JP2999064B2 - ウエット処理装置 - Google Patents
ウエット処理装置Info
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- JP2999064B2 JP2999064B2 JP14673492A JP14673492A JP2999064B2 JP 2999064 B2 JP2999064 B2 JP 2999064B2 JP 14673492 A JP14673492 A JP 14673492A JP 14673492 A JP14673492 A JP 14673492A JP 2999064 B2 JP2999064 B2 JP 2999064B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子デバイス用基板に
対し各種薬液を使用して所望の表面処理を行うウエット
処理装置に関するものである。
対し各種薬液を使用して所望の表面処理を行うウエット
処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の実公平２−３４８２３号公報に記
載されている装置は図１０、１１に示すように、処理槽
Ａは内側の槽Ｂ及び外側の槽Ｃよりなり、内側の槽Ｂよ
りオーバーフローした液を外側の槽Ｃに溜め、これを循
環ポンプＰにて内側の槽Ｂに設けた多孔板で形成した整
流板Ｄを経由して内槽Ｃに流入させ、整流板Ｄ上に固定
した基板保持具Ｅ、Ｅで保持している基板Ｆの表面に均
一に接触させて洗浄を行っていた。前記従来の装置にあ
っては基板保持具Ｅ、Ｅは処理槽Ａに固定された状態に
あるため、高温薬液使用時のヒートサイクル等により内
側の槽Ｂ、外側の槽Ｃ及び基板保持具Ｅ、Ｅが変形して
位置ずれが生じ、基板ＦのハンドＨによる搬送にミスが
発生するおそれがあった。又、万一の破損時には再調整
及び再製作に時間と多額の費用がかかる問題があった。
又、図１０、１１に示す実公平２−３４８２３号公報に
記載されている装置にあっては、ハンドＨは水平及び昇
降する挾持部Ｉの両側に挾持駆動杆Ｊ、Ｊを設け、両挾
持駆動杆Ｊ、Ｊに夫々片持状の支持杆Ｋを両端に設け、
両側の支持杆Ｋを連結する１対の基板挾持板Ｌに所定個
数の平行な基板挾持用溝Ｍを設けている。又、図１２に
示す特公昭６３−３４５５号公報に記載されているハン
ドＨは、両挾付け片Ｎ、Ｎに夫々爪片０、０を上下に突
設している。
載されている装置は図１０、１１に示すように、処理槽
Ａは内側の槽Ｂ及び外側の槽Ｃよりなり、内側の槽Ｂよ
りオーバーフローした液を外側の槽Ｃに溜め、これを循
環ポンプＰにて内側の槽Ｂに設けた多孔板で形成した整
流板Ｄを経由して内槽Ｃに流入させ、整流板Ｄ上に固定
した基板保持具Ｅ、Ｅで保持している基板Ｆの表面に均
一に接触させて洗浄を行っていた。前記従来の装置にあ
っては基板保持具Ｅ、Ｅは処理槽Ａに固定された状態に
あるため、高温薬液使用時のヒートサイクル等により内
側の槽Ｂ、外側の槽Ｃ及び基板保持具Ｅ、Ｅが変形して
位置ずれが生じ、基板ＦのハンドＨによる搬送にミスが
発生するおそれがあった。又、万一の破損時には再調整
及び再製作に時間と多額の費用がかかる問題があった。
又、図１０、１１に示す実公平２−３４８２３号公報に
記載されている装置にあっては、ハンドＨは水平及び昇
降する挾持部Ｉの両側に挾持駆動杆Ｊ、Ｊを設け、両挾
持駆動杆Ｊ、Ｊに夫々片持状の支持杆Ｋを両端に設け、
両側の支持杆Ｋを連結する１対の基板挾持板Ｌに所定個
数の平行な基板挾持用溝Ｍを設けている。又、図１２に
示す特公昭６３−３４５５号公報に記載されているハン
ドＨは、両挾付け片Ｎ、Ｎに夫々爪片０、０を上下に突
設している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の両ハンドＨ
はいずれも、基板Ｆの重心Ｇに対し、この上下方向を挾
持するようになっている。基板Ｆの大型化に伴い基板保
持具Ｅ、Ｅ内での倒れ量が増し、これに伴い隣接する基
板を同じ基板挾持用溝Ｍで挾持したり、挾持の際に基板
を破損するという不都合が生じていた。前記問題を解決
するために、基板保持具を傾斜させたり、溝形状を傾斜
させる手段も考えられるが、挿入時及び引上げ時に鉛直
方向動作のみでは、基板への損傷が発生する恐れがあ
り、採用することができなかった。そこで、本発明にお
いては基板保持具を処理槽内に宙吊り状態で保持固定
し、ヒートサイクル等による影響を抑えると共に、ハン
ドにおいては重心近傍と下部とを４点支持するようにし
て基板が傾斜していても確実に保持することができる様
にして上記課題を解決せんとするものである。
はいずれも、基板Ｆの重心Ｇに対し、この上下方向を挾
持するようになっている。基板Ｆの大型化に伴い基板保
持具Ｅ、Ｅ内での倒れ量が増し、これに伴い隣接する基
板を同じ基板挾持用溝Ｍで挾持したり、挾持の際に基板
を破損するという不都合が生じていた。前記問題を解決
するために、基板保持具を傾斜させたり、溝形状を傾斜
させる手段も考えられるが、挿入時及び引上げ時に鉛直
方向動作のみでは、基板への損傷が発生する恐れがあ
り、採用することができなかった。そこで、本発明にお
いては基板保持具を処理槽内に宙吊り状態で保持固定
し、ヒートサイクル等による影響を抑えると共に、ハン
ドにおいては重心近傍と下部とを４点支持するようにし
て基板が傾斜していても確実に保持することができる様
にして上記課題を解決せんとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は処理槽１内に浸
漬して薬液によってウエット処理される基板Ｆの周縁下
部を縦置き状態で載置させる３本以上の平行した基板保
持具９,９´の長手方向両端に垂直に立上った支持片
７，７を設け、該支持片７,７の上端から外側に向かっ
て載置片８を水平に延設せしめた基板保持用受台６の前
記基板保持具９，９′を、処理槽１外に設けられた受台
用載置台５に前記載置片８を載置せしめることにより、
処理槽１内周壁面及び底面との間にわずかな間隔を保っ
て、宙吊り状態で処理槽１内に保持固定せしめると共
に、基板Ｆの下部及び重心近傍周縁の２ヶ所を挾持する
挾持板１６，１６′，１７，１７′を、開閉する対向し
た一対の挾持腕１５,１５′に有し、基板Ｆを下から掬
い上げる様に挾持して処理槽１内の基板保持具９，９′
への基板Ｆの受け渡しを行う搬送装置１１を処理槽１外
に設置してウエット処理装置を構成することにより、上
記課題を解決せんとするものである。
漬して薬液によってウエット処理される基板Ｆの周縁下
部を縦置き状態で載置させる３本以上の平行した基板保
持具９,９´の長手方向両端に垂直に立上った支持片
７，７を設け、該支持片７,７の上端から外側に向かっ
て載置片８を水平に延設せしめた基板保持用受台６の前
記基板保持具９，９′を、処理槽１外に設けられた受台
用載置台５に前記載置片８を載置せしめることにより、
処理槽１内周壁面及び底面との間にわずかな間隔を保っ
て、宙吊り状態で処理槽１内に保持固定せしめると共
に、基板Ｆの下部及び重心近傍周縁の２ヶ所を挾持する
挾持板１６，１６′，１７，１７′を、開閉する対向し
た一対の挾持腕１５,１５′に有し、基板Ｆを下から掬
い上げる様に挾持して処理槽１内の基板保持具９，９′
への基板Ｆの受け渡しを行う搬送装置１１を処理槽１外
に設置してウエット処理装置を構成することにより、上
記課題を解決せんとするものである。
【０００５】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、処理槽
１内同壁面及び底面との間にわずかな間隔を保って宙吊
り状態で保持固定された基板保持用受台の３個以上の基
板保持具で基板を支持し、薬液で基板を処理した後に搬
送装置の挾持腕を開いた状態で下降させ、基板の下方ま
で挾持腕を下降させた後に挾持腕を閉じ、挾持腕に設け
た挾持板の挿入溝に基板の重心近傍及び下部の４箇所を
挿入保持する。その後、搬送装置を上昇させて処理槽外
に基板を搬出する。
１内同壁面及び底面との間にわずかな間隔を保って宙吊
り状態で保持固定された基板保持用受台の３個以上の基
板保持具で基板を支持し、薬液で基板を処理した後に搬
送装置の挾持腕を開いた状態で下降させ、基板の下方ま
で挾持腕を下降させた後に挾持腕を閉じ、挾持腕に設け
た挾持板の挿入溝に基板の重心近傍及び下部の４箇所を
挿入保持する。その後、搬送装置を上昇させて処理槽外
に基板を搬出する。
【０００６】
【実施例】本発明の実施例を図１、２に基いて詳細に説
明すると、処理槽１は内側の槽２と外側の槽３とで形成
され、オーバフローした薬液を外側の槽３に滞留させる
ようになっている。そして、処理槽１の外側には保護槽
４が設置されている。この保護槽４の上部両側には受台
用載置台５、５を突設し、処理槽１の内側の槽２内に位
置せしめる基板保持用受台６を宙吊り状態で支持するよ
うになっている。基板保持用受台６は両側に支持片７、
７を設け、両支持片７、７の上端両外側に載置片８、８
を夫々突設し、この載置片８、８を前記受台用載置台
５、５上に載置して固定するようになっている。一方、
支持片７、７の下端には両支持片７、７を連結するよう
に３個の基板保持具９、９´、９を設けており、中間の
基板保持具９´は高さを低く形成し、各基板保持具９、
９´、９に夫々Ｙ字形をした保持溝１０、１０…を多数
設けて基板Ｆを縦置き状態で挿入保持するようになって
いる。尚、基板保持具は３箇所を設けるように説明した
が４箇所に設けてもよいもので、液流に対して邪魔にな
らないように薄板で形成し、材質は石英、炭化ケイ素或
いは合成樹脂を用いる。一方、搬送装置１１は図１に示
すように構成している。即ち、昇降及び水平移動するよ
うに設けた駆動部材１２にロッド１３を介して取付けた
支持台１４の両側に開閉できる一対の挾持腕１５、１５
を夫々設けている。尚、駆動部材１２には支持台１４を
矢印に示すように水平方向に微調整できるよう、ラック
ピニオン機構、モータ及びシリンダ等が使用される。挾
持腕１５、１５´は夫々下端を中央側に折曲げた形状に
形成し、両側の挾持腕１５、１５及び１５´、１５´を
連結するように挾持板１６、１６´を下部に、又基板Ｆ
の重心Ｇ近傍に位置する箇所に挾持板１７、１７´をそ
れぞれ固定している。この下側の挾持板１６、１６´は
斜め上方に向くように取付け、上側の挾持板１７、１７
´は水平に取付けられている。そして、各挾持板１６、
１６´、１７、１７´には基板Ｆを挿入保持できるよう
に山形の挿入溝１８、１８…（図４参照）を所望数設け
ている。本実施例は前記のように構成したもので、基板
Ｆの薬液等による処理を行った後に、基板Ｆを挾持する
際には、図５に示すように両側の挾持腕１５、１５´を
開いた状態で支持具１４を下降させる。この下降は図６
に示すように両挾持腕１５、１５´を閉じた際に各挾持
板１６、１６´、１７、１７´が基板Ｆと接触しない位
置まで行う。そして、両挾持腕１５、１５´を閉じた後
に、図７に示すように支持具１４を上昇させて挾持板１
６、１６´の嵌入溝１８で基板Ｆの下部を、挾持板１
７、１７´で基板Ｆの重心Ｇの近傍、即ち重心Ｇより偏
心量ｅと微小距離αだけずれた位置を挾持する。尚、基
板Ｆが傾斜している時には、挾持板１７、１７´の上昇
に伴い、傾斜が徐々に矯正させ、鉛直状態になって挾持
板１７、１７´及び１６、１６´で基板Ｆを挾持するこ
とになる。この状態で挾持腕１５、１５´を上昇させ、
処理槽１から離脱させ、駆動部材１２を水平移動させて
次工程の処理槽等に基板Ｆを送る。尚、基板Ｆの処理
は、従来同様に処理槽１の下面から薬液を供給して基板
Ｆに沿って薬液を流し、オーバーフローさせる。次に挾
持腕１５、１５´の他の実施例を図８、９に基いて説明
すると、前記挾持板１６、１７の形状を図９に示すよう
にソロバン状に形成したものである。他はすべて同一で
ある。
明すると、処理槽１は内側の槽２と外側の槽３とで形成
され、オーバフローした薬液を外側の槽３に滞留させる
ようになっている。そして、処理槽１の外側には保護槽
４が設置されている。この保護槽４の上部両側には受台
用載置台５、５を突設し、処理槽１の内側の槽２内に位
置せしめる基板保持用受台６を宙吊り状態で支持するよ
うになっている。基板保持用受台６は両側に支持片７、
７を設け、両支持片７、７の上端両外側に載置片８、８
を夫々突設し、この載置片８、８を前記受台用載置台
５、５上に載置して固定するようになっている。一方、
支持片７、７の下端には両支持片７、７を連結するよう
に３個の基板保持具９、９´、９を設けており、中間の
基板保持具９´は高さを低く形成し、各基板保持具９、
９´、９に夫々Ｙ字形をした保持溝１０、１０…を多数
設けて基板Ｆを縦置き状態で挿入保持するようになって
いる。尚、基板保持具は３箇所を設けるように説明した
が４箇所に設けてもよいもので、液流に対して邪魔にな
らないように薄板で形成し、材質は石英、炭化ケイ素或
いは合成樹脂を用いる。一方、搬送装置１１は図１に示
すように構成している。即ち、昇降及び水平移動するよ
うに設けた駆動部材１２にロッド１３を介して取付けた
支持台１４の両側に開閉できる一対の挾持腕１５、１５
を夫々設けている。尚、駆動部材１２には支持台１４を
矢印に示すように水平方向に微調整できるよう、ラック
ピニオン機構、モータ及びシリンダ等が使用される。挾
持腕１５、１５´は夫々下端を中央側に折曲げた形状に
形成し、両側の挾持腕１５、１５及び１５´、１５´を
連結するように挾持板１６、１６´を下部に、又基板Ｆ
の重心Ｇ近傍に位置する箇所に挾持板１７、１７´をそ
れぞれ固定している。この下側の挾持板１６、１６´は
斜め上方に向くように取付け、上側の挾持板１７、１７
´は水平に取付けられている。そして、各挾持板１６、
１６´、１７、１７´には基板Ｆを挿入保持できるよう
に山形の挿入溝１８、１８…（図４参照）を所望数設け
ている。本実施例は前記のように構成したもので、基板
Ｆの薬液等による処理を行った後に、基板Ｆを挾持する
際には、図５に示すように両側の挾持腕１５、１５´を
開いた状態で支持具１４を下降させる。この下降は図６
に示すように両挾持腕１５、１５´を閉じた際に各挾持
板１６、１６´、１７、１７´が基板Ｆと接触しない位
置まで行う。そして、両挾持腕１５、１５´を閉じた後
に、図７に示すように支持具１４を上昇させて挾持板１
６、１６´の嵌入溝１８で基板Ｆの下部を、挾持板１
７、１７´で基板Ｆの重心Ｇの近傍、即ち重心Ｇより偏
心量ｅと微小距離αだけずれた位置を挾持する。尚、基
板Ｆが傾斜している時には、挾持板１７、１７´の上昇
に伴い、傾斜が徐々に矯正させ、鉛直状態になって挾持
板１７、１７´及び１６、１６´で基板Ｆを挾持するこ
とになる。この状態で挾持腕１５、１５´を上昇させ、
処理槽１から離脱させ、駆動部材１２を水平移動させて
次工程の処理槽等に基板Ｆを送る。尚、基板Ｆの処理
は、従来同様に処理槽１の下面から薬液を供給して基板
Ｆに沿って薬液を流し、オーバーフローさせる。次に挾
持腕１５、１５´の他の実施例を図８、９に基いて説明
すると、前記挾持板１６、１７の形状を図９に示すよう
にソロバン状に形成したものである。他はすべて同一で
ある。
【０００７】
【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るもので、基板保持用受台を処理槽内に宙吊り状態で位
置せしめており、ヒートサイクルなどに起因する処理槽
の変形や位置ずれ等の影響により基板保持具の位置ずれ
が発生し、それによる基板の搬送ミスが発生するおそれ
はなく、常に安定した状態で搬送装置での受渡しを行う
ことができる。又、搬送装置の挾持腕に設けた上下の挾
持板は基板重心近傍と基板の下部を保持するので、倒れ
量の大きい大型の基板に対しても安定した挾持を行うこ
とができる。更に、基板の下方から掬い上げるようにし
て挾持するので外縁に無理な挾持力がかかることはな
く、基板へのダメージが少なく、清浄度、破損に対する
安定性が高い。更に又、基板保持用受け台は常時処理槽
の処理液中に浸漬されており、基板保持用受台への基板
の受け渡しは液中で行われるので、基板の大気放置時間
を最小限にすることができ、生乾きやシミの発生を迎え
ることができると共に薬液処理時間を正確に制御するこ
とができ、オーバーエッチングの発生も迎えることが出
来る。
るもので、基板保持用受台を処理槽内に宙吊り状態で位
置せしめており、ヒートサイクルなどに起因する処理槽
の変形や位置ずれ等の影響により基板保持具の位置ずれ
が発生し、それによる基板の搬送ミスが発生するおそれ
はなく、常に安定した状態で搬送装置での受渡しを行う
ことができる。又、搬送装置の挾持腕に設けた上下の挾
持板は基板重心近傍と基板の下部を保持するので、倒れ
量の大きい大型の基板に対しても安定した挾持を行うこ
とができる。更に、基板の下方から掬い上げるようにし
て挾持するので外縁に無理な挾持力がかかることはな
く、基板へのダメージが少なく、清浄度、破損に対する
安定性が高い。更に又、基板保持用受け台は常時処理槽
の処理液中に浸漬されており、基板保持用受台への基板
の受け渡しは液中で行われるので、基板の大気放置時間
を最小限にすることができ、生乾きやシミの発生を迎え
ることができると共に薬液処理時間を正確に制御するこ
とができ、オーバーエッチングの発生も迎えることが出
来る。
【０００８】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るウエット処理装置の一実施例を示
す一部を切欠いた正面図。
す一部を切欠いた正面図。
【図２】基板保持具のみの断面図。
【図３】挾持腕部分の側面図。
【図４】挾持腕の形状を示す正面図。
【図５】挾持腕を開いた状態の側面図。
【図６】挾持腕を閉じた状態の側面図。
【図７】挾持腕を上昇させて基板を保持した状態の側面
図。
図。
【図８】挾持腕の他の実施例の側面図。
【図９】その挾持板を拡大して示す正面図。
【図１０】従来装置を示す断面図。
【図１１】前記従来装置のハンドを示す正面図。
【図１２】従来の他のハンドを示す側面図。
１ 処理槽 ２ 内側の槽 ３ 外側の槽 ４ 保護槽 ５ 受台用載置台 ６ 基板保持用受台 ７ 支持片 ８ 載置片 ９ 基板保持具 ９´ 基板保持具 １０ 保持溝 １１ 搬送装置 １２ 駆動部材 １３ ロッド １４ 支持具 １５ 挾持腕 １５´ 挾持腕 １６ 挾持板 １６´ 挾持板 １７ 挾持板 １７´ 挾持板 １８ 挿入溝 Ｆ 基板 Ｇ 重心 ｅ 偏心量 α 微少距離
Claims (1)
- 【請求項１】 処理槽１内に浸漬して薬液によってウエ
ット処理される基板Ｆの周縁下部を縦置き状態で載置さ
せる３本以上の平行した基板保持具９,９´の長手方向
両端に垂直に立上った支持片７，７を設け、該支持片
７,７の上端から外側に向かって載置片８を水平に延設
せしめた基板保持用受台６の前記基板保持具９，９′
を、処理槽１外に設けられた受台用載置台５に前記載置
片８を載置せしめることにより、処理槽１内周壁面及び
底面との間にわずかな間隔を保って、宙吊り状態で処理
槽１内に保持固定せしめると共に、基板Ｆの下部及び重
心近傍周縁の２ヶ所を挾持する挾持板１６，１６′，１
７，１７′を、開閉する対向した一対の挾持腕１５,１
５′に有し、基板Ｆを下から掬い上げる様に挾持して処
理槽１内の基板保持具９，９′への基板Ｆの受け渡しを
行う搬送装置１１を処理槽１外に設置したことを特徴と
するウエット処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14673492A JP2999064B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ウエット処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14673492A JP2999064B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ウエット処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05317817A JPH05317817A (ja) | 1993-12-03 |
| JP2999064B2 true JP2999064B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=15414384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14673492A Expired - Fee Related JP2999064B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ウエット処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2999064B2 (ja) |
-
1992
- 1992-05-14 JP JP14673492A patent/JP2999064B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05317817A (ja) | 1993-12-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |