JP2009043828A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】流量計、調節機構及び調節機構によって、エア噴出孔から噴出されるエアの流量とエア吸引孔から吸引されるエアの流量とがほぼ同一と認められる流量になるように制御されることになるため、基板の振動を抑えた状態で当該基板Sを搬送することができる。これにより、基板を搬送させつつ当該基板Sの表面にレジストを塗布する場合であっても、当該レジスト膜に横断ムラが形成されるのを防ぐことができるので、基板上にレジストを均一な厚さに塗布することが可能となる。
【選択図】図5
Description
本発明によれば、吸引手段が基板搬送部のうち塗布部に対応する部分に設けられていることとしたので、特に基板に液状体を塗布する際の基板の振動を効果的に抑えることができる。これにより、液状体の塗布時に液状体に横断ムラが形成されるのを防ぐことができる。
本発明によれば、流量制御手段は、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方を測定する流量計と、この流量計の測定結果に基づく気体の流量を調節する流量調節部とを有するので、流量計に基づく気体の正確な流量を得ることができ、気体の流量をより正確に調節することができる。
本発明によれば、流量計が噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量の両方を測定するので、より正確な流量を得ることができ、正確な流量調整が可能になる。
本発明によれば、流量計は噴出される気体の流量を測定し、流量調節部は噴出される気体の流量に基づいて吸引される気体の流量を調節することとしたので、効率的に気体の流量を調節することができる。
本発明によれば、気体噴出手段は気体を噴出する気体噴出孔を有し、吸引手段は吸引孔を有し、流量計は気体噴出孔及び吸引孔のうち少なくとも一方の近傍に設けられているので、気体噴出孔から噴出される気体の流量又は吸引孔から吸引される気体の流量をより正確に測定することができる。
本発明によれば、気体噴出孔と吸引孔とがそれぞれ複数設けられており、各気体噴出孔から噴出される気体の流量と、各吸引孔から吸引される気体の流量とが独立して制御可能になっているので、基板搬送部上の位置によって気体の流量に差が生じるのを防ぐことができ、全体的に均一な流量を確保することができる。
本発明によれば、気体噴出手段と吸引手段とが接続されているので、気体の噴出及び吸引を一つの制御手段によって制御することができる。これにより、気体の噴出の流量と気体の吸引の流量とをまとめて調節することができる。
噴出される気体の流量と吸引される気体の流量がほぼ同一と認められる流量とならない場合は、基板が振動する可能性が高い。本発明によれば、この噴出される気体の流量と吸引される気体の流量とがほぼ同一と認められる流量にならない場合には、基板の搬送及び液状体の塗布を停止することとしたので、振動した状態の基板を搬送したり、振動した状態の基板に液状体を塗布するのを回避することができる。これにより、歩留まりの低下を防ぐことができる。
図1は本実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部2と、塗布部3と、管理部4とを主要な構成要素としている。この塗布装置1は、基板搬送部2によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部3によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部4によって塗布部3の状態が管理されるようになっている。
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、基板搬入領域20と、塗布処理領域21と、基板搬出領域22と、搬送機構23と、これらを支持するフレーム部24とを有している。この基板搬送部2では、搬送機構23によって基板Sが基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構23は、基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
搬入側ステージ25は、フレーム部24の上部に設けられており、例えばSUSなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ25は、X方向が長手になっている。搬入側ステージ25には、エア噴出孔25aと、昇降ピン出没孔25bとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出孔25a及び昇降ピン出没孔25bは、搬入側ステージ25を貫通するように設けられている。
処理ステージ27は、ステージ表面27cが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ25に対して+X方向側に設けられている。処理ステージ27のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ27は、Y方向が長手になっている。処理ステージ27のY方向の寸法は、搬入側ステージ25のY方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ27には、ステージ表面27c上にエアを噴出する複数のエア噴出孔27aと、ステージ表面27c上のエアを吸引する複数のエア吸引孔27bとが設けられている。これらエア噴出孔27a及びエア吸引孔27bは、処理ステージ27を貫通するように設けられている。また、処理ステージ27の内部には、エア噴出孔27a及びエア吸引孔27bを通過する気体の圧力に抵抗を与えるための図示しない溝が複数設けられている。この複数の溝は、ステージ内部においてエア噴出孔27a及びエア吸引孔27bに接続されている。
次に、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
門型フレーム31は、支柱部材31aと、架橋部材31bとを有しており、処理ステージ27をY方向に跨ぐように設けられている。支柱部材31aは処理ステージ27のY方向側に1つずつ設けられており、各支柱部材31aがフレーム部24のY方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材31aは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材31bは、各支柱部材31aの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材31aと一体的に設けられている。
管理部4の構成を説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2のうち塗布部3に対して−X方向側(基板搬送方向の上流側)に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部を保持する保持部材45とを有している。保持部材45は、移動機構45aに接続されている。当該移動機構45aにより、収容部44がX方向に移動可能になっている。
図5は、基板処理部2の処理ステージ27のエア噴出機構・吸引機構の構成を示す図である。同図をもとにして、上記ステージのエア噴出及びエア吸引に関する構成を説明する。
エア噴出機構60は、ブロアー61と、バッファタンク62と、オートプレッシャーコントローラー(APC)63と、マニホールド64と、噴出量監視ポート65とを有している。
次に、上記のように構成された塗布装置1の動作を説明する。
図6〜図9は、塗布装置1の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Sにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Sを基板搬入領域20に搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域21でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域22から搬出する。図6〜図9には門型フレーム31及び管理部4の輪郭のみを破線で示し、ノズル32及び処理ステージ27の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
塗布装置1の全体構成については、上記実施形態では、搬送機構23を各ステージの−Y方向側に配置する構成としたが、これに限られることは無い。例えば、搬送機構23を各ステージの+Y方向側に配置する構成であっても構わない。また、図12に示すように、各ステージの−Y方向側には上記の搬送機構23(搬送機23a、真空パッド23b、レール23c)を配置し、+Y方向側には当該搬送機構23と同一の構成の搬送機構53(搬送機53a、真空パッド53b、レール53c)を配置して、搬送機構23と搬送機構53とで異なる基板を搬送できるように構成しても構わない。例えば、同図に示すように搬送機構23には基板S1を搬送させ、搬送機構53には基板S2を搬送させるようにする。この場合、搬送機構23と搬送機構53とで基板を交互に搬送することが可能となるため、スループットが向上することになる。また、上記の基板S、S1、S2の半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、例えば搬送機構23と搬送機構53とで1枚ずつ保持し、搬送機構23と搬送機構53とを+X方向に並進させることによって、2枚の基板を同時に搬送させることができる。このような構成により、スループットを向上させることができる。
処理ステージのエア噴出孔27aからエアを噴出させると共に、エア吸引孔27bからエアを吸引した。このとき、噴出されるエアの流量及び吸引されるエアの流量を流量計73及び流量計77によってそれぞれ測定しながら調節機構72及び調節機構76噴出されるエアの流量及び吸引されるエアの流量を7つのパターンで調節し、この状態で処理ステージ27を覆うように基板Sを配置した。基板Sの中央部に振動子を設置し、基板Sの振動を測定した。表1には、各パターンにおけるエア噴出孔27aから噴出されるエアの流量、エア吸引孔27bから吸引されるエアの流量及び振動の最大振幅を示す。なお、このエアの流量及び振動の最大振幅の各値は、多数のエア噴出孔27a及び多数のエア吸引孔27bが設けられた列の平均値を示している。
これらの結果に鑑みて、流量が大きいほど浮上量高さが高くなり、その分レジスト膜に横断ムラが形成されない程度に基板の振動を抑えることが可能になるといえる。
Claims (10)
- 基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部に搬送させつつ前記基板の表面に液状体を塗布する塗布部と、を備える塗布装置であって、
前記基板搬送部に設けられ、前記基板の浮上高さを制御するための気体噴出手段及び吸引手段と、
前記気体噴出手段から噴出される気体の流量と前記吸引手段から吸引される気体の流量とがほぼ±5%程度の誤差を含んで同一と認められる流量になるように前記気体の流量を制御する流量制御手段と
を備えることを特徴とする塗布装置。 - 前記吸引手段が、前記基板搬送部のうち前記塗布部に対応する部分に設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。 - 前記流量制御手段は、
前記噴出される気体の流量及び前記吸引される気体の流量のうち少なくとも一方を測定する流量計と、
前記流量計の測定結果に基づく前記気体の流量を調節する流量調節部と
を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の塗布装置。 - 前記流量計は、前記噴出される気体の流量及び前記吸引される気体の流量を測定する
ことを特徴とする請求項3に記載の塗布装置。 - 前記流量計は、前記噴出される気体の流量を測定し、
前記流量調節部は、前記噴出される気体の流量に基づいて前記吸引される気体の流量を調節する
ことを特徴とする請求項4に記載の塗布装置。 - 前記気体噴出手段は、前記気体を噴出する気体噴出孔を有し、
前記吸引手段は、前記吸引孔を有し、
前記流量計は、前記気体噴出孔及び前記吸引孔のうち少なくとも一方の近傍に設けられている
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の塗布装置。 - 前記気体噴出孔と前記吸引孔とがそれぞれ複数設けられており、
前記各気体噴出孔から噴出される前記気体の流量と、前記各吸引孔から吸引される前記気体の流量とが独立して制御可能になっている
ことを特徴とする請求項6に記載の塗布装置。 - 前記気体噴出手段と前記吸引手段とが接続されている
ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の塗布装置。 - 気体噴出手段と吸引手段によって浮上量を制御しながら当該基板を浮上させて搬送しつつ、前記基板上に液状体を塗布する塗布方法であって、
前記基体噴出手段によって噴出される気体の流量と前記吸引手段によって吸引される気体の流量とがほぼ同一と認められる流量になるように前記気体の流量を制御しながら、前記液状体を前記基板上に塗布する
ことを特徴とする塗布方法。 - 前記噴出される気体の流量と前記吸引される気体の流量とがほぼ同一と認められる流量にならない場合には、前記基板の搬送及び前記液状体の塗布を停止する
ことを特徴とする請求項9に記載の塗布方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007205498A JP5188759B2 (ja) | 2007-08-07 | 2007-08-07 | 塗布装置及び塗布方法 |
TW097129425A TWI348396B (en) | 2007-08-07 | 2008-08-01 | Coating applicator and method of coating |
KR1020080076646A KR101034163B1 (ko) | 2007-08-07 | 2008-08-05 | 도포 장치 및 도포 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007205498A JP5188759B2 (ja) | 2007-08-07 | 2007-08-07 | 塗布装置及び塗布方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009043828A true JP2009043828A (ja) | 2009-02-26 |
JP5188759B2 JP5188759B2 (ja) | 2013-04-24 |
Family
ID=40444274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007205498A Active JP5188759B2 (ja) | 2007-08-07 | 2007-08-07 | 塗布装置及び塗布方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5188759B2 (ja) |
KR (1) | KR101034163B1 (ja) |
TW (1) | TWI348396B (ja) |
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JP4570545B2 (ja) | 2005-09-22 | 2010-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
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-
2007
- 2007-08-07 JP JP2007205498A patent/JP5188759B2/ja active Active
-
2008
- 2008-08-01 TW TW097129425A patent/TWI348396B/zh active
- 2008-08-05 KR KR1020080076646A patent/KR101034163B1/ko active IP Right Grant
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP5188759B2 (ja) | 2013-04-24 |
TW200932374A (en) | 2009-08-01 |
KR20090014983A (ko) | 2009-02-11 |
TWI348396B (en) | 2011-09-11 |
KR101034163B1 (ko) | 2011-05-12 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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