JP2013051267A - 槽キャリア及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】筐体3内の支持部材11に複数枚の基板Wを支持させた槽キャリア1を所望の処理部に移動させる。そして、筐体3に処理液を供給されることにより、複数枚の基板Wに対する処理を行うので、処理液の供給量を低減できる。したがって、処理に要する処理液の使用量を低減することができる。また、基板Wの受け渡しの機会を少なくできる。
【選択図】図4
Description
すなわち、従来の装置は、搬送部により処理部に搬送した後に、複数枚の基板をリフタで処理部の処理位置に移動させるので、処理部にはリフタが下降できるだけの空間的な余裕が必要にある。したがって、流体を貯留する処理部の容積が大きくなり、処理液の使用量も多くなるという問題がある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、複数枚の基板を収納可能な槽キャリアにおいて、流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、前記筐体の内壁に設けられ、複数枚の基板を支持するための支持部材と、を備え、所望の処理部に移動されて前記筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うことを特徴とするものである。
基板Wを収納して処理に用いる槽キャリアの実施形態について説明する。
図1は、実施例1に係る槽キャリアを示す縦断面図であり、図2は、槽キャリアの横断面図である。
図8は、実施例2に係る槽キャリアを示す縦断面図である。なお、上述した実施例1と同じ構成については同符号を付すことにより詳細な説明については省略する。
上述した槽キャリアを用いて処理を行う基板処理装置の実施形態について説明する。
1,1A … 槽キャリア
3 … 筐体
5 … 奥側板
7 … 面側板
9 … 側面板
11 … 支持部材
19 … 上面開口部
21 … 側面開口部
23 … 側面蓋部材
25 … 流体供給ノズル
27 … 噴射口
51,51A … 基板処理装置
53 … ロードポート
55 … ストッカー部
57 … 水平移載部
59 … 姿勢変換部
61 … 槽キャリア洗浄部
63 … 処理ユニット
65 … 搬送部
67 … FOUP
69〜72 … 処理部
73 … 受け部
Claims (11)
- 複数枚の基板を収納可能な槽キャリアにおいて、
流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、
前記筐体の内壁に設けられ、複数枚の基板を支持するための支持部材と、
を備え、
所望の処理部に移動されて前記筐体に流体を供給されることにより、複数枚の基板に対する処理を行うことを特徴とする槽キャリア。 - 請求項1に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を前記側面開口部に密着されることを特徴とする槽キャリア。 - 請求項2に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、前記側面蓋部材を前記側面開口部から離反されることにより、供給された流体を排出されることを特徴とする槽キャリア。 - 請求項1に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
所望の処理部にて、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁に前記側面開口部を密着されることを特徴とする槽キャリア。 - 請求項4に記載の槽キャリアにおいて、
前記筐体は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反されることにより、供給された流体を排出されることを特徴とする槽キャリア。 - 基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、
基板に対して流体による処理を行う複数個の処理部と、
流体に対する耐性を備え、少なくとも一面が開放された筐体と、前記筐体の内壁に設けられ、FOUPから取り出された複数枚の基板を支持するための支持部材とを備えた槽キャリアと、
前記槽キャリアを所望の処理部に搬送し、前記筐体内に流体を供給して前記槽キャリアごと処理を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置において、
複数枚の基板を収納可能なFOUPが載置されるロードポートと、
前記ロードポートのFOUPを取り込むとともに、複数個のFOUPを載置可能なストッカー部と、
前記ストッカー部のFOUPと前記槽キャリアとの間で複数枚の基板を受け渡し、複数枚の基板の姿勢を、前記槽キャリアごと水平姿勢と垂直姿勢とで変換する姿勢変換部と、
前記複数個の処理部に沿って移動可能に構成され、前記槽キャリアを前記処理部に搬送する搬送部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置において、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた側面蓋部材を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記側面蓋部材を密着させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置において、
前記各処理部は、前記側面蓋部材を前記槽キャリアの側面開口部から離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置において、
前記筐体は、複数枚の基板を起立姿勢で整列して収納し、整列方向に形成された側面開口部と、整列方向と直交する方向に形成された上面開口部とを備え、
前記各処理部は、流体を供給する流体供給ノズルを備えた処理部側壁を備え、前記槽キャリアの側面開口部に前記処理部側壁を密着させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項10に記載の基板処理装置において、
前記各処理部は、前記処理部側壁から前記側面開口部を離反させることにより、前記槽キャリアに供給された流体を排出させることを特徴とする基板処理装置。
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JP2011187469A JP5911682B2 (ja) | 2011-08-30 | 2011-08-30 | 槽キャリア及び基板処理装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023182113A1 (ja) * | 2022-03-24 | 2023-09-28 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
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2011
- 2011-08-30 JP JP2011187469A patent/JP5911682B2/ja active Active
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