WO2013190800A1 - 基板搬送システム - Google Patents

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WO2013190800A1
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transport
pair
transfer
side walls
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賢二 坂東
拓也 福田
聡一 玉田
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川崎重工業株式会社
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    • B65G2812/02128Belt conveyors

Definitions

  • the present invention relates to a substrate transfer system for transferring a substrate, and more particularly, to a substrate transfer system for transferring a substrate out of a storage case.
  • This substrate transport device includes transport rollers and a hand unit arranged in two rows.
  • the transport rollers in each row are arranged side by side in the substrate transport direction at intervals.
  • the hand portion extends in a direction orthogonal to the substrate transport direction and is positioned at a position slightly lower than the transport roller. Further, the hand portion has a plurality of blowout holes for injecting compressed air supplied from an air supply blower or the like on the upper surface thereof.
  • the conventional substrate transfer apparatus is configured such that both side edges of the lower surface of the substrate are in contact with the transfer roller, particles are likely to adhere to the surface to be processed of the substrate.
  • a substrate transport system is provided with a pair of side walls facing each other and the side walls, and the plurality of substrates are arranged in a horizontal posture at intervals in the vertical direction.
  • a substrate supply device including a storage case having a plurality of pairs of support portions for supporting end portions on both sides of the plurality of substrates, and a lowering device for lowering the storage case; and at least the storage case as viewed from the vertical direction It includes one or more air outlets that are scattered or extend in the transport direction of the substrate so as to extend from between a pair of side walls, and blow gas upward, and the one or more air outlets are stored in the housing by the lowering device.
  • a floating device configured to float the substrate supported by the support portion by the pressure of the gas blown from the blow-out port when the case is lowered; and a storage case of the substrate supply device as viewed from the vertical direction.
  • a transport member that passes between a pair of side walls and extends along one or more air outlets that are scattered or extended in the transport direction of the substrate of the levitation device; and A plurality of claw portions erected at intervals larger than the dimension in the transport direction; and a drive unit that moves the transport member in the transport direction, and the claw portion is levitated by the pressure of the gas blown out from the outlet
  • a transfer device configured to push an end of the substrate upstream in the transfer direction in the transfer direction.
  • the substrate can be taken out from the storage case and transported without touching the front and back surfaces other than the edge of the substrate. Thereby, it is possible to prevent the particles from adhering to the front surface and the back surface other than the edge of the substrate.
  • the substrate transport system according to the invention may include a restricting portion extending in the transport direction, and the restricting portion may be configured to restrict a position in both sides of the substrate transported by the transport device.
  • a pair of the restricting portions may be provided to face both sides of one or more air outlets that are scattered or extended in the transfer direction of the transfer device.
  • the transfer device includes a pair of endless belts as the transfer members, and the pair of endless belts are orthogonal to the transfer direction when the respective claw portions are viewed from the vertical direction by the drive unit. You may be comprised so that it may rotate synchronously in the state where it was located in a line.
  • the meandering of the substrate pushed by the claw portion can be prevented.
  • the present invention is configured as described above, and has an effect of preventing adhesion of particles to the front surface and the back surface other than the edge of the substrate.
  • FIG. 2 is a block diagram schematically showing a configuration example of a control system of the substrate transfer system of FIG. 1.
  • 3 is a flowchart illustrating an operation example of the substrate transfer system in FIG. 1.
  • 3 is a flowchart illustrating an operation example of the substrate transfer system in FIG. 1.
  • It is a figure which shows the operation example of the board
  • It is a figure which shows the operation example of the board
  • FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration example of the substrate transfer system 100.
  • the substrate transport system 100 is a system for transporting the substrate W.
  • substrate conveyance system 100 will not be specifically limited if a board
  • substrates include cell substrates for solar cell panels, semiconductor wafers such as silicon wafers, silicon carbide wafers, and sapphire wafers, and glass substrates for thin displays (liquid crystal displays, organic EL displays, etc.) processed by semiconductor processes. Is done.
  • substrate conveyance system 100 is a system which conveys a photovoltaic cell board
  • downstream side in the transport direction may be referred to as the front, and the upstream side in the transport direction may be referred to as the rear.
  • the substrate transfer system 100 includes a substrate supply device 2, a levitating device 3, a transfer device 4, and a control device 5 (controller) that controls operations of the substrate transfer system 100 (see FIG. 4). And a frame that arranges the components of the substrate transfer system 100 in a predetermined positional relationship.
  • the predetermined position refers to a position suitable for performing the substrate W transport operation of the substrate transport system 100.
  • the substrate supply device 2 includes a movable shelf (storage case) 21 on which the substrate W is placed, and a lifting device (lowering device) 22 that raises and lowers the movable shelf 21.
  • the movable shelf 21 has a pair of side walls 23 facing each other and a plurality of pairs of substrate support portions 24 provided on the side walls 23.
  • the movable shelf 21 is obtained by removing the rear wall and lower wall of the cartridge 110 described later.
  • the pair of side walls 23 facing each other of the movable shelf 21 are arranged side by side in a direction perpendicular to the transport direction when viewed from the vertical direction, and the upper wall 27 connects the upper ends of the pair of side walls 23. ing.
  • the interval between the pair of side walls 23 is defined as a predetermined interval necessary for placing the substrate W on the substrate support 24 described later.
  • the front and rear surfaces of the movable shelf 21 are opened on the entire surface, and constitute a front opening 25 and a rear opening 26, respectively.
  • the substrate W can be loaded (accommodated) and unloaded (removed) through the front opening 25 and the rear opening 26 into the movable shelf 21.
  • the substrate W is carried into the movable shelf 21 through the rear opening 26 and is carried out from the movable shelf 21 through the front opening 25.
  • the entire bottom surface of the movable shelf 21 is also opened, and a bottom surface opening 28 is formed.
  • the levitation device 3 and the transfer device 4 are brought close to the lower surface of the substrate W through the lower surface opening 28.
  • the lower surface opening 28 is provided, but the present invention is not limited to this.
  • the plurality of pairs of substrate support portions 24 support the end portions on both sides of the plurality of substrates W so that the plurality of substrates W are arranged in a horizontal posture with a space in the vertical direction.
  • the plurality of pairs of substrate support portions 24 are respectively provided on the inner surfaces of the pair of side walls 23 as shown in FIGS. 1 and 2.
  • a pair of substrate support portions 24 provided on one side wall 23 and a corresponding substrate support portion 24 provided on the other side wall 23 form a pair, and these are provided at a predetermined pitch in the vertical direction.
  • the substrate support 24 has an inclined surface 24 a that extends obliquely downward toward the other side wall 23.
  • the substrate support portions 24 are arranged with the plurality of substrates W in a horizontal posture and spaced apart in the vertical direction. In this way, the end portions on both sides of the plurality of substrates W are supported. At this time, since the inclined surface 24a and the lower corner portion of the substrate W are in contact with each other, it is possible to prevent the front and back surfaces other than the edge of the substrate W from contacting the substrate support portion 24.
  • the elevating device 22 is attached to the frame.
  • the lifting device 22 may be anything that raises and lowers the movable shelf 21, and examples thereof include a ball screw mechanism, a fluid cylinder, a winding mechanism using a wire (rope), and the like.
  • the lifting device 22 includes a case support portion 31 that supports the movable shelf 21 and a ball screw mechanism 32 that is connected to the case support portion 31 and can be moved up and down.
  • the ball screw mechanism 32 includes a ball screw 33 and a slider 34 that is connected to the case support portion 31 and that moves up and down as the ball screw 33 rotates.
  • a transfer unit 105 is provided on the upstream side of the movable shelf 21 in the transport direction.
  • FIG. 2 is a perspective view illustrating a configuration example of the transfer unit 105 of the substrate transport system 100.
  • FIG. 2 is a perspective view illustrating a configuration example of the transfer unit 105 of the substrate transport system 100.
  • the transfer unit 105 includes a mounting table 111 on which the cartridge 110 storing the substrate is mounted, and a transfer unit that transfers the substrate stored in the cartridge 110 to the movable shelf 21.
  • a loading device 112 is included.
  • the movable shelf 21 is obtained by removing the rear wall 121 and the lower wall of the cartridge 110. That is, the cartridge 110 has a front opening 124 and a substrate support portion 123 like the movable shelf 21. The substrate W is carried into and out of the cartridge 110 through the front opening 124.
  • the rear wall 121 of the cartridge 110 has a rear surface opening 125 that is opened so that the end of the upstream side in the transport direction of all the substrates W placed on the substrate support portion 126 is exposed.
  • the mounting table 111 is attached to the frame. And the mounting base 111 is located in the conveyance direction upstream of the board
  • the height of the mounting table 111 is such that the rear end of each substrate support 24 of the movable shelf 21 and the front end of each substrate support 126 of the cartridge 110 placed at the replacement position in a state where the cartridge 110 is mounted thereon. And are positioned so as to face each other.
  • the transfer device 112 is disposed upstream of the mounting table 111 in the transport direction.
  • the transfer device 112 is attached to a frame and has a base 130 having a rail 131 extending in the transport direction, a movable base 132 that is guided by the rail 131 and configured to be movable upstream and downstream in the transport direction, A pushing arm 133 extending horizontally from the movable base 132 to the downstream side in the conveying direction, a pushing plate 134 provided at the tip of the pushing arm 133, and a drive unit for moving the movable base 132 upstream and downstream in the conveying direction (see FIG. (Not shown).
  • all the substrates housed in the cartridge 110 are inserted into the cartridge 110 through the rear opening 125 of the cartridge 110 when the movable base 132 moves downstream in the transport direction.
  • the end of W is pressed downstream in the transport direction. Since the front ends of the substrate support portions 126 of the cartridge 110 and the rear ends of the plurality of pairs of substrate support portions 24 of the movable shelf 21 face each other, the pressed substrate slides on the substrate support portion 126 of the cartridge 110, It is placed on the inclined surface 24 a of the movable shelf 21.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the substrate floating structure of the substrate transfer system 100, and is a view of the substrate transfer system 100 as viewed from the rear.
  • the levitation device 3 has one or more outlets 35.
  • the levitation device 3 includes a device main body 36 and a drive unit (not shown) (for example, a pressure pump), and the air outlet 35 is formed in the device main body 36.
  • a drive unit for example, a pressure pump
  • the apparatus main body 36 is a hollow box extending horizontally in the transport direction of the substrate W.
  • the upstream end of the apparatus main body 36 is located in the lower surface opening 28 of the movable shelf 21 when viewed from the vertical direction. Therefore, the apparatus main body 36 extends in the transport direction of the substrate W so as to extend from between the pair of side walls 23 of the movable shelf 21 when viewed from the vertical direction.
  • the apparatus main body 36 is attached to the frame.
  • the apparatus main body 36 has a width, that is, a dimension in a direction perpendicular to the conveyance direction as viewed from the vertical direction, perpendicular to the conveyance direction of the lower surface opening 28 of the movable shelf 21. It is formed smaller than. As a result, the levitation device 3 can be positioned between the pair of side walls 23 of the movable shelf 21 (see FIGS. 7 to 9).
  • the one or more outlets 35 are scattered or extended in the transport direction of the substrate W so as to extend at least from between the pair of side walls 23 of the movable shelf 21 when viewed from the vertical direction, and blow out the gas upward.
  • a large number of air outlets 35 are scattered on the entire upper surface of the apparatus main body 36.
  • the drive unit of the levitation device 3 supplies air (gas) to the device main body 36 by the drive.
  • air blows upward (including directly above and obliquely upward) from the air outlet 35.
  • substrate support part 24 of the movable shelf 21 can be floated with the pressure of the gas which blows off from the blower outlet 35.
  • FIG. The floating means that the front and back surfaces of the substrate W facing the floating device 3 are not touched.
  • the initial position of the movable shelf 21 is, for example, a position where the substrate W supported by the lowermost substrate support portion 24 among the substrate support portions 24 of the movable shelf 21 floats due to the pressure of the gas blown out from the outlet 35. (See FIGS. 3 and 8). Further, the end position of the movable shelf 21 is, for example, a position where the substrate W supported by the uppermost substrate support portion 24 among the substrate support portions 24 of the movable shelf 21 floats due to the pressure of the gas blown out from the air outlet 35. (See FIG. 9).
  • the conveying device 4 includes a conveying conveyor (conveying member) 40, a claw portion 41 standing on the conveying conveyor 40, and a driving unit 42 that moves the conveying conveyor 40 in the conveying direction.
  • the transfer conveyor 40 extends between the pair of side walls 23 of the movable shelf 21 of the substrate supply device 2 and along the air outlet 35 of the levitation device 3 when viewed from the vertical direction.
  • the upper surface of the transport conveyor 40 constitutes a transport path for the substrate.
  • the conveyor 40 is located between the pair of side walls 23 of the movable shelf 21 at the end on the upstream side in the conveyance direction when viewed from the vertical direction.
  • the delivery position P is set to the conveyance conveyor 40 in the edge part of the conveyance direction downstream.
  • the delivery position P is a position where the transfer device 150 (see FIG. 4) carries out the substrate W, and the transfer device 150 transfers the substrate W carried out from the delivery position P to another position.
  • a delta robot equipped with a well-known Bernoulli-type suction hand is exemplified as the transfer device.
  • the transport conveyor 40 includes a pair of endless belts 46.
  • the pair of endless belts 46 are stretched around a pair of sprockets 45.
  • the levitation device 3 is disposed in a region surrounded by the pair of endless belts 46 and the pair of sprockets 45 as viewed from the vertical direction.
  • the drive unit 42 rotationally drives one of the sprockets 45 by the driving force, and thereby the pair of endless belts 46 are synchronously driven to rotate. In this way, the drive unit 42 moves the transport conveyor 40 in the transport direction.
  • the claw portions 41 are erected on the transport conveyor 40 at intervals larger than the dimension in the transport direction of the substrate W.
  • the length of the claw portion 41 is defined so that the tip of the claw portion 41 is positioned at a higher height than the substrate on which the tip of the claw portion 41 floats.
  • the claw portion 41 is configured to push the upstream end of the substrate floating in the transport direction by the pressure of the gas blown out from the air outlet 35.
  • a plurality of claw portions 41 are opposed to each other on the surfaces of the pair of endless belts 46.
  • a pair of claw portions 41 provided on one endless belt 46 and a claw portion 41 provided on the other endless belt 46 form a pair, and the pair of claw portions 41 are orthogonal to the conveying direction when viewed from the vertical direction. They are arranged in the direction. Therefore, when the pair of endless belts 46 are rotationally driven by the driving force of the driving unit 42, the pair of claw portions are rotationally driven synchronously in a state where they are aligned in a direction orthogonal to the conveying direction.
  • the claw portions 41 are erected at a pitch slightly larger than the dimension of the substrate W in the transport direction.
  • the claw portion 41 is formed in a rectangular parallelepiped shape and is formed to protrude outward from the endless belt 46.
  • a substrate holding region 47 for holding the substrate W is formed between the pair of claw portions 41 and the adjacent claw portion 41.
  • the transport conveyor 40 configured as described above, when the substrate W is positioned in the substrate holding region 47 in a state where the gas is blown out from the blowout port 35, the substrate floats due to the pressure of the blown out gas. In this state, the position of the substrate W in the transport direction is regulated by the pair of claw portions 41 adjacent to the upstream and downstream ends of the substrate W in the transport direction. Then, when the pair of endless belts 46 are rotationally driven, the substrate W is pushed to the downstream side in the transport direction by the pair of claw portions 41 on the upstream side in the transport direction and transported to the delivery position P. In this way, the substrate W is pushed by the pair of claw portions 41 and is transported, so that it is difficult to meander during transport.
  • the substrate transport system 100 further includes a pair of guides (regulators) 50 extending in the transport direction.
  • the guide 50 is a strip-shaped plate attached to the frame.
  • the pair of guides 50 are disposed on both sides of the transport conveyor 40, that is, on both sides of the levitation device 3 in a posture facing each other.
  • the pair of guides 50 are provided adjacent to the downstream side in the transport direction of the substrate supply apparatus 2, and the interval is set to be slightly larger than the width in the direction orthogonal to the transport direction of the substrate W. .
  • the positions of the substrates W on which the pair of guides 50 are transported are regulated in the both-side directions (the direction perpendicular to the transport direction when viewed from the vertical direction).
  • FIG. 4 is a block diagram schematically showing a configuration example of the control system of the substrate transport system 100. As shown in FIG. Hereinafter, the control system of the substrate transfer system 100 will be described with reference to FIG.
  • the control device 5 provided in the substrate transfer system 100 includes, for example, a control unit 55 having a computing unit such as a CPU and a storage unit 56 having a memory such as a ROM and a RAM.
  • the control unit 55 may be configured by a single controller that performs centralized control, or may be configured by a plurality of controllers that perform distributed control in cooperation with each other.
  • the control unit 55 controls the operation of each driving device in the elevating device 22, the levitating device 3, the conveying device 4, and the transfer device 112, and thereby controls the operation of each device.
  • a predetermined control program is stored in the storage unit 56, and the operation of the substrate transport system 100 is controlled by the control unit 55 reading and executing these control programs.
  • the substrate transfer completion signal output from the transfer device 150 is input to the control unit 55.
  • the arrow in a figure shows the transmission direction of a signal.
  • control device 5 controlling the driving devices of the lifting device 22, the floating device 3, the transport device 4, and the transfer device 112.
  • FIG. 5 is a flowchart showing an operation example of the substrate transfer system 100.
  • FIG. 6 is a flowchart showing an operation example of the transfer process of the substrate transfer system 100.
  • 7 to 9 are diagrams showing an operation example of the substrate transfer system 100.
  • FIG. 5 is a flowchart showing an operation example of the substrate transfer system 100.
  • FIG. 6 is a flowchart showing an operation example of the transfer process of the substrate transfer system 100.
  • 7 to 9 are diagrams showing an operation example of the substrate transfer system 100.
  • control unit 55 performs a transfer process for transferring a substrate from the cartridge 110 to the movable shelf 21 (step S1).
  • the transfer process is performed as follows.
  • control unit 55 positions the movable shelf 21 at the replacement position shown in FIG. 7 (step S11).
  • step S12 the controller 55 pushes the pushing plate 134 of the transfer device 112 into the cartridge 110 from the rear opening 125 (step S12). As a result, all the substrates W are transferred from the cartridge 110 to the movable shelf 21.
  • step S13 the controller 55 lowers the movable shelf 21 and positions it at the initial position shown in FIG. 8 (step S13). This completes the transfer process.
  • the control unit 55 drives the levitation device 3 to blow air upward from the air outlet 35 (step S2). Accordingly, the substrate W supported by the lowermost substrate support portion 24 among the substrate support portions 24 of the movable shelf 21 is floated by the pressure of the gas blown out from the air outlet 35. At this time, the position of the substrate W in the transport direction is regulated by the claw portion 41 and the position in the direction orthogonal to the transport direction is regulated by the pair of side walls 23, so that the substrate W is held in the substrate holding region 47.
  • the control unit 55 transfers the substrate holding region 47 adjacent to the upstream side in the transfer direction of the substrate holding region 47 holding the substrate W so that the substrate holding region 47 is positioned below the substrate W stored in the movable shelf 21.
  • the conveyor 40 is rotated. That is, the pair of endless belts 46 is driven to rotate by one pitch (step S3).
  • the substrate W located in the substrate holding region 47 is transported downstream in the transport direction.
  • the position of the substrate W in the transport direction is regulated by the claw portion 41 and the position in the direction orthogonal to the transport direction is regulated by the pair of guides 50, so that the substrate W is held in the substrate holding region 47.
  • control unit 55 determines whether the movable shelf 21 is located at the end position shown in FIG.
  • control unit 55 determines that the movable shelf 21 is not located at the end position (NO in step S4), the control unit 55 lowers the movable shelf 21 by one pitch (step S5). As a result, the substrate W adjacent above the previous substrate W is floated by the pressure of the gas blown out from the blowout port 35.
  • step S6 when it is determined that the movable shelf 21 is located at the end position (YES in step S4), the control unit 55 performs the transfer process (step S6).
  • control unit 55 stands by until a substrate transfer completion signal is notified from the transfer device 150 and it is determined that the substrate is not located at the delivery position P (step S7). That is, while the transfer of the substrate W positioned at the delivery position is not completed, the control unit 55 waits until the substrate W is unloaded.
  • control part 55 determines with the board
  • the substrate transport system 100 can take out the substrate W from the movable shelf 21, transport it, and position it at the delivery position P without touching the front and back surfaces other than the edge of the substrate W. it can. Thereby, adhesion of particles to the front surface and the back surface other than the edge of the substrate W can be prevented.
  • the transfer device 112 is configured to transfer the substrate W accommodated in the cartridge 110 to the movable shelf 21, but is not limited thereto. Alternatively, the operator may insert it manually. Further, the movable shelf 21 in which the substrates W are stored and the movable shelf 21 in which the substrates W are carried out may be exchanged.
  • a pair of guides 50 are provided on both sides of the transport device 4, but the present invention is not limited to this.
  • the guide 50 may be provided on one side of the transport device 4.
  • the levitation device 3 may be inclined toward the guide 50. If comprised in this way, the board
  • the gas blown out from the air outlet 35 is not limited to air, and any gas can be used.
  • the substrate transfer system of the present invention is useful for application to production lines for cell substrates for solar cell panels, semiconductors for forming fine circuits on substrates, display panels, and the like.

Abstract

 可動棚(21)と、可動棚(21)を下降させる昇降装置(22)とを含む基板供給装置(2)と、気体を上方に吹き出す1以上の吹出口(35)を含み、吹出口は昇降装置により可動棚を下降させると吹出口から吹き出る気体の圧力によって可動棚に支持されている基板が浮上するように構成されている浮上装置(3)と、搬送コンベア(40)と、搬送コンベアに立設された爪部(41)とを含み、吹出口から吹き出る気体の圧力によって浮上している基板Wを爪部が搬送方向に押すよう構成されている搬送装置(4)と、を備える。

Description

基板搬送システム
 本発明は、基板を搬送する基板搬送システムに関し、特に収納ケースから基板を搬出して搬送するものに関する。
 従来、ガラス基板等の基板をカセットから搬出して搬送することができる基板搬送装置が知られている(例えば特許文献1参照)。
 この基板搬送装置は、2列に配置された搬送ローラとハンド部とを備える。各列の搬送ローラは、基板搬送方向に間隔をおいて並設されている。ハンド部は、基板搬送方向と直交する方向に延び、搬送ローラよりも若干低い位置に位置決めされている。また、ハンド部は、その上面に送気ブロワ等から供給される圧縮空気を噴射する複数の吹出孔を有する。そして、基板カセットに支持されている基板を搬出するときは、基板の下面両側端部を搬送ローラに直接支持させると共に、搬送ローラと基板との接触部分よりも基板中央寄りの部分を吹出孔から噴射される圧縮空気によって非接触に支持し、搬送ローラを回転させる。これによって、基板は、搬送ローラとの接触によって生じる摩擦力により、基板カセットの外に搬出される。
特開2008-98198号公報
 ところで、基板の被処理面(上面及び下面)へのパーティクルの付着を防止するため、基板の搬出時における、基板搬送装置と基板の被処理面との接触を最小限に抑える必要がある場合がある。
 しかし、従来の基板搬送装置では、基板の下面両側端部と搬送ローラとが接触するように構成されていたので、基板の被処理面にパーティクルが付着し易かった。
 上記課題を解決するために、本発明に係る基板搬送システムは、互いに対向する一対の側壁と、該側壁に設けられ、複数の基板が水平姿勢で且つ上下方向に間隔をあけて並ぶように該複数の基板の両側の端部を支持する複数対の支持部とを有する収納ケースと、前記収納ケースを下降させる下降装置と、を含む基板供給装置と、鉛直方向から見て少なくとも前記収納ケースの一対の側壁の間から延出するように前記基板の搬送方向に点在又は延在し、気体を上方に吹き出す1以上の吹出口を含み、該1以上の吹出口は前記下降装置により前記収納ケースを下降させると前記吹出口から吹き出る気体の圧力によって前記支持部に支持されている基板が浮上するように構成されている浮上装置と、鉛直方向から見て、前記基板供給装置の収納ケースの一対の側壁の間を通過し且つ前記浮上装置の前記基板の搬送方向に点在又は延在する1以上の吹出口に沿うように延在する搬送部材と、該搬送部材に前記基板の前記搬送方向の寸法よりも大きい間隔で立設された複数の爪部と、前記搬送部材を前記搬送方向に移動させる駆動部とを含み、前記爪部が前記吹出口から吹き出る気体の圧力によって浮上している基板の搬送方向上流側の端部を搬送方向に押すよう構成されている搬送装置と、を備える。
 この構成によれば、基板のエッジ以外の表面及び裏面に触れることなく、基板を収納ケースから取り出し、搬送することができる。これによって、基板のエッジ以外の表面及び裏面に対するパーティクルの付着を防止することができる。
 上記発明に係る基板搬送システムにおいて、前記搬送方向に延びる規制部を備え、前記搬送装置によって搬送される基板の両側方向の位置を前記規制部が規制するよう構成されていてもよい。
 この構成によれば、搬送装置の搬送路上から基板が外れることを規制することができる。
 上記発明に係る基板搬送システムにおいて、前記規制部は、前記搬送装置の前記搬送方向に点在又は延在する1以上の吹出口の両側に対向して一対設けられていてもよい。
 この構成によれば、浮上装置上から基板が外れることを規制することができる。
 上記発明に係る基板搬送システムにおいて、前記搬送装置は前記搬送部材としての無端ベルトを一対備え、該一対の無端ベルトは、それぞれの爪部が駆動部により鉛直方向から見て前記搬送方向と直交する方向に並んだ状態で同期して回転するよう構成されていてもよい。
 この構成によれば、爪部に押された基板の蛇行を防止することができる。
 本発明は以上に説明したように構成され、基板のエッジ以外の表面及び裏面に対するパーティクルの付着を防止することができるという効果を奏する。
本発明の実施の形態に係る基板搬送システムの構成例を示す斜視図である。 図1の基板搬送システムの移載部の構成例を示す斜視図である。 図1の基板搬送システムの基板浮上構造の一例を示す図であり、基板搬送システムを後方から見た図である。 図1の基板搬送システムの制御系統の構成例を概略的に示すブロック図である。 図1の基板搬送システムの動作例を示すフローチャートである。 図1の基板搬送システムの動作例を示すフローチャートである。 図1の基板搬送システムの動作例を示す図である。 図1の基板搬送システムの動作例を示す図である。 図1の基板搬送システムの動作例を示す図である。
 以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。なお、以下では全ての図を通じて同一又は相当する要素には同じ参照符号を付して、その重複する説明を省略する。
 [全体構成]
 <基板搬送システムの全体構成>
 図1は、基板搬送システム100の構成例を示す斜視図である。
 基板搬送システム100は、基板Wを搬送するシステムである。基板搬送システム100は、基板を搬送するものであれば特に限定されない。また、基板として、太陽電池パネル用のセル基板、シリコンウェハ、シリコンカーバイドウェハ、サファイアウェハ等の半導体ウエハ、半導体プロセスによって処理される薄型ディスプレイ(液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等)用のガラス基板が例示される。本実施の形態において、基板搬送システム100は、太陽電池パネル製造ラインにおいて太陽電池セル基板を搬送するシステムである。
 なお、以下では、説明の便宜上、搬送方向下流側を前といい、搬送方向上流側を後ということがある。
 図1に示すように、基板搬送システム100は、基板供給装置2と、浮上装置3と、搬送装置4と、基板搬送システム100の動作を制御する制御装置5(制御器)(図4参照)と、基板搬送システム100の各構成要素を所定の位置関係に配置する枠体とを有している。ここで、所定の位置とは、基板搬送システム100の基板Wの搬送動作を遂行するのに適した位置をいう。
 [基板供給装置]
 基板供給装置2は、基板Wが載置される可動棚(収納ケース)21と、可動棚21を上昇及び下降させる昇降装置(下降装置)22とを備える。
 可動棚21は、互いに対向する一対の側壁23と、側壁23に設けられた複数対の基板支持部24とを有する。
 本実施の形態において、可動棚21は、後述するカートリッジ110の後壁及び下壁を取り払ったものである。
 可動棚21の互いに対向する一対の側壁23は、図1に示すように、鉛直方向から見て搬送方向と直交する方向に並んで配置され、一対の側壁23の上端を上壁27が接続している。これによって、一対の側壁23の間隔は、後述する基板支持部24に基板Wを載置するために必要な所定の間隔に規定されている。
 そして、可動棚21の前面及び後面は、その全面が開口されており、それぞれ前面開口25及び後面開口26を構成している。これによって、前面開口25及び後面開口26を通って基板Wを可動棚21に搬入(収容)及び搬出(取り出し)することができる。本実施の形態において基板Wは、後述するように、後面開口26を通って可動棚21に搬入され、前面開口25を通って可動棚21から搬出される。また、可動棚21の下面も、その全面が開口されており、下面開口28を構成している。後述するように、浮上装置3及び搬送装置4は、下面開口28を通って基板Wの下面に近づけられる。なお、本実施の形態においては、下面開口28を設けたがこれに限られない。
 複数対の基板支持部24は、複数の基板Wが水平姿勢で且つ上下方向に間隔をあけて並ぶように複数の基板Wの両側の端部を支持する。本実施の形態において、複数対の基板支持部24は、図1及び図2に示すように、一対の側壁23の内面にそれぞれ設けられている。一方の側壁23に設けられた基板支持部24と、これに対応する他方の側壁23に設けられた基板支持部24とで対をなし、これらが鉛直方向に所定のピッチで設けられている。基板支持部24は、他方の側壁23に向かうに従って斜め下方に延びる傾斜面24aを有する。複数対の基板支持部24の傾斜面24aの上にそれぞれ基板Wを架け渡して載置することによって、基板支持部24は、複数の基板Wが水平姿勢で且つ上下方向に間隔をあけて並ぶように複数の基板Wの両側の端部を支持する。このとき、傾斜面24aと基板Wの下側の隅角部とが接触するので、基板Wのエッジ以外の表面及び裏面と基板支持部24とが接触することを防ぐことができる。
 昇降装置22は、枠体に取り付けられている。昇降装置22は、可動棚21を上昇及び下降させるものであればよく、例えば、ボールねじ機構、流体シリンダ、ワイヤ(ロープ)を用いた巻き上げ機構等が例示される。昇降装置22は、本実施の形態において、可動棚21を支持するケース支持部31と、ケース支持部31と連結され、これを上昇及び下降させることができるように設けられたボールねじ機構32を有する。このボールねじ機構32は、ボールねじ33と、ケース支持部31に連結され、ボールねじ33の回動によって上昇及び下降するスライダ34とを有する。そして、図示しない駆動部がボールねじ33を回動することによって、ケース支持部31が上昇又は下降し、可動棚21をカートリッジの交換位置(図7参照)と、交換位置の下方の終了位置(図9参照)との間で昇降させる。また、交換位置と終了位置との間に初期位置(図8参照)が設定される。これら交換位置,終了位置及び初期位置の詳細については後述する。
 [移載部]
 なお、本実施の形態においては可動棚21の搬送方向上流側に、移載部105が備えられている。
 図2は、基板搬送システム100の移載部105の構成例を示す斜視図である。
 図1及び図2に示すように、移載部105は、基板が収納されているカートリッジ110を載置する載置台111と、カートリッジ110に収納されている基板を可動棚21に移載する移載装置112を有する。
 上述の通り、可動棚21はカートリッジ110の後壁121及び下壁を取り払ったものである。即ち、カートリッジ110は、可動棚21と同様に前面開口124及び基板支持部123を有している。カートリッジ110には前面開口124を介して基板Wがカートリッジ110に搬入及び搬出される。カートリッジ110の後壁121は、基板支持部126に載置された全ての基板Wの搬送方向上流側の端部が露出するように開口された後面開口125を有している。
 載置台111は、枠体に取り付けられている。そして、載置台111は、基板供給装置2の搬送方向上流側に位置し、その上面が水平方向に延びている。載置台111の高さ位置は、その上にカートリッジ110を載置した状態において、交換位置に位置させた可動棚21の各基板支持部24の後端とカートリッジ110の各基板支持部126の前端とが対向するように位置している。
 移載装置112は、載置台111の搬送方向上流側に配置されている。移載装置112は、枠体に取り付けられ、搬送方向に延びるレール131を有する基台130と、レール131に案内されて搬送方向上流側及び下流側に移動可能に構成された可動基部132と、可動基部132から搬送方向下流側に水平に伸びる押込アーム133と、押込アーム133の先端に設けられている押込板134と、可動基部132を搬送方向上流側及び下流側に移動させる駆動部(図示せず)と、を有する。
 この移載装置112は、可動基部132が搬送方向下流側に移動することによって、押込板134がカートリッジ110の後面開口125を通ってカートリッジ110に挿入され、カートリッジ110に収納されている全ての基板Wの端部を搬送方向下流側に押圧する。カートリッジ110の各基板支持部126の前端と可動棚21の複数対の基板支持部24の後端とが対向しているので、押圧された基板はカートリッジ110の基板支持部126上をスライドし、可動棚21の傾斜面24a上に載置される。
 [浮上装置]
 図3は、基板搬送システム100の基板浮上構造の一例を示す図であり、基板搬送システム100を後方から見た図である。
 図1及び図3に示すように、浮上装置3は、1以上の吹出口35を有する。
 本実施の形態において、浮上装置3は、装置本体36と、図示しない駆動部(例えば加圧ポンプ)とを備え、吹出口35は、装置本体36に形成されている。
 装置本体36は、基板Wの搬送方向に水平に延びる中空の箱体である。そして、装置本体36の上流側の端部は、鉛直方向から見て、可動棚21の下面開口28内に位置している。したがって、装置本体36は、鉛直方向から見て可動棚21の一対の側壁23の間から延出するように基板Wの搬送方向に延在している。装置本体36は、枠体に取り付けられている。
 また、図1及び図3に示すように、装置本体36は、幅、即ち鉛直方向から見て搬送方向と直交する方向の寸法が可動棚21の下面開口28の搬送方向と直交する方向の寸法よりも小さく形成されている。これによって、浮上装置3を可動棚21の一対の側壁23の間に位置させることができるようになっている(図7~9参照)。
 1以上の吹出口35は、鉛直方向から見て少なくとも可動棚21の一対の側壁23の間から延出するように基板Wの搬送方向に点在又は延在し、気体を上方に吹き出す。本実施の形態において、吹出口35は、装置本体36の上面全体に多数点在している。
 浮上装置3の駆動部は、その駆動によって、装置本体36に空気(気体)を供給する。これにより、吹出口35から空気が上方(真上及び斜め上方向を含む)に吹き出る。そして、吹出口35から吹き出る気体の圧力により、可動棚21の基板支持部24に支持されている図3に示す基板W1を浮上させることができるように構成されている。なお、浮上とは、浮上装置3と対向する基板Wの表面及び裏面に触れないことを意味する。
 なお、上記可動棚21の初期位置は、例えば、可動棚21の基板支持部24のうち、最下段の基板支持部24に支持された基板Wが吹出口35から吹き出る気体の圧力によって浮上する位置に定められる(図3,8参照)。また、可動棚21の終了位置は、例えば、可動棚21の基板支持部24のうち、最上段の基板支持部24に支持された基板Wが吹出口35から吹き出る気体の圧力によって浮上する位置に定められる(図9参照)。
 [搬送装置]
 搬送装置4は、搬送コンベア(搬送部材)40と、搬送コンベア40に立設された爪部41と、搬送コンベア40を搬送方向に移動させる駆動部42とを有する。
 搬送コンベア40は、鉛直方向から見て基板供給装置2の可動棚21の一対の側壁23の間を通過し且つ浮上装置3の吹出口35に沿うように延在している。この搬送コンベア40の上面が基板の搬送路を構成する。本実施の形態において、搬送コンベア40は、鉛直方向から見て搬送方向上流側の端部が可動棚21の一対の側壁23の間に位置している。また、搬送コンベア40は、搬送方向下流側の端部に受渡位置Pが設定されている。この受渡位置Pは、移送装置150(図4参照)が基板Wを搬出する位置であり、この移送装置150は、受渡位置Pから搬出した基板Wを他の位置に移送する。移送装置として、周知のベルヌーイ方式の吸着ハンドを装着したデルタロボットが例示される。
 搬送コンベア40は、無端ベルト46を一対備える。一対の無端ベルト46は、一対のスプロケット(sprocket)45に張架されている。そして、鉛直方向から見て、一対の無端ベルト46及び一対のスプロケット45によって囲まれる領域に浮上装置3が配置されている。駆動部42は、その駆動力によって一方のスプロケット45を回転駆動させ、これによって一対の無端ベルト46が同期して回転駆動する。このようにして、駆動部42は、搬送コンベア40を搬送方向に移動させる。
 爪部41は、搬送コンベア40に基板Wの搬送方向の寸法よりも大きい間隔で立設されている。そして、爪部41は、搬送路において、その先端が浮上している基板よりも高い高さ位置に位置するよう、その長さが規定されている。これによって、爪部41は、吹出口35から吹き出る気体の圧力によって浮上している基板の搬送方向上流側の端部を搬送方向に押すよう構成されている。本実施の形態において、爪部41は、一対の無端ベルト46の表面に複数対立設されている。一方の無端ベルト46に設けられた爪部41と、他方の無端ベルト46に設けられた爪部41とで対をなし、この一対の爪部41は、鉛直方向から見て搬送方向と直交する方向に並ぶように配設されている。したがって、駆動部42の駆動力によって一対の無端ベルト46が回転駆動されると、一対の爪部が搬送方向と直交する方向に並んだ状態で同期して回転駆動する。爪部41は、基板Wの搬送方向の寸法よりも若干大きいピッチで立設されている。爪部41は、直方体状に形成され、無端ベルト46から外側に突出して形成されている。そして、一対の爪部41と隣接する爪部41との間に基板Wが保持される基板保持領域47が形成されている。
 上記の通り構成された搬送コンベア40によれば、吹出口35から気体が吹き出ている状態において、基板保持領域47に基板Wを位置させると、吹き出る気体の圧力によって基板が浮上する。この状態においては、基板Wの搬送方向上流側及び下流側の端部に隣接する一対の爪部41によって、基板Wの搬送方向の位置が規制されている。そして、一対の無端ベルト46が回転駆動されることによって、この基板Wは、搬送方向上流側の一対の爪部41によって搬送方向下流側に押され、受渡位置Pまで搬送される。このように、基板Wは、一対の爪部41で押されて搬送されるので、搬送時に蛇行しにくい。
 [ガイド]
 また、本実施の形態において、基板搬送システム100は、更に搬送方向に延びる一対のガイド(規制部)50を備えている。ガイド50は、枠体に取り付けられている短冊状の板体である。一対のガイド50は、互いに対向した姿勢で搬送コンベア40の両側、即ち浮上装置3の両側に配設されている。また、一対のガイド50は、基板供給装置2の搬送方向下流側に隣接して設けられ、その間隔は、基板Wの搬送方向と直交する方向の幅よりも若干大きくなるように設定されている。これによって、一対のガイド50が搬送される基板Wの両側方向(鉛直方向から見て搬送方向と直交する方向)の位置を規制している。このように、搬送コンベア40上の基板の水平方向の位置は、爪部41とガイド50とによって規制されているので、基板保持領域47上から外れることなく、受渡位置Pに搬送される。
 [制御系統の構成]
 図4は、基板搬送システム100の制御系統の構成例を概略的に示すブロック図である。以下、図4を参照しながら、基板搬送システム100の制御系統について説明する。
 基板搬送システム100が備える制御装置5は、例えば、CPU等の演算器を有する制御部55と、ROM及びRAM等のメモリを有する記憶部56とを備えている。制御部55は、集中制御する単独の制御器で構成されていてもよく、互いに協働して分散制御する複数の制御器で構成されてもよい。制御部55は、昇降装置22,浮上装置3,搬送装置4及び移載装置112における各駆動装置の動作を制御し、それによって各装置の動作を制御する。例えば、記憶部56には所定の制御プログラムが記憶されていて、制御部55がこれらの制御プログラムを読み出して実行することにより、基板搬送システム100の動作が制御される。移送装置150より出力された基板移送完了信号は、制御部55に入力される。なお、図中の矢印は信号の伝達方向を示す。
 [動作例]
 次に、基板搬送システム100の動作例を説明する。これらの動作は、制御装置5が昇降装置22,浮上装置3,搬送装置4及び移載装置112の各駆動装置を制御することによって遂行される。
 図5は、基板搬送システム100の動作例を示すフロー図である。図6は、基板搬送システム100の移載処理の動作例を示すフロー図である。図7~9は、基板搬送システム100の動作例を示す図である。
 まず、制御部55は、基板をカートリッジ110から可動棚21に移載する移載処理を行う(ステップS1)。移載処理は、以下のように行われる。
 まず、制御部55は、可動棚21を図7に示す交換位置に位置させる(ステップS11)。
 次に、制御部55は、移載装置112の押込板134を後面開口125からカートリッジ110に押し込む(ステップS12)。これによって、全ての基板Wは、カートリッジ110から可動棚21に移載される。
 次に、制御部55は、可動棚21を下降させ、図8に示す初期位置に位置させる(ステップS13)。これによって、移載処理を完了する。
 次に、制御部55は、浮上装置3を駆動させ、空気を吹出口35から上方に吹き出させる(ステップS2)。これによって、可動棚21の基板支持部24のうち、最下段の基板支持部24に支持された基板Wが吹出口35から吹き出る気体の圧力によって浮上する。このとき、基板Wは、爪部41によって搬送方向の位置が規制され、また、一対の側壁23によって搬送方向と直交する方向の位置が規制されているので、基板保持領域47に保持される。
 そして次に、制御部55は、基板Wが保持されている基板保持領域47の搬送方向上流側に隣接する基板保持領域47が可動棚21に収納された基板Wの下方に位置するように搬送コンベア40を回転駆動させる。即ち、一対の無端ベルト46は、1ピッチ回転駆動される(ステップS3)。これによって、基板保持領域47に位置する基板Wは、搬送方向下流側に搬送される。このとき、基板Wは、爪部41によって搬送方向の位置が規制され、また、一対のガイド50によって搬送方向と直交する方向の位置が規制されているので、基板保持領域47に保持される。
 次に、制御部55は、可動棚21が図9に示す終了位置に位置しているかを判定する。
 そして、制御部55は、可動棚21が終了位置に位置していないと判定したとき(ステップS4においてNO)は、可動棚21を1ピッチ下降させる(ステップS5)。これによって、先程の基板Wの上方に隣接する基板Wが吹出口35から吹き出る気体の圧力によって浮上する。
 一方、制御部55は、可動棚21が終了位置に位置していると判定したとき(ステップS4においてYES)は、上記移載処理を行う(ステップS6)。
 次に、制御部55は、移送装置150から基板移送完了信号が通知される等して受渡位置Pに基板が位置していないと判定するまで待機する(ステップS7)。即ち、移送装置150が受渡位置に位置する基板Wの移送が完了していない間は、制御部55は、基板Wは搬出されるまで待機する。
 そして、制御部55は、受渡位置Pに基板が位置していないと判定すると、ステップS3の動作を再び行う。
 以上に説明したように、本発明の基板搬送システム100は、基板Wのエッジ以外の表面及び裏面に触れることなく、基板Wを可動棚21から取り出し、搬送し、受渡位置Pに位置させることができる。これによって、基板Wのエッジ以外の表面及び裏面に対するパーティクルの付着を防止することができる。
<変形例>
 上記実施の形態においては、移載装置112がカートリッジ110に収納されている基板Wを可動棚21に移載する構成としたがこれに限られるものではない。これに代えて、作業者が手で差し込んでもよい。また、基板Wが収納されている可動棚21と基板Wが搬出された可動棚21とを交換してもよい。
 また、上記実施の形態においては、ガイド50は、搬送装置4の両側に一対設けたがこれに限られるものではない。これに代えて、例えば、ガイド50を搬送装置4の片側に設けてもよい。この場合、浮上装置3をガイド50に向かうように傾斜させてもよい。このように構成すると、浮上装置3の吹出口35から吹き出る空気の圧力によって浮上している基板Wがガイド50の位置する側に移動し、搬送方向と直交する方向の位置がガイド50によって規制される。
 更に、吹出口35から吹き出す気体は、空気に限られず、任意の気体を用いることができる。
 上記説明から、当業者にとっては、本発明の多くの改良や他の実施形態が明らかである。従って、上記説明は、例示としてのみ解釈されるべきであり、本発明を実行する最良の態様を当業者に教示する目的で提供されたものである。本発明の精神を逸脱することなく、その構造及び/又は機能の詳細を実質的に変更できる。
 本発明の基板搬送システムは、太陽電池パネル用のセル基板、基板上に微細回路を形成する半導体、ディスプレイパネル等の製造ラインへの適用に有用である。
 2 基板供給装置
 3 浮上装置
 4 搬送装置
 5 制御装置
 21 可動棚
 22 昇降装置
 23 側壁
 24 基板支持部
 24a 傾斜面
 25 前面開口
 26 後面開口
 27 上壁
 28 下面開口
 31 ケース支持部
 32 ボールねじ機構
 33 ボールねじ
 34 スライダ
 35 吹出口
 36 装置本体
 40 搬送コンベア
 41 爪部
 42 駆動部
 45 スプロケット
 46 無端ベルト
 47 基板保持領域
 50 ガイド
 55 制御部
 56 記憶部
 100 基板搬送システム
 105 移載部
 110 カートリッジ
 111 載置台
 112 移載装置
 121 後壁
 123 基板支持部
 124 前面開口
 125 後面開口
 126 基板支持部
 130 基台
 131 レール
 132 可動基部
 133 押込アーム
 134 押込板
 150 移送装置

Claims (4)

  1.  互いに対向する一対の側壁と、該側壁に設けられ、複数の基板が水平姿勢で且つ上下方向に間隔をあけて並ぶように該複数の基板の両側の端部を支持する複数対の支持部とを有する収納ケースと、前記収納ケースを下降させる下降装置と、を含む基板供給装置と、
     鉛直方向から見て少なくとも前記収納ケースの一対の側壁の間から延出するように前記基板の搬送方向に点在又は延在し、気体を上方に吹き出す1以上の吹出口を含み、該1以上の吹出口は前記下降装置により前記収納ケースを下降させると前記吹出口から吹き出る気体の圧力によって前記支持部に支持されている基板が浮上するように構成されている浮上装置と、
     鉛直方向から見て、前記基板供給装置の収納ケースの一対の側壁の間を通過し且つ前記浮上装置の前記基板の搬送方向に点在又は延在する1以上の吹出口に沿うように延在する搬送部材と、該搬送部材に前記基板の前記搬送方向の寸法よりも大きい間隔で立設された複数の爪部と、前記搬送部材を前記搬送方向に移動させる駆動部とを含み、前記爪部が前記吹出口から吹き出る気体の圧力によって浮上している基板の搬送方向上流側の端部を搬送方向に押すよう構成されている搬送装置と、を備える基板搬送システム。
  2.  前記搬送方向に延びる規制部を備え、前記搬送装置によって搬送される基板の両側方向の位置を前記規制部が規制するよう構成されている、請求項1に記載の基板搬送システム。
  3.  前記規制部は、前記搬送装置の前記搬送方向に点在又は延在する1以上の吹出口の両側に対向して一対設けられている、請求項2に記載の基板搬送システム。
  4.  前記搬送装置は前記搬送部材としての無端ベルトを一対備え、該一対の無端ベルトは、それぞれの爪部が駆動部により鉛直方向から見て前記搬送方向と直交する方向に並んだ状態で同期して回転するよう構成されている、請求項1乃至3の何れかに記載の基板搬送システム。
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