JPH11233590A

JPH11233590A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH11233590A
Application number: JP5011598A
Authority: JP
Inventors: Kaoru Kanezuka; 薫金塚; Tadayasu Osawa; 忠康大沢
Original assignee: Kaijo Corp
Current assignee: Kaijo Corp
Priority date: 1998-02-16
Filing date: 1998-02-16
Publication date: 1999-08-27
Anticipated expiration: 2018-02-16
Also published as: JP2914949B1

Abstract

(57)【要約】【課題】液晶表示器用ガラス基板や半導体ウエハ等の
基板の表面に対して洗浄等の処理を行う基板処理装置で
あって、装置の小型化、低コスト化を図りかつメンテナ
ンスが容易性で処理能力の向上を図ることが可能な基板
処理装置を提供すること。【解決手段】基板処理装置１は、ハウジング２と、ロ
ーダ部３と、Ｕ字状の搬送経路を形成する表面処理部４
及びトランスファーユニット５と、アンローダ部６と、
メンテナンスエリア７と、搬送用カセットバッファ部８
と、処理用カセットバッファ部９とでなり、トランスフ
ァユニット５をハウジング２の上方に配設することによ
ってメンテナンスエリア７への出入りが容易であり、か
つ作業効率、省スペース化を図る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示器用ガラ
ス基板や半導体ウエハ等（以下、基板という）の基板の
表面に対して、洗浄、剥離、リンス、乾燥などの表面処
理を行う基板処理装置に関し、特に、カセットに収納さ
れた複数枚の基板に対しての処理を行う基板処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の基板処理装置として、図６乃至図
９に示すものがある。図６は、従来の基板処理装置の外
観を示す斜視図、図７は、図６の基板処理装置内の構成
を示す平面図、図８は、ローダ側ロボットの構成を示す
図、図９は、基板処理装置に装備される姿勢転換ロボッ
ト及び処理用カセットを搬送する表面処理ロボットの構
成を示す図である。

【０００３】図６及び図７に示すように、従来の基板処
理装置１０１は、ローダ部１０２と、表面処理部１０３
と、アンローダ部１０４と、メンテナンスエリア１０５
と、搬送用カセットバッファ部１０６と、処理用カセッ
トバッファ部１０７とからなっている。

【０００４】図７に示すように、複数枚の基板が収納さ
れた搬送用カセット１１６がローダ部１０２の搬入口１
１１に搬入され載置台１１４上に載置されるとき、ロー
ダ側ロボット１１８を挟んで載置台１１４と平行に配設
されている載置台１１５上に空の処理用カセット１１７
が待機状態で載置されている。この処理用カセット１１
７は、上部を載置台１１４側に向け基板を水平状態で挿
入するように載置台１１５上に横転状態で位置してい
る。そして、載置台１１４に載置された搬送用カセット
１１６に収納された処理前の基板は、ローダ側ロボット
１１８により載置台１１５に載置された処理用カセット
１１７に移替えられる。

【０００５】前記ローダ側ロボット１１８は、図８に示
すように、基台１１８ａと、この基台１１８ａ内にＺ方
向に伸縮自在でかつ回転可能に設けられた軸１１８ｂ
と、この軸１１８ｂの上部に基端部が回転自在に取り付
けられた第１アーム１１８ｃと、この第１アーム１１８
ｃの先端部に基端部が回転自在に取り付けられた第２ア
ーム１１８ｄと、この第２アーム１１８ｄの先端部に基
端部が回転自在に取り付けられた基板載置部１１８ｅと
からなる。従って、ローダ側ロボット１１８は、第１ア
ーム１１８ｃ及び第２アーム１１８ｄが伸縮することに
よって基板載置部１１８ｅが挿抜可能となっている。

【０００６】次に、このローダ側ロボット１１８による
基板の移替え動作について説明する。

【０００７】まず、軸１１８ｂを伸縮又は収縮させて基
板載置部１１８ｅを搬送用カセット１１６の最下段（又
は最上段）に収納された基板の下方に位置決めし、次に
第１アーム１１８ｃ及び第２アーム１１８ｄを同期回転
させて図Ｃに示す折り畳まれた状態から伸張させて基板
載置部１１８ｅを搬送用カセット１１６の最下段に収納
された基板の下方に挿入する。次に、軸１１８ｂをＺ方
向に僅かに伸張させて基板載置部１１８ｅを上昇させて
基板の下面に当接させて吸着する。この状態で、前記回
転方向とは逆方向に第１アーム１１８ｃ及び第２アーム
１１８ｄを同期回転させて基板載置部１１８ｅを搬送用
カセット１１６から取り出す。

【０００８】次に、軸１１８ｂを基台１１８ａに対して
１８０度回転させて基板載置部１１８ｅの先端を処理用
カセット１１７側に向ける。この処理用カセット１１７
への移替えのローダ側ロボット１１８の動作は、前記搬
送用カセット１１６とほぼ同じであるので説明を省略す
る。

【０００９】前記ローダ側ロボット１１８により搬送用
カセット１１６から基板を処理用カセット１１７に全て
移替えを終了すると、空の搬送用カセット１１６は搬送
用カセットバッファ部１０６を経てアンローダ部１０４
の載置台１２１に搬送される。また、処理前の複数枚の
基板を収納した処理用カセット１１７は、表面処理部１
０３に移送する。

【００１０】図７に示すように、表面処理部１０３は、
一点鎖線で示すように、「Ｕ」字型の搬送経路に沿って
複数の処理槽１２３を配設している。これら複数の処理
槽１２３により処理用カセット１１７に収納した複数枚
の基板を各種の洗浄液等により洗浄して乾燥する。

【００１１】次に、表面処理部１０３について図７及び
図９を参照して説明する。

【００１２】表面処理部１０３は、ローダ部１０２の載
置台１１５上に横転状態で載置された処理用カセット１
１７を起立させる姿勢転換ロボット１２４と、この姿勢
転換ロボット１２４により起立させた処理用カセット１
１７を受け取って前記「Ｕ」字型の搬送経路に沿って搬
送し、かつ各処理槽１２３に浸漬して洗浄を行い若しく
は乾燥を行うカセット搬送ロボット１２５、１２６、１
２７と、カセット搬送ロボット１２７により最終工程の
処理が完了して起立状態にある処理用カセット１１７を
受け取り横転させてアンローダ部１０４の載置台１２２
上に載置する姿勢転換ロボット１２８とからなってい
る。

【００１３】次に、図９に示すように、表面処理部１０
３の姿勢転換ロボット１２４及びカセット搬送ロボット
１２５の構成及び動作について説明する。なお、姿勢転
換ロボット１２８については、姿勢転換ロボット１２４
と同一であり、カセット搬送ロボット１２６及び１２７
についてはカセット搬送ロボット１２５と略同一である
ので、その説明を省略する。

【００１４】図９に示すように、姿勢転換ロボット１２
４は、一対のガイドレール１３１ａと、モータ及びボー
ルねじからなる駆動部材１３２ｂと、この駆動部材１３
２ｂにより駆動され前記ガイドレール１３１ａにより案
内されるテーブル１３２ｃとからなる案内機構１３１
と、前記テーブル１３２ｃに立設してなる昇降部材１３
２と、この昇降部材１３２の側面にＺ方向に昇降自在に
取り付けてなる駆動部１３３と、この駆動部１３３の両
側端部にアーム１３４ａの基端部が取り付けられ、該ア
ーム１３４ａの先端部に該アーム１３４ａに対して駆動
部１３３からの駆動力をベルトを介して付与されて回動
自在に取り付けられたチャック部１３４ｂとからなるチ
ャック１３４とを有している。

【００１５】カセット搬送ロボット１２５は、複数のガ
イドレール１２５ａと、このガイドレール１２５ａに沿
ってＹ方向に往復動自在に移動可能なであってＺ軸方向
に昇降自在な昇降機構１２５ｂと、この昇降機構１２５
ｂの上端部にＸ方向に延びた一対の回転軸及び該回転軸
先端に開閉自在なフックを有する開閉支持機構１２５ｃ
とからなる。この開閉支持機構１２５ｃは、前記姿勢転
換ロボット１２４により起立状態にある処理用カセット
１１７をフックに係止させて受け取り、後段の各処理槽
１２３に搬送するためのものである。そして、カセット
搬送ロボット１２５は、図７に示すＰＰ１までの搬送を
行い、処理用カセット１１７は順次カセット搬送ロボッ
ト１２６（ＰＰ１からＰＰ２まで）及びカセット搬送ロ
ボット１２７に受け渡し各処理を行う。

【００１６】カセット搬送ロボット１２７は、最終の乾
燥工程が終了すると、姿勢転換ロボット１２８に起立状
態の処理用カセット１１７を引き渡す。この処理用カセ
ット１１７の引き渡しの動作は、前述した姿勢転換ロボ
ット１２４からカセット搬送ロボット１２５への受け渡
し動作と逆の動作となる。そして、姿勢転換ロボット１
２８は、受け取った処理用カセット１１７を起立状態か
ら横転状態にその姿勢を転換してアンローダ部１０４の
載置台１２２上に載置する。

【００１７】アンローダ部１０４は、処理用カセット１
１７内の洗浄処理後の基板を受け取る洗浄前と同一の搬
送用カセット１１６が載置台１２１上に待機しているの
で、アンローダ側ロボット１１９によりローダ側ロボッ
ト１１８とは逆の動作により処理用カセット１１７内の
基板を搬送用カセット１１６内に順次移替える。この移
替え完了後、搬送用カセット１１６を搬出口１１２から
搬出する。なお、アンローダ側ロボット１１９は、ロー
ダ側ロボット１１８と同一の構成であるので、説明を省
略する。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】従来の基板処理装置１
０１は、搬送用カセットバッファ部１０６と処理用カセ
ットバッファ部１０７とが順送りされる構成となってい
る。つまり、搬入口１１１により搬入された搬送用カセ
ット１１６内の基板は、処理用カセット１１７に移替え
て洗浄処理が行われるので、１対１の関係となってい
る。従って、この基板処理装置１０１の処理能力は、搬
送用カセットバッファ部１０６と処理用カセットバッフ
ァ部１０７上に載置可能なカセット数となっている。こ
のカセット数を増加させると、装置が大型化してしま
う。

【００１９】また、従来の基板処理装置１０１は、搬送
用カセットバッファ部１０６内に搬送用カセット１１６
を順送りする送り機構、処理用カセットバッファ部１０
７の処理用カセット１１７を順送りする送り機構、姿勢
転換ロボット１２４及び姿勢転換ロボット１２８の各装
置が必要であり、かつそれら各装置の制御を行わなけれ
ばならないので制御が複雑となっている。

【００２０】また、従来の基板処理装置１０１は、図６
に示すように、メンテナンスエリア１０５に入るために
メンテナンス入口１０８から進入する構成となっている
が、図７から明らかなように、姿勢転換ロボット１１７
とカセット搬送ロボット１２５とを同期制御して受け渡
しを行うために、それほどスペースに余裕がない。そこ
で、姿勢転換ロボット１２４には図９にて明らかなよう
に、ガイドレール１２５ａに沿ってＹ方向に移動する機
構が備えられている。こうすることによって姿勢転換ロ
ボット１２４とカセット搬送ロボット１２５とが近接若
しくは離間可能となっている。しかしながら、処理用カ
セット１１７の受け渡しは、精度の高い同期制御が必要
なため、更に複雑な制御を行っている。

【００２１】また、従来の基板処理装置１０１は、カセ
ット搬送ロボット１２５、カセット搬送ロボット１２
６、カセット搬送ロボット１２７により表面処理部１０
３の各工程の処理を行うが、図７から明らかなように、
カセット搬送ロボット１２６は処理用カセット１１７を
係止する開閉支持機構１２５ｃ（図９参照）の方向が他
のカセット搬送ロボット１２５及び１２７と異なるた
め、先端のフックの形状を変えなければならない。ま
た、各カセット搬送ロボット１２５，１２６，１２７間
の処理用カセット１１７の受け取り動作を行うための同
期制御を行わなければならない。しかも、各カセット搬
送ロボット１２５、１２６、１２７は処理用カセット１
１７を順次受け渡していかなければならないので、これ
ら各カセット搬送ロボット１２５、１２６、１２７の移
動速度、処理能力以上の稼働を行うことはできないとい
う課題がある。

【００２２】本発明の目的は、上記従来技術の欠点に鑑
みてなされたものであって、液晶表示器用ガラス基板や
半導体ウエハ等の基板の表面に対して洗浄等の処理を行
う基板処理装置において、装置の小型化、低コスト化を
図りかつメンテナンスが容易で、しかも処理能力の向上
を図ることが可能な基板処理装置を提供することにあ
る。

【００２３】

【課題を解決するための手段】本発明による基板処理装
置は、カセットに収納された複数枚の基板に対して表面
処理を行う基板処理装置であって、複数枚の基板を所定
のピッチで収納する搬送用カセットを所定の距離移動さ
せるシフト手段と、前記搬送用カセットと異なる配列ピ
ッチを有する処理用カセットとの間で基板を移替える基
板移替手段と、処理前若しくは処理後の基板を収納する
処理用カセットの姿勢を代える姿勢転換手段と、前記処
理用カセットを搬送し洗浄槽等に浸漬処理を行い一連の
処理を行う少なくとも２以上のカセット搬送手段を有す
る表面処理部と、前記表面処理部と共に略Ｕ字状の搬送
経路を形成するトランスファーユニットと、前記搬送用
カセットを複数ストックする搬送用カセットバッファ部
と、前記処理用カセットを複数ストックする処理用カセ
ットバッファ部と、前記搬送用カセットバッファ部の搬
送用カセットと前記処理用カセットバッファ部の処理用
カセットの移動を行うカセット移動手段とを備え、前記
トランスファーユニットは、前記洗浄槽等の上方に位置
して配設され、下方をメンテナンスエリア内への出入り
が可能な空間を設けてなるものである。

【００２４】また、本発明による基板処理装置の前記搬
送用カセットバッファ部と前記処理用カセットバッファ
部とは、夫々少なくとも２以上の段で構成してなるもの
である。

【００２５】また、本発明による基板処理装置の前記搬
送用カセットバッファ部の搬送用カセットと前記処理用
カセットバッファ部の処理用カセットは異なる処理方式
により移送されてなり、前記搬送用カセットバッファ部
の搬送用カセットは先詰め方式により順次移送してなる
ものである。

【００２６】また、本発明による基板処理装置の前記ト
ランスファーユニットは、案内手段により案内されるテ
ーブル上に前記処理用カセットを少なくとも１以上載置
可能でなり、該テーブル上に前記処理用カセットを待機
可能である。

【００２７】また、本発明による基板処理装置の前記２
以上のカセット搬送手段は、異なる処理速度を有するも
のである。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明によ
る基板処理装置の実施例について説明する。

【００２９】図１は、本発明による基板処理装置の外観
及び内部の概略を示す図、図２は、本発明による基板処
理装置内の構成を示す平面図、図３は、カセット移動手
段によりカセットの移動を説明する図、図４は、ローダ
側基板移替ロボットにより基板の搬送工程を説明する
図、図５は、トランスファーユニットの構成を示す図で
ある。

【００３０】図１及び図２に示すように、本発明による
基板処理装置１は、ハウジング２と、ローダ部３と、表
面処理部４と、トランスファーユニット５と、アンロー
ダ部６と、メンテナンスエリア７と、搬送用カセットバ
ッファ部８と、処理用カセットバッファ部９とからなっ
ている。

【００３１】図１に示すように、ハウジング１は、内部
が高清浄な雰囲気下に保たれており、洗浄処理が行われ
る工程中に基板等に塵埃等が付着しないようになってい
る。

【００３２】図１及び図２に示すように、複数枚の基板
が収納された搬送用カセット１１がローダ部３の搬入口
１３にＸ方向から搬入されると、搬送用カセット１１は
図示せぬ載置台上に載置される。そして、この搬送用カ
セット１１は、図示せぬシフト手段により矢印Ｙａ方向
に１つ分シフトされる。このシフト手段は、シリンダ等
の駆動機構を備えており、このシリンダ等の駆動機構に
より載置台をＹａ方向に１つ分シフトするものである。
これは、搬送用カセット１１内の基板Ｗ（図４及び図５
に図示）の移替え中に更に後の搬送用カセット１１をハ
ウジング２内に待機させて作業効率を向上させると共に
後述するカセット搬送ロボットをより搬入口１３側まで
移動可能としている。従って、作業効率、省スペース化
を図っている。

【００３３】搬送用カセット１１が所定の位置に位置決
めされると、ローダ側基板移替ロボット１７を挟んで搬
送用カセット１１が載置されている載置台と平行に配設
してなる姿勢転換部１５の略Ｌ字型のアーム１５ａに空
の処理用カセット１２が待機状態で載置されている。こ
の処理用カセット１２は、上部を搬送用カセット１１側
に向けて基板Ｗを水平状態で挿入可能なように姿勢転換
部１５のアーム１５ａが横転状態で位置している。

【００３４】この状態で、搬送用カセット１１に収納さ
れた処理前の基板は、ローダ側基板移替ロボット１７に
より処理用カセット１２への移替えを行う。このとき、
搬送用カセット１１内の複数の基板Ｗの配列ピッチは、
処理用カセット１２の基板の配列ピッチよりも大きくな
っている。処理用カセット１２の基板の配列ピッチは、
最適なピッチとなっているが、この処理用カセット１２
の配列ピッチを搬送用カセット１１の配列ピッチよりも
小さくすることにより洗浄槽の小型化を図っている。

【００３５】次に、搬送用カセット１１から処理用カセ
ット１２への基板の移替えを行うローダ側基板移替ロボ
ット１７について、図１及び図４を参照して説明する。
なお、アンローダ側基板移替ロボット１８については、
ローダ側基板移替ロボット１７と同一の構成であるの
で、説明を省略する。なお、ローダ側基板移替ロボット
１７及びアンローダ側基板移替ロボット１８を、基板移
替手段と称する。

【００３６】ローダ側基板移替ロボット１７は、図１に
示すハウジング２の床面に設置されてなり、図４に示す
ように、基体部１７ａと、基体部１７ａ内に設けられ図
示せぬ駆動手段により上下方向、すなわちＺ軸方向に伸
縮自在でかつＲ方向に回転可能に設けられた昇降軸１７
ｂと、この昇降軸１７ｂの上部に取付固定された回転ベ
ース１７ｃと、この回転ベース１７ｃの案内溝１７ｃ₁
に沿って基端部１７ｄ₁が図示せぬ駆動機構により駆動
力が付与されて案内され該基端部１７ｄ₁の両端に取り
付けられた一対のアーム１７ｄ₂が前後方向、すなわち
Ｘ方向に移動自在な基板載置部１７ｄとからなってい
る。

【００３７】このローダ側基板移替ロボット１７による
基板Ｗの移替え動作について説明する。

【００３８】図４に示すように、略矩形状の液晶表示器
などに使用される大型のガラス基板Ｗは、前後方向に開
口部１１ｏを有しかつ複数の支柱１１ａにより箱形に形
成されてなる搬送用カセット１１内に所定のピッチで配
列されている。

【００３９】そして、ローダ側基板移替ロボット１７
は、昇降軸１７ｂを伸縮又は収縮させて基板載置部１７
ｄのアーム１７ｄ₂を搬送用カセット１１の最下段（又
は最上段）に収納された基板Ｗの下方に位置決めする。
この位置決めは、基板処理装置１が備えているマイクロ
コンピュータ等からなる制御手段としての制御装置（図
示せず）が行う。なお、本発明による種々の制御は、全
てこの制御装置が行う。

【００４０】次に、昇降軸１７ｂ及び上端部に取り付け
られた回転ベース１７ｃをＲ方向に回転させて基板載置
部１７ｄのアーム１７ｄ₂を搬送用カセット１１の開口
部１１ｏに向けて位置決めする。この位置決め後、回転
ベース１７ｃは基板載置部１７ｄの基端部１７ｄ₁に駆
動力を付与してアーム１７ｄ₂を搬送用カセット１１の
開口部１１ｏ内に進入させて基板Ｗの下面に移動させ
る。次に、昇降軸１７ｂをＺ方向に僅かに伸張させて基
板載置部１７ｄを上昇させて基板Ｗの下面に当接させて
吸着する。なお、この吸着は、アーム１７ｄ₂ が有す
る真空吸着等の吸着手段によるが、図４においては図示
していない。

【００４１】基板載置部１７ｄが基板Ｗを保持すると、
前記とは逆の動作を行う。すなわち、基板載置部１７ｄ
を搬送用カセット１１内から退避移動させて回転ベース
１７ｃをＲｖ方向に回転させる。そして、図１及び図２
に示すように、基板載置部１７ｄを処理用カセット１２
の開口部１２ｏに対峙させる。この処理用カセット１２
は、搬送用カセット１１と配列ピッチが異なる他は、同
一となっている。従って、ローダ側基板移替ロボット１
７が搬送用カセット１１から処理用カセット１２に基板
Ｗを移替える場合には、配列ピッチが異なるので昇降軸
１７ｂを位置決めする必要がある。

【００４２】以上の動作により搬送用カセット１１から
処理用カセット１２に基板Ｗが移替えられる。

【００４３】次に、処理前の複数枚の基板Ｗを収納した
横転状態の処理用カセット１２は、姿勢転換手段として
の姿勢転換部１５により開口部１２ｏが上方に向くよう
に支軸１５ｂを中心として図示せぬ駆動手段により駆動
されて起立状態に回動する（図１，矢印Ｒｏ参照）。こ
の姿勢転換手段としての姿勢転換部１５は、ハウジング
２内の図示せぬ固定手段に固定されている。なお、姿勢
転換部１６は、姿勢転換部１５と同一の構成であるの
で、説明を省略する。

【００４４】次に、姿勢転換部１５にある処理用カセッ
ト１２は、カセット搬送手段としてのカセット搬送ロボ
ット２１により表面処理部４に搬送する。カセット搬送
手段としてのカセット搬送ロボット２２は、カセット搬
送ロボット２１と同一の構成であるので、説明を省略す
る。なお、カセット搬送ロボット２１は、主として洗浄
工程への搬送を行い、カセット搬送ロボット２２は、主
としてリンス及び乾燥工程への搬送を行う。この表面処
理部４は、後述するトランスファーユニット５と共に、
略「Ｕ」字型の搬送経路をなしている。

【００４５】図１及び図２に示すように、表面処理部４
の洗浄工程及びリンス工程は、７つの槽からなってい
る。すなわち、カセット搬送ロボット２１のチャックを
洗浄するチャック洗浄槽２３、剥離洗浄槽２４及び２
５、剥離洗浄槽２４及び２５の剥離液をリンスするＤＭ
ＳＯ（ジメチルスルホキシド＝ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｕ
ｌｆｏｘｉｄｅ）洗浄槽２６、リンス槽２７及び２８、
乾燥槽２９である。これら各槽を以下、洗浄槽等と呼
び、各種の洗浄液及びリンス液等を洗浄液等と呼ぶ。

【００４６】次に、表面処理部４について図１を参照し
て説明する。

【００４７】表面処理部４は、各洗浄槽等（２３乃至２
９）と、姿勢転換部１５から処理前の処理用カセット１
２を各洗浄槽等に搬送するカセット搬送手段としてのカ
セット搬送ロボット２１と、各洗浄槽等に搬送し、かつ
処理後の処理用カセット１２を姿勢転換部１６に受け渡
すカセット搬送手段としてのカセット搬送ロボット２２
とからなっている。

【００４８】次に、カセット搬送手段としてのカセット
搬送ロボット２１について図１を参照して説明する。

【００４９】カセット搬送ロボット２１は、複数のガイ
ドレール等からなる案内機構２１ａと、この案内機構２
１ａに支持されてベルト若しくはチェーン等により駆動
力を付与されてＸ方向に往復動自在で、かつＺ軸方向に
昇降自在な昇降機構２１ｂと、この昇降機構２１ｂの上
端部にＹ方向に延びた支持アーム２１ｃと、この支持ア
ーム２１ｃの下部に開閉自在なフックを有する開閉機構
２１ｄとからなる。

【００５０】このカセット搬送ロボット２１は、図２に
示すように、案内機構２１ａの一方の端部が姿勢転換部
１５と並ぶ位置、すなわちＡで示すラインまで進入する
構成となっている。この構成により姿勢転換部１５は、
ハウジング２内の図示せぬ固定手段に固定することが可
能となっており、姿勢転換部１５のアーム１５ａは、横
転状態と起立状態との間を回動する構成で足りるので、
処理用カセット１２の受け渡しの制御が簡単である。ま
た、案内機構２１ａを姿勢転換部１５と並んだ位置まで
進入させるため、搬送用カセット１１をパーク位置Ｐ₁
からパーク位置Ｐ₂にシフトする構成としたことによっ
て、次の搬送用カセット１１をハウジング２内のパーク
位置Ｐ₁に待機させて次の処理を直ちに行うことができ
る構成となっている。

【００５１】カセット搬送ロボット２１の開閉機構２１
ｄは、前記姿勢転換部１５により起立状態にある処理用
カセット１２をフックに係止させて受け取り、各洗浄槽
等２３乃至２６の各々に順次処理用カセット１２毎浸漬
して洗浄を行う。

【００５２】カセット搬送ロボット２１によりＤＭＳＯ
洗浄槽２６の洗浄が終了すると、トランスファーユニッ
ト５に処理用カセット１２を移送する。図２に示すよう
に、トランスファーユニット５の下部には、ＤＭＳＯ洗
浄槽２６が配設されてなり、このＤＭＳＯ洗浄槽２６と
並んでカセット搬送ロボット２１の案内機構２１ａの他
方の端部が配設されてカセット搬送ロボット２１が最奥
部まで進入可能となっている。

【００５３】図１に示すように、トランスファーユニッ
ト５は、前記ＤＭＳＯ洗浄槽２６の上方に配設されてな
り、このトランスファーユニット５の下部は、オープン
スペースとなってメンテナンスエリア７内へ自由に出入
り可能となっている。この構成によって、本発明による
基板処理装置１は、図２に示すように、バッファとなる
バッファ洗浄槽３１及び３２や各装置へのメンテナンス
作業が容易であり、本発明の特徴の１つとなっている。

【００５４】次に、トランスファーユニット５の構成及
び動作について説明する。

【００５５】図５に示すように、トランスファーユニッ
ト５は、２本のトラックレール３５ａと、このトラック
レール３５ａに跨架され、断面略コ字状で転動体として
のボール又はころを介してトラックレール３５ａの軌道
に沿って往復動自在に案内されるスライダ３５ｂと、こ
のスライダ３５ｂに取付固定されたテーブル３５ｃと、
このテーブル３５ｃの下面中央に取り付けられ一対のプ
ーリ３５ｅに巻回されてなる無端ベルト３５ｄと、一対
のプーリ３５ｅの一方に駆動力を付与するモータ３５ｆ
とからなっている。前記トラックレール３５ａと、スラ
イダ３５ｂとを案内手段と呼ぶ。

【００５６】図１、図２及び図５に示すように、カセッ
ト搬送ロボット２１がＤＭＳＯ洗浄槽２６から洗浄処理
が終了した処理用カセット１２を開閉機構２１ｄのフッ
クに係止させてトランスファーユニット５のテーブル３
５ｃ上の所定の位置に載置する。そして、モータ３５ｆ
は図示せぬ制御装置からの指令により駆動されると、テ
ーブル３５ｃは無端ベルト３５ｄと共にＹ方向に向かっ
て移動する。そして、リンス槽２７の上方に到来する
と、この処理用カセット１２は、カセット搬送手段とし
てのカセット搬送ロボット２２に受け渡される。

【００５７】上記トランスファーユニット５のテーブル
３５ｃは、図５では処理用カセット１２が１つ載置され
ているが、この処理用カセット１２が複数載置される大
きさのものとすることも可能である。この場合、無端ベ
ルト３５ｄ及びテーブル３５ｆは、カセット搬送ロボッ
ト２２の昇降機構（カセット搬送ロボット２１の昇降機
構２１ｂ参照）を避ける構成、すなわちテーブルの中央
にスリットを設けたり、無端ベルト３１ｄを片側に寄せ
る構成のものとすればよい。

【００５８】つまり、このトランスファーユニット５
は、カセット搬送ロボット２１及び２２の処理速度や移
動速度により処理工程に時間を要している場合などに
は、トランスファーユニット５のテーブル３５ｃ上に処
理用カセット１２を一時的に待機させることが可能であ
る。こうすることによって、カセット搬送ロボット２１
とカセット搬送ロボット２２とを必ずしも同期を取る必
要がなくなり、作業の処理速度が向上すると共に制御も
容易なものとなっている。

【００５９】次に、カセット搬送ロボット２２は、トラ
ンスファーユニット５から処理用カセット１２を受け取
り、各リンス槽２７及び２８を経て最終の乾燥槽２９が
終了すると、姿勢転換部１６に起立状態の処理用カセッ
ト１２を引き渡す。この処理用カセット１２の引き渡し
の動作は、前述した姿勢転換部１５からカセット搬送ロ
ボット２１への受け渡し動作と逆の動作となる。そし
て、姿勢転換部１６は、受け取った処理用カセット１２
を起立状態から横転状態にその姿勢を転換する。そし
て、次にアンローダ部６の処理がなされる。このアンロ
ーダ部６は、基板移替手段としてのアンローダ基板移替
ロボット１８により処理後の基板Ｗを処理用カセット１
２から基板Ｗを搬送したものと同一の搬送用カセット１
１に移替えて搬送口１４から搬出される。なお、アンロ
ーダ側基板移替ロボット１８からの基板Ｗの移替え動作
は、ローダ側基板移替ロボット１７と同一の構成となっ
ており、基板Ｗの移替え動作が逆となるだけでその他は
同じであり、また、図２に示すように、パーク位置Ｐ₃
からパーク位置Ｐ₄へのシフト動作は、前述したパーク
位置Ｐ₁及びパーク位置Ｐ₂と同じであるので説明を省略
する。

【００６０】次に、本発明による基板処理装置の特徴と
なっている搬送用カセットバッファ部８、処理用カセッ
トバッファ部９及びカセット移動手段１０について説明
を行う。

【００６１】図１及び図３に示すように、搬送用カセッ
トバッファ部８と処理用カセットバッファ部９は、共に
上下二段の構成となっている。この構成とすることによ
って、省スペース化を図りかつ搬送用カセット１１及び
処理用カセット１２を複数ストックすることが可能とな
っている。前記搬送用カセットバッファ部８と処理用カ
セットバッファ部９は上下二段の構成となっているが、
複数の段で構成してもよい。

【００６２】搬送用カセットバッファ部８と処理用カセ
ットバッファ部９とは、上下二段の構成である点は共通
であるが、搬送用カセットバッファ部８と処理用カセッ
トバッファ部９とは送り方式が異なる。すなわち、搬送
用カセットバッファ部８は、先詰め方式と称されてお
り、搬入口１３から搬入される搬送用カセット１１の順
番がそのまま維持されて搬出口１３から搬出されるもの
である。従って、搬送用カセット１１に収納された基板
Ｗは、洗浄処理後同一の搬送用カセット１１に戻される
こととなる。従って、搬送用カセットバッファ部８の上
下二段の配列は所定の規則に従って順送り制御されてい
る。

【００６３】しかして、処理用カセットバッファ部９
は、処理用カセット１２は表面処理部４及びトランスフ
ァユニット５の搬送経路を巡回すればよいので、後述す
るカセット移動手段１０によりランダムに姿勢転換部１
５に搬送される。従って、図１及び図３では、搬送用カ
セット１１及び処理用カセット１２が整然と配列されて
いるが、処理用カセット１については、空いているとこ
ろがあれば、カセット移動手段１０により姿勢転換部１
６から受け取った処理用カセット１２を該箇所に搬送す
ることとなる。勿論、搬送用カセット１１と同様に先詰
め方式でもよいが、このようにする方が処理速度が向上
する。

【００６４】次に、カセット移動手段１０の構成及び動
作について説明する。

【００６５】図３に示すように、カセット移動手段１０
は、一対のガイドレール３８ａと、このガイドレール３
８ａに沿って図示せぬ駆動手段によりＹ方向に往復動自
在に案内される略Ｌ字状の基台３８ｂと、この基台３８
ｂの立設部に沿ってＺ軸方向に昇降自在な昇降台３８ｃ
と、この支持部３８ｃ上を図示せぬ駆動手段により駆動
されＸ方向に突出して搬送用カセット１１及び処理用カ
セット１２内部に進退自在で該搬送用カセット１１及び
処理用カセット１２を取り出して移送するカセット移動
片３８ｄとからなっている。

【００６６】このカセット移動手段１０は、搬送用カセ
ット１１を移動させる場合には、昇降台３８ｃを支柱１
１の下方に位置するように位置決めしてカセット移動片
３８ｄを伸ばして搬送用カセット１１内に進入させた後
昇降台３８ｃを上昇させてカセット移動片３８ｄに載置
させて搬送用カセット１１を所定の位置に移動させる。
処理用カセット１２についても同様に行う。

【００６７】このように、本発明による基板処理装置１
は、カセット移動手段１０により搬送用カセットバッフ
ァ部８及び処理用カセットバッファ部１０の処理を行う
ので、設置スペースも狭くかつ処理能力も向上させるこ
とができる。

【００６８】なお、カセット移動手段１０は、姿勢転換
部１５及び姿勢転換部１６への処理用カセット１２の移
送若しくは受け取りを行う際、ローダ側基板移替ロボッ
ト１７及びアンローダ側基板移替ロボット１８との衝突
を避けるために、昇降台３８ｃ及び昇降軸１７ｂの高さ
制御により両者が衝突しない構成となっている。

【００６９】

【発明の効果】以上のように、本発明による基板処理装
置は、搬送用カセットバッファ部及び処理用カセットバ
ッファ部とが共に複数段で構成されているため多くのカ
セットを収納することが可能でかつ小型化することが可
能であり、しかも搬送用カセットバッファ部と処理用カ
セットバッファ部とは送り方式が異なるので処理速度を
向上させることができると共に作業効率の向上を図るこ
とができる。

【００７０】また、本発明による基板処理装置は、搬送
用カセットバッファ部と処理用カセットバッファ部との
間の処理をカセット移動手段により行うので、装置の構
成が簡単でありしかも制御も容易となり、コストも低減
することができる。

【００７１】また、本発明による基板処理装置は、トラ
ンスファーユニットを有してなるので、メンテナンスエ
リア内に容易に出入りすることが可能となっており、メ
ンテナンスが容易であると共にカセット搬送ロボットに
代えてトランスファーユニットで構成したために装置全
体が複雑化せず制御も容易なものとなっている。特に、
カセット搬送ロボット間の同期制御を図る必要がなく、
しかもカセット搬送ロボットが作業中であるときはトラ
ンスファーユニットで待機状態とすることが可能となる
ので作業効率及び作業速度を向上させることができる。
しかも、本発明によれば、処理槽の数が異なる結果、同
一の処理速度のカセット搬送ロボットでは作業時間が異
なってくるのでこのようなトランスファーユニットを設
けることによってそれらの時間差を解消することが可能
となる。そして、更に、このトランスファーユニットを
有効に活用することによって、異なる処理速度のカセッ
ト搬送ロボットを使用することも可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による基板処理装置の外観及び内部の概
略を示す図である。

【図２】本発明による基板処理装置内の構成を示す平面
図である。

【図３】カセット移動手段によりカセットの移動を説明
する図である。

【図４】ローダ側基板移替ロボットにより基板の搬送工
程を説明する図である。

【図５】トランスファーユニットの構成を示す図であ
る。

【図６】従来の基板処理装置の外観を示す斜視図であ
る。

【図７】図６の基板処理装置内の構成を示す平面図であ
る。

【図８】ローダ側ロボットの構成を示す図である。

【図９】基板処理装置に装備される姿勢転換ロボット及
び処理用カセットを搬送する表面処理ロボットの構成を
示す図である。

【符号の説明】

１基板処理装置２ハウジング３ローダ部４表面処理部５トランスファーユニット６アンローダ部７メンテナンスエリア８搬送用カセットバッファ部９処理用カセットバッファ部１０カセット移動手段１１搬送用カセット１２処理用カセット１３搬入口１４搬出口１５、１６姿勢転換部１７ローダ側基板移替ロボット１８アンローダ側基板移替ロボット２１、２２カセット搬送ロボット

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【手続補正書】

【提出日】平成１１年２月１６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２３】

【課題を解決するための手段】本発明による基板処理装
置は、カセットに収納された複数枚の基板に対して表面
処理を行う基板処理装置であって、複数枚の基板を所定
のピッチで収納する搬送用カセットを搬入口あるいは搬
出口と基板の移替え位置との間で所定の距離移動させる
シフト手段と、前記搬送用カセットと前記所定のピッチ
と異なる配列ピッチを有する処理用カセットとの間で基
板を移替える基板移替手段と、処理前若しくは処理後の
基板を収納する処理用カセットの姿勢を代える姿勢転換
手段と、前記処理用カセットを搬送し洗浄槽等に浸漬処
理を行い一連の処理を行う少なくとも２以上のカセット
搬送手段を有する表面処理部と、前記表面処理部のカセ
ット搬送手段と共に略Ｕ字状の搬送経路を形成するトラ
ンスファーユニットと、前記搬送用カセットを複数スト
ックする搬送用カセットバッファ部と、前記処理用カセ
ットを複数ストックする処理用カセットバッファ部と、
前記搬送用カセットバッファ部の搬送用カセットと前記
処理用カセットバッファ部の処理用カセットの移動を行
うカセット移動手段とを備え、前記トランスファーユニ
ットは、前記洗浄槽等の上方に位置して配設され、下方
をメンテナンスエリア内への出入りが可能な空間を設け
てなるものである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】カセットに収納された複数枚の基板に対
して表面処理を行う基板処理装置であって、複数枚の基板を所定のピッチで収納する搬送用カセット
を所定の距離移動させるシフト手段と、前記搬送用カセットと異なる配列ピッチを有する処理用
カセットとの間で基板を移替える基板移替手段と、処理前若しくは処理後の基板を収納する処理用カセット
の姿勢を代える姿勢転換手段と、前記処理用カセットを搬送し洗浄槽等に浸漬処理を行い
一連の処理を行う少なくとも２以上のカセット搬送手段
を有する表面処理部と、前記表面処理部と共に略Ｕ字状の搬送経路を形成するト
ランスファーユニットと、前記搬送用カセットを複数ストックする搬送用カセット
バッファ部と、前記処理用カセットを複数ストックする処理用カセット
バッファ部と、前記搬送用カセットバッファ部の搬送用カセットと前記
処理用カセットバッファ部の処理用カセットの移動を行
うカセット移動手段とを備え、前記トランスファーユニットは、前記洗浄槽等の上方に
位置して配設され、下方をメンテナンスエリア内への出
入りが可能な空間を設けてなることを特徴とする基板処
理装置。
【請求項２】前記搬送用カセットバッファ部と前記処
理用カセットバッファ部とは、夫々少なくとも２以上の
段で構成してなることを特徴とする請求項１記載の基板
処理装置。
【請求項３】前記搬送用カセットバッファ部の搬送用
カセットと前記処理用カセットバッファ部の処理用カセ
ットは異なる処理方式により移送されてなり、前記搬送
用カセットバッファ部の搬送用カセットは先詰め方式に
より順次移送してなることを特徴とする請求項１又は請
求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】前記トランスファーユニットは、案内手
段により案内されるテーブル上に前記処理用カセットを
少なくとも１以上載置可能でなり、該テーブル上に前記
処理用カセットを待機可能であることを特徴とする請求
項１記載の基板処理装置。
【請求項５】前記２以上のカセット搬送手段は、異な
る処理速度を有することを特徴とする請求項１記載の基
板処理装置。