動して二点鎖線40a,41aの位置
まで開き、溝付バー43,44の間隔がガイド34,35の間隔と
同距離だけ離されて、ウエハ17が下降する際のガイドと
なる。次に、溝付バー82が下降して実線87の位置まで下
がると、ウエハ17は、５本の溝付バー75〜78,82によっ
て、相互に接触しないように保持される。これでチャッ
キング12からウエハ授受装置74への移載は終了し、次に
ウエハ授受装置74全体が下降して、IPA槽68内の下端位
置で停止し、ウエハ17はIPA乾燥されることとなる。

このIPA乾燥を完了したウエハ17は、今度はウエハ授受
装置74からチャッキング13へ移載されることになるが、
この移載動作は、上記のチャッキング12からウエハ授受
装置74への移載動作と全く逆工程で行われるため、詳細
な説明は省略する。

アンローダ部11は、上記の処理部で洗浄、乾燥されたウ
エハ17を別工程で清浄処理されたキャリア88に収納する
部位で、このキャリア88を置くための載置部89が設けら
れている。この載置部89の下部には、キャリア88内に洗
浄乾燥済みのウエハ17を収納するためのリフト手段90が
設けられている。このリフト手段90は、前述したローダ
部６のリフト手段19と同一構造であり、説明を省略す
る。リフト手段90は、リフト手段19と同様、キャリア88
の案内溝２と協働して、チャッキング13との間の受渡し
手段を構成する。

次に、以上のように構成された本発明装置により、ウエ
ハ17を洗浄、乾燥する場合の動作について、工程順に順
次列記して説明する。

（１）人手もしくはロボットハンドにより、洗浄、乾燥
すべきウエハ17を収納したキャリア１が、ローダ部６に
おける載置部16の設定位置に載置される。

（２）オリフラ合わせ機構18の駆動ローラ20が、水平駆
動装置21と垂直駆動装置22により、上記キャリア１の真
下でウエハ17の下端周縁部に接触するまで移動（水平移
動・垂直移動）した後回転して、ウエハ17のオリフラ17
aを上部に合わせる。

（３）チャッキング12の扇動プレート40,41が、キャリ
ア１の真上で扇動して開く。

（４）リフト手段19のプッシュロッド24が、エアシリン
ダ25により押し上げられ、これによりウエハ支持バー23
がウエハ17を持ち上げて、キャリア１から押し出し、チ
ャッキング12のチャッキング位置で停止する。

この際、ウエハ17は、前述したように、拡張状態にある
扇動プレート40,41の溝付バー43,44の円周溝42、さらに
は静止プレート32のガイド34,35の案内溝42,33により、
相互に接触しないように安全かつ円滑に案内される。

（５）チャッキング12の扇動プレート40,41が扇動して
閉じる。

（６）プッシュロッド24が下降し、これによりウエハ17
は、その左右周縁部が上記ガイド34,35の案内溝33に保
持されるとともに、その下側周縁部が上記溝付バー43,4
4の円周溝42に挿入保持されて、吊持状に担持される。

（７）ウエハ17を担持したチャッキング12は、駆動搬送
部14により、メガソニック洗浄部８のオーバフロー槽57
の真上まで水平移動した後、そのまま下降して受渡し位
置で停止し、ウエハ17をオーバフロー槽57の上端に接近
させる。

（８）オーバフロー槽57のリフトバー63が上昇して、ウ
エハ17の下端周縁部を持ち上げ停止する。

（９）チャッキング12の扇動プレート40,41が扇動して
開く。

（10）リフトバー63が下降して、ウエハ17を、オーバフ
ロー槽57の洗浄液（NH₄OH、OH、H₂O₂、純水の混合液）
中に浸せきして停止する。

この際、ウエハ17は、静止プレート32のガイド34,35の
案内溝33、扇動プレート40,41の溝付バー43,44の円周溝
42、さらにはオーバフロー槽57の内槽61の案内溝62によ
り、相互に接触しないように安全かつ円滑に案内され
る。

（11）メガソニック発振器58が発振して、音波エネルギ
がオーバフロー槽57の底からウエハ17の表面に沿って平
行に進み、ウエハ表面の不要な微粒子を取り去る（数分
〜十数分）。

（12）オーバフロー槽57内の洗浄液が廃液されると同時
に、純水のみがオーバフロー槽57内に流入されて置換さ
れ、ウエハ17が純水のみでメガソニック洗浄される（数
分〜十数分）。

（13）メガソニック洗浄が終了すると、オーバフロー槽
57内のリフトバー63が静かに上昇して、その支持部64が
ウエハ17を上記受渡し位置まで再び持ち上げる。

このリフトバー63が上昇する際、ウエハ17表面の純水が
落下除去されるとともに、ウエハ17の下端周縁部に最後
まで残った純水も、前述したように、上記支持部64のス
リット64aによる毛管現象により強制的に吸引除去され
て、最後の液切りが効率良く行われ、ウエハ17の乾燥が
早められる。

（14）チャッキング12の扇動プレート40、41が扇動して
閉じ、メガソニック洗浄済みのウエハ17をチャッキング
する。

（15）ウエハ17を担持したチャッキング12は、駆動搬送
部14により、メガソニック洗浄部８からHFエッチング部
９のオーバフロー槽65の真上まで水平移動した後、その
まま下降して受渡し位置で停止し、ウエハ17をオーバフ
ロー槽65の上端に接近させる。

（16）オーバフロー槽65のリフトバー67が上昇して、ウ
エハ17の下端周縁部を持ち上げ停止する。

（17）チャッキング12の扇動プレート40,41が扇動して
開く。

（18）リフトバー67が下降して、ウエハ17を、オーバフ
ロー槽65のHFエッチング液（HFと純水との混合液）中に
浸せきして停止する。

この際、ウエハ17は、前述したように、チャッキング12
の案内溝33および円周溝42、さらにはオーバフロー槽65
の案内溝により、相互に接触しないように安全かつ円滑
に案内される。

（19）HFエッチング液により、ウエハ17の表面がエッチ
ングされて、不要な微粒子が取り去られる（数分間）。

（20）オーバフロー槽65内のHFエッチング液が廃液され
ると同時に、純水のみがオーバフロー槽65内に流入され
て置換され、ウエハ17が純水のみで洗浄される（数分〜
十数分）。

（21）HFエッチングが終了すると、オーバフロー槽65内
のリフトバー67が静かに上昇して、ウエハ17を受渡し位
置まで再び持ち上げる。

このリフトバー67が上昇する際に、リフトバー67のスリ
ット等の構造によりウエハ17の乾燥が早められること
は、前述と同様である。

（22）チャッキング12の扇動プレート40、41が扇動して
閉じ、HFエッチング済みのウエハ17をチャッキングす
る。

（23）オートシャッタ72が開き、ウエハ17を担持したチ
ャッキング12は、駆動搬送部14により、HFエッチング部
９からIPA乾燥部10のIPA槽68の真上まで水平移動して停
止し、オートシャッタ72が再び閉じる。

（24）オートシャッタ71が開き、チャッキンク12がその
まま下降して受渡し位置で停止し、ウエハ17をIPA槽68
の上端に接近させる。

（25）IPA槽内のウエハ授受装置74が上昇してチャッキ
ング12に接近し、受渡し位置で停止する。

（26）ウエハ授受装置74のうち溝付バー82のみが上昇し
て、ウエハ17の下端周縁部を持ち上げ停止する。

（27）チャッキング12の扇動プレート40,41が扇動して
開く。

（28）溝付バー82が下降して、ウエハ17は、チャッキン
グ12のガイド34,35、溝付バー43、44により、相互に接
触しないように安全かつ円滑に案内されながら、ウエハ
授受装置74の溝付バー75〜78まで導かれて保持される。

（29）ウエハ授受装置74が下降して、IPA槽68内の下端
位置で停止すると同時にオートシャッタ71が閉じる。

（30）ヒートコントロールされたIPAの蒸気により、ウ
エハ17の表面に残存した純水が置換される。

この間にチャッキング12は、駆動搬送部14により、上昇
後水平移動してチャッキング洗浄部７の真上まで戻ると
ともに、下降して、洗浄ノズル55,56から噴出する純水
により洗浄される。この後、チャッキング12はローダ部
６まで戻り、次のウエハ17の洗浄工程に移る。

一方、もう一つの別のチャッキング13が、駆動搬送部14
により、アンローダ部11からIPA槽68の真上まで移動し
て待機している。

（31）IPA乾燥が終了すると、オートシャッタ71が開
き、ウエハ授受装置74が上昇するとともに、チャッキン
グ13も下降して、相互に接近して受渡し位置で停止す
る。

（32）ウエハ授受装置74の溝付バー82のみが上昇して、
ウエハ17の下端周縁部を持ち上げ停止する。この状態
で、ウエハ17の左右周縁部がチャッキング13のガイド3
4,35に案内保持される。

（33）チャッキング13の扇動プレート40,41が扇動して
閉じる。

（34）溝付バー82が下降して、ウエハ17の下側周縁部も
チャッキング13の溝付バー43,44により吊持状に保持さ
れる。

（35）ウエハ授受装置74が下降するとともに、チャッキ
ング13が上昇した後、オートシャッタ71が閉じる。

（36）オートシャッタ73が開き、ウエハ17を担持したチ
ャッキング13は、駆動搬送部14により、IPA乾燥部10か
ら水平移動して、アンローダ部11に載置された洗浄乾燥
済みのキャリア88の真上まで移動する。この移動の間
に、純水と置換したIPAが蒸発して、ウエハ17が乾燥す
る。

（37）チャッキング13が下降し、キャリア88の上端に接
近して受渡し位置で停止する。

（38）リフト手段90のウエハ支持バー91が上昇して、チ
ャッキング13上のウエハ17の下端周縁部を持ち上げる。

（39）チャッキング13の扇動プレート40、41が扇動して
開く。

（40）ウエハ支持バー91が下降して、ウエハ17がキャリ
ア88内に収納される。

この際、ウエハ17は、前述したように、チャッキング13
の案内溝42,33および円周溝42により、相互に接触しな
いように安全かつ円滑に案内されながら、キャリア88の
溝に沿って降下収納される。

（41）洗浄乾燥済みのウエハ17を収納したキャリア88
は、人手もしくはロボットハンドにより、アンローダ部
11から取り出される。

以上で洗浄、乾燥の１工程が完了するが、実際には、ス
ループットを上げるために、IPA乾燥中に別のウエハの
洗浄処理が行われる。

〔発明の効果〕

以上詳述したように、本発明によれば、チャッキング手
段がキャリアからウエハを取り出してから、その洗浄、
乾燥を行うから、洗浄、乾燥工程中に全くキャリアが介
在せず、ウエハの洗浄、乾燥が確実かつ十分に行われる
とともに、HFエッチング中の有機物の溶出もなくて、ウ
エハの汚染が有効に防止される。

また、キャリアを使用しないことにより、各処理槽を小
さくすることができ、したがって、処理液の使用量が少
なくて済み、コストダウンを計れる効果をも合わせ持
つ。

しかも、上記チャッキング手段は、ウエハの左右周縁部
を案内支持するように固定的に設けられた静止案内溝
と、ウエハの下側周縁部を吊持状に担持するように開閉
可能に設けられた開閉担持溝とを備えるから、ローダ
部、処理部またはアンローダ部との間におけるウエハの
受渡しに際して、上記静止案内溝がウエハの左右周縁部
を案内することになり、ウエハを傷付けることなく、円
滑かつ安全な受渡し動作が確保される。

さらに、上記処理部に設けられた受渡し手段の昇降装置
には、ウエハの下端周縁を小さな接触面積をもって支持
する支持部が設けられているから、ウエハが洗浄液中か
ら取り出される際の液切り効果が大きい。しかも、この
支持部の接触部分には、液切り用のスリットが形成され
ているから、このスリットによる毛管現象により、ウエ
ハの下端周縁部に最後まで残存している洗浄液も強制的
に吸引されることとなり、最後の液切りが効率良く行わ
れて、ウエハの乾燥速度が促進される効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図はキャリアの斜視図、第２図は本発明の一実施例
の概略断面構成図、第３図はチャッキングの斜視図、第
４図はオーバフロー槽とリフトバーを一部切開して示す
斜視図、第５図はチャッキングとウエハ授受装置との相
関図である。 1,88……キャリア、２……案内溝、３……基板の洗浄乾
燥装置、６……ローダ部、７……チャッキング洗浄部、
８……メガソニック洗浄部、９……HFエッチング部、10
……IPA乾燥部、11……アンローダ部、12,13……チャッ
キング、14……駆動搬送部、17……ウエハ、18……オリ
フラ合わせ機構、19,90……リフト手段、33……案内溝
（静止案内溝）、34,35……ガイド、42……円周溝（開
閉担持溝）、43,44……溝付バー、57,65……オーバフロ
ー槽、58……メガソニック発振器、62……案内溝、63,6
7……リフトバー、64……リフトバーの支持部、64a……
支持部のスリット、68……IPA槽、74……ウエハ授受装
置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】半導体、ガラス等から成る基板を洗浄、乾
燥する装置であって、搬入されたキャリアから基板を取り出すローダ部と、このローダ部で取り出された基板を洗浄、乾燥する処理
部と、この処理部で洗浄、乾燥された基板をキャリアに収納す
るアンローダ部と、前記ローダ部でキャリアから取り出された基板を、基板
相互間が一定間隔に保たれた状態で担持するチャッキン
グ手段と、このチャッキング手段を駆動するとともに、前記ローダ
部、処理部およびアンローダ部の間で移動させる駆動搬
送部とを備えてなり、前記チャッキング手段は、基板の左右周縁部を案内支持
するように固定的に設けられた静止案内溝と、基板の下
側周縁部を吊持状に担持するように開閉可能に設けられ
た開閉担持溝とを備え、これにより、前記チャッキング手段における基板の受渡
し動作は、前記静止案内溝により基板の左右周縁部を案
内しながら行うように構成されていることを特徴とする基板の洗浄乾燥装置。
【請求項２】前記ローダ部、処理部およびアンローダ部
に、前記チャッキング手段との間で、基板相互間を一定
間隔に保ちながら受渡し動作を行う受渡し手段を備え、これら受渡し手段は、基板の左右周縁部を相互に接触し
ないように案内する案内溝と、基板を支持して上下方向
に昇降動作する昇降装置とから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板の洗浄乾燥装
置。
【請求項３】前記処理部に設けられた前記受渡し手段の
昇降装置は、基板を支持して上下方向に昇降動作するリ
フトバーの形態とされ、このリフトバーには、基板の下端周縁を小さな接触面積
をもって支持する支持部が設けられるとともに、この支
持部の接触部分に、液切り用のスリットが形成されてい
ることを特徴とする請求項２に記載の基板の洗浄乾燥装
置。
【請求項４】前記処理部に、前記チャッキング手段を洗
浄するチャッキング洗浄部が設けられていることを特徴
とする請求項１から３のいずれか一つに記載の基板の洗
浄乾燥装置。