JP3160444U - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】装置の大型化やスループットの低下を引き起こすことなく、処理槽を外部雰囲気することできる基板処理装置を提供すること。【解決手段】処理液を貯留しウエハWに処理を行う処理槽21と、処理槽21内でウエハWを保持し、処理槽21と処理槽21の上方との間で搬送するガイド25と、処理槽21の上方を閉塞するカバー24とを具備する基板処理装置において、カバー24は処理槽21の閉塞状態で下方に突出した凹部24cを有する。凹部24cを、処理槽21の上方に待機するガイド25の少なくとも一部が収容可能な形状に形成する。【選択図】 図3
Description
本考案は、洗浄用の薬液を貯留した処理槽内で被処理体を薬液に浸漬して液処理を行う基板処理装置に関する。
例えば、半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハ(以下にウエハという)に種々の工程によりトランジスタ等の素子を形成するが、その表面にパーティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションが存在すると素子の性能が劣化してしまうため、ウエハを洗浄してこれらを除去する必要がある。このようなウエハの洗浄処理としては、洗浄槽内に所定の洗浄液を貯留し、その中にウエハを浸漬させるものが多用されている。このような洗浄処理は、ウエハに付着したパーティクルを効果的に除去できる長所がある。
このような洗浄槽を用いた洗浄処理には、連続バッチ処理を可能とするため、各種の薬液を用いてバッチ式に洗浄するための複数の薬液槽が配置された洗浄装置が用いられている。
このような薬液槽で洗浄処理を行う際には、薬液槽内の薬液が周囲に拡散防止するため、あるいは周囲の雰囲気が薬液槽内の薬液に溶け込むことによる薬液劣化を防止する観点から、薬液槽にカバーが設けられているものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
このような洗浄槽では槽で薬液処理を行っていない場合にカバーで薬液槽を閉塞するともに、槽内でウエハを保持するガイドはカバーの上方位置で待機するようになっている。
しかしながら、各処理槽間およびローダ部との間でウエハの搬送を行うウエハの搬送装置は、蓋の上方で待機するガイドと干渉しないように動作させるか、ガイドがカバー上方で待機していても干渉しないように高い位置で搬送を行うようにしなければならず、搬送時間が増加や、洗浄装置全体の高さ方向の大きさが増大してしまうという課題があった。
本考案は、上記課題に鑑みてなされたものであり、装置の大型化および装置のスループットの低下をさせることなく、処理槽雰囲気の外部への拡散を防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
前記課題を解決するために本考案の基板処理装置は、処理液を貯留し基板に液処理を行う処理槽と、前記処理槽内で基板を保持し、前記処理槽と該処理槽の上方との間で搬送する保持機構と、前記処理槽の上方を閉塞する蓋体とを具備する基板処理装置であって、前記蓋体は前記処理槽の閉塞状態で下方に突出した凹部を有することを特徴とする。
このように構成することによって、蓋体の凹部に保持機構などと干渉することなく近接して配置可能となるため、装置の高さ方向の大きさの増大やスループット低下を引き起こすことなく、処理槽を外部雰囲気と遮蔽することが出来る。
また、本考案において、前記蓋体の凹部は前記保持機構の少なくとも一部が収容可能な形状に形成されていることが好ましい。
このように構成することによって、保持機構の一部を凹部に収容できるため、蓋体を閉塞した状態で保持機構を蓋体の直上で待機させることでき、装置を大型化させることなく、処理槽を外部雰囲気と遮蔽できる。
また、本考案において、前記蓋体は二つの分割片に分割されていることが好ましい。
このように構成することによって、蓋体の開閉動作を簡便に行うこと出来る。
また、本考案において、前記保持機構は、基板の下方を保持する第1の保持部材と、基板の側方を保持する第2の保持部材とからなり、前記蓋体の凹部には、前記第1の保持部材の少なくとも一部が収容される構造とすることが好ましい。
このように構成することによって、蓋体における凹部の面積を小さくすることが出来るため、蓋体の強度を向上させることが出来る。
以上に説明したように、本考案の基板処理装置は、上記のように構成されており、以下のような効果を得られる。
基板処理装置で基板を液処理する場合において、蓋体に下方に突出した凹部を有し、保持機構の一部を凹部に収容するようにすることで、装置の大型化および装置のスループットの低下をさせることなく、処理槽雰囲気の外部への拡散を防止することができる。
以下に本考案に係る蓋体を有する洗浄処理槽(以下単に処理槽という)を備えた基板処理装置の具体的な構成について図面を参照しながら説明する。
以下、添付図面を参照して、本考案の実施の形態について具体的に説明する。本実施形態では、本考案に係る基板処理装置を半導体ウエハW(以下にウエハWという)の搬入、液処理、乾燥、搬出をバッチ式に一貫して行うように構成された基板処理システムに適用した場合について説明する。
基板処理システム1は、図1に示すように、ウエハWを収納可能なキャリアCの搬入出が行われ、かつキャリアCに対してウエハWの出し入れを行う搬入出部2と、キャリアCを貯蔵するキャリアストック部3と、ウエハWに対して液処理および乾燥を行う基板処理部4とを備えている。
搬入出部2は、キャリアCを載置可能な搬入出ステージ10を備え、搬入出ステージ10上に載置されたウエハWは多軸ロボット5により取り出されると共に、垂直方向に姿勢変換された後、基板載置部6に載置される。続いて、多軸ロボット5は搬出入ステージ4に搬送された別のキャリアCからウエハWを取り出して垂直方向に姿勢変換を行った後に基板載置部6に配置する。この際、後から基板載置部6に配置されたウエハWは、先に置かれたウエハWの間に配置されるようになっている。したがって、キャリアCの枚数が25枚の場合、基板載置部6には50枚のウエハWが垂直に起立した状態で配置されるようになっている。
キャリアストック部3は、処理前のウエハWが取り出されて空になったキャリアCを一時的に待機させるためや、洗浄後のウエハWを収納するための空のキャリアCを予め待機させるためのものであり、上下方向に複数のキャリアCがストック可能となっており、その中の所定のキャリアCを取り出したり、その中の所定の位置にキャリアCをストックしたりするためのキャリア移動機構11を備えている。
基板処理部4は、本考案に係る基板処理装置である液処理ユニット7と、乾燥ユニット8とを具備しており、搬入出ステーション2側から乾燥ユニット8、液処理ユニット7の順で配列されている。基板処理部4では、所定の順序で一または複数の液処理ユニット7で液処理を行った後に、乾燥ユニット8で所定のウエハ乾燥処理が行われる。また、この基板処理部4は、上述の基板載置部6の受け渡し位置において、複数枚、例えば50枚のウエハWの受け渡しを行うとともに、受け渡し位置と液処理ユニット7および乾燥ユニット8との間でウエハWを搬送する搬送アーム9を備えている。
ここで、搬送アーム9は、図2に示すように、ウエハWの下端部を支持する1本の第1の支持部材9aと、ウエハWの側方部を支持する2本の第2の支持部材9bとを有し、第2の支持部材9bは、図示しない回動機構によって下方位置と側方位置に回動可能に構成されている。すなわち、ウエハWを保持している状態ではウエハWの側方部を保持可能な位置に回動し(図2(a)参照)、ウエハWを保持しない状態では、下方に回動することに第1の支持部材9aと略同一の高さになるように構成されている(図2(b)参照)。このような構成によって、ウエハWを支持していない場合の搬送時における、他の装置構成部材との干渉を極力小さくすることが出来るようになっている。
液処理ユニット7は、図3に示すように、処理槽21を有しており、処理槽21内に所定の処理液が貯留されるようになっている。そして、所定の処理液供給源28から開閉バルブVを介設した供給配管28aを介して供給された処理液をノズル22から処理槽21内に供給することにより、その中に処理液が貯留され、その処理液中に複数のウエハWを浸漬させ、処理槽21から処理液をオーバーフローさせた状態で洗浄処理が行われる。オーバーフローした処理液は、外槽23に流れ込み、外槽23に接続された配管29から排出される。
処理槽21内においては、保持機構25(以下にガイド25という)によって複数、例えば50枚のウエハWが保持される。ガイド25はウエハWを起立させた状態で水平方向に保持するウエハ保持部26とウエハ保持棒を支持する支持部27とを有しており、例えば昇降シリンダやボールねじ機構等からなる図示しない駆動機構により支持部27を介して、処理槽21内と処理槽21上方の位置との間で昇降可能となっており、ウエハ処理してない場合には、処理槽21の上方で待機するようになっている。また、ウエハ保持部26はウエハの下端近傍を保持する2本の第1の保持棒(第1の保持部材)26aと、ウエハWの側方を保持する2本の第2の保持棒(第2の保持部材)26bとを有しており、第1および第2の保持棒26a,26bは複数のウエハWを起立させて保持するように長手方向に適宜間隔をおいて複数の溝が形成されている。
処理槽21の上端部には、液面を覆う蓋体24(以下にカバー24という)が設けられている。このカバー24は、薬液処理中には、処理槽21中の薬液雰囲気が周囲に拡散するのを防止する目的で、ウエハWの処理中あるいはウエハ非処理中には閉塞するようになっている。
また、カバー24は中心部において分割されており、分割片24a、24bに2分割されている。分割片24a,24bは、分割片24a,24bの端部に連設された図示しない開閉機構により、分割片24a,24bを回動することにより観音開き状に開閉可能になっている。また、カバー24はその中心部近傍に下方に突出するように凹部24cが形成されている。この凹部24cは第1のウエハ保持棒26aの下方部の形状に対応した形状、例えば平坦状の底部の両側に拡開方向に傾斜する傾斜側部を有する凹溝状に形成されており、処理槽1をカバー24で閉塞した状態でガイド25がカバー21の直上位置で待機可能となっている。
この場合、分割片24a,24bは、それぞれ処理槽21の上端開口の中心部から処理槽21と外槽23の半分を覆う板状の分割片本体24dと、分割片本体24dの内方側の中心側端部から内方側に向かって屈曲される傾斜側片24eと、傾斜側片24eの先端から内方側に向かって分割片本体24dと平行に屈曲される水平底片24fとからなる略クランク状に形成されており、処理槽21を閉塞した状態で、両分割片24a,24bの傾斜側片24eと水平底片24fとが協働して凹部24cを形成するようになっている。なお、両分割片24a,24bの水平底片24fの対向する端部には、互いに平行な傾斜面24gが形成されている。このように傾斜面24gを形成することにより、両分割片24a,24b間からの薬液雰囲気の拡散を抑制することができる。このように形成される分割片24a,24bは、開閉機構(図示せず)によって処理槽21を閉塞する水平位置と、処理槽21を開放して処理槽21の側方に退避する起立位置とに起倒移動し得るようになっている。
次に、以上のように構成される基板処理ユニット7において、処理動作の一例について図5A〜図5Fを参照して説明する。図5A〜図5Fは、ウエハ処理時の一連のカバー24の動作、ウエハ保持部25、搬送アーム17の動作を示す。この処理槽21内には例えばHCL、HF、SC1などの薬液が貯留され、所定の期間薬液処理が施される。
処理槽21でウエハWの処理が終了するとカバー24が開き(図5A参照)、ガイド25はウエハWを保持した状態でウエハ搬送アーム9との受け渡し位置h1まで上昇する(図5B参照)。次に、カバー24が閉塞した後(図5C参照)、搬送アーム9がガイド25の下方位置に移動して(図5D参照)、上昇することで搬送アーム9がガイド25からウエハを受け取り(図5E参照)、後続する処理の液処理ユニット7あるいは乾燥ユニット8に搬送される。
その後、ガイド25は待機位置h2へ下降して、次の処理されるべきウエハWが搬送されてくるまで待機する(図5F参照)。この際には第1の保持棒26aの下方部が、カバー24の下方に突出した凹部24cに収容されるため、処理槽21をカバー24で閉塞した場合であっても、搬送アーム9と干渉しない位置で待機するようになっている。
以上のように、カバー24は処理槽21の薬液処理時および待機時のウエハ搬入搬出時以外には常に処理槽21の液面を閉塞しており、またカバー24がガイド25の形状に対応した下方に突出するような凹部24cを有していることから、カバー24が処理槽21の液面を閉塞した状態でより下方まで降下した位置で待機することが可能となっている。そのため、装置の高さ方向への大型化を生じることなく、スループットを低下することがない。
なお、上記実施形態ではカバー24として二つに分割したタイプのものを示したが、カバー24を一枚で構成しても良い。また、上記実施形態では、二つに分割されたカバー24をいわゆる観音開きにする例について示したが、スライドや折りたたみ等他の方法で開くようにしても良い。さらにカバー24の分割数は2に限らず、3以上であっても良い。
さらに、カバー24に設けられた凹部24cは、ガイド25の第1の保持部材26aの下方部を収容しうる構成であったが、これに限らず、第1の保持部材26a全体を収容しうる形状や、第2の保持棒26bの一部または全体を収容可能な形状、第1の保持部材26a、第2の保持部材26b双方の一部または全体を収容可能な形状としても良い。
7:液処理ユニット(基板処理装置)
21:処理槽
22:ノズル
23:外槽
24:カバー(蓋体)
24a、24b:分割片
24c:凹部
25:ガイド(保持機構)
26a:第1の保持部材
26b:第2の保持部材
27:支持部
W:ウエハ(基板)
h1:受け渡し位置
h2:待機位置
21:処理槽
22:ノズル
23:外槽
24:カバー(蓋体)
24a、24b:分割片
24c:凹部
25:ガイド(保持機構)
26a:第1の保持部材
26b:第2の保持部材
27:支持部
W:ウエハ(基板)
h1:受け渡し位置
h2:待機位置
Claims (4)
- 処理液を貯留し基板に液処理を行う処理槽と、前記処理槽内で基板を保持し、前記処理槽と該処理槽の上方との間で搬送する保持機構と、前記処理槽の上方を閉塞する蓋体とを具備する基板処理装置であって、
前記蓋体は前記処理槽の閉塞状態で下方に突出した凹部を有する、ことを特徴とする基板処理装置。 - 前記蓋体の凹部は、前記保持機構の少なくとも一部が収容可能な形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記蓋体は二つの分割片に分割されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記保持機構は基板の下方を保持する第1の保持部材と、基板の側方を保持する第2の保持部材とからなり、前記蓋体の凹部には前記第1の保持部材の少なくとも一部が収容されることを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010002520U JP3160444U (ja) | 2010-04-15 | 2010-04-15 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010002520U JP3160444U (ja) | 2010-04-15 | 2010-04-15 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP3160444U true JP3160444U (ja) | 2010-06-24 |
Family
ID=54863619
Family Applications (1)
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JP2010002520U Expired - Lifetime JP3160444U (ja) | 2010-04-15 | 2010-04-15 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP3160444U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN111081591A (zh) * | 2018-10-22 | 2020-04-28 | 辛耘企业股份有限公司 | 基板处理系统 |
-
2010
- 2010-04-15 JP JP2010002520U patent/JP3160444U/ja not_active Expired - Lifetime
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CN111081591A (zh) * | 2018-10-22 | 2020-04-28 | 辛耘企业股份有限公司 | 基板处理系统 |
CN111081591B (zh) * | 2018-10-22 | 2022-07-29 | 辛耘企业股份有限公司 | 基板处理系统 |
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