JP2011225355A - エア浮上ユニット、ステージ装置、検査システム、露光システム及び塗布システム - Google Patents

Abstract

【課題】充分な保持剛性で基板を浮上保持すると共に省スペース化を可能とする。
【解決手段】エア浮上ユニット５０は、ベース５１の盤面５１ａ上でエアを吹出及び吸引することで基板を浮上保持する。ベース４１は、盤面５１ａに形成されエアを噴き出すための複数の噴出孔５２と、盤面５１ａに形成されエアを吸引するための複数の吸引孔５３と、ベース５１の内部にて水平方向に延在するように設けられ噴出孔５２から噴き出すエアを流通させて該エアの圧力を損失させるための圧損回路５４と、を備えている。ここで、圧損回路５４は、水平方向に曲がる曲がり部６４を有しており、水平方向に曲がりくねるよう構成されている。
【選択図】図３

Description

本発明は、エアの噴出及び吸引により基板を浮上保持するエア浮上ユニット、ステージ装置、検査システム、露光システム、及び塗布システムに関する。

従来のエア浮上ユニットとしては、例えば特許文献１に記載されたものが知られている。このエア浮上ユニットでは、例えば基板を保持した状態で該基板に対して検査や露光等の処理を行うべく、エアの噴出及び吸引によって基板をベースの盤面上で浮上保持させることが図られている。

特開２００５−１３２６２６号公報

ここで、上述のエア浮上ユニットでは、処理を精度よく行うため、充分な保持剛性（浮上高さ方向の変位に対する復元性能）で基板を浮上保持させることが望まれる。また、上述のエア浮上ユニットにおいては、例えば検査装置や露光装置等が共に使用されることから、その省スペース化が求められている。

そこで、本発明は、充分な保持剛性で基板を浮上保持できると共に省スペース化が可能なエア浮上ユニット、ステージ装置、検査システム、露光システム及び塗布システムを提供することを課題とする。

上記課題を解決するため、本発明に係るエア浮上ユニットは、ベースの盤面上でエアの吹出及び吸引により基板を浮上保持するエア浮上ユニットであって、ベースは、盤面に形成され、エアを噴き出すための複数の噴出孔と、盤面に形成され、エアを吸引するための複数の吸引孔と、ベースの内部にて盤面に沿った方向に延在するように設けられ、噴出孔から噴き出すエアを流通させて該エアの圧力を損失させるための圧損回路と、を備え、圧損回路は、盤面に沿った方向に曲がる曲がり部を有していることを特徴とする。

このエア浮上ユニットでは、曲がりくねるよう構成された圧損回路によって噴出孔から噴き出すエアに圧損が付与される。よって、充分な保持剛性で基板を浮上保持することができる。また、この圧損回路がベースの内部に設けられることから、省スペース化が可能となる。これと共に、圧損回路が盤面に沿った方向に延在する共に、曲がり部が盤面に沿った方向に圧損回路を曲げることから、特に大型化し易い盤面の交差方向に関してエア浮上ユニットを省スペース化できる。

また、ベースは、互いに当接するように積層された複数の板状部材を有し、複数の板状部材のうちの第１板状部材は、該第１板状部材に隣接する第２板状部材側の表面に形成された溝部を含み、圧損回路は、第１板状部材の溝部が第２板状部材によって閉塞されることで構成されていることが好ましい。この場合、第１板状部材の溝部を第２板状部材によって閉塞して圧損回路を構成できるため、圧損回路を容易に形成することができる。その結果、加工コストを低減しつつ、充分な保持剛性で基板を浮上保持すると共に省スペース化するという上記作用効果が奏される。

このとき、第２板状部材において第１板状部材側の表面は、平面状又は曲面状を呈していることが好ましい。この場合、圧損回路を構成する上で、第１及び第２板状部材の双方に溝部を形成する必要がない。つまり、第１板状部材の溝部に対応する溝部を第２板状部材に形成し溝部同士を合わせて圧損回路を構成することが不要となる。よって、加工コストを一層低減することができる。

また、第１及び第２板状部材の当接面は、互いに等しい精度の面加工が施されていることが好ましい。この場合、第１及び第２板状部材が精度よく当接されるため、第１板状部材の溝部を精度よく閉塞することができ、その結果、圧損回路からのエア漏れを抑制することが可能となる。

また、複数の板状部材は、同じ温度膨張係数を有する材料で形成されていることが好ましい。この場合、温度変化に起因したエア浮上ユニットの損傷や故障を抑制することができる。

また、第１板状部材の溝部は、複数の噴出孔に対応して複数形成され、複数の第１板状部材の溝部は、互いに同じ形状を呈していることが好ましい。この場合、複数の噴出孔から噴出される各エアについて圧損回路による圧力損失を同じにでき、浮上剛性を盤面上で均一化させることができる。また、溝部を形成するに当たり同じ加工を繰り返すことができ、加工コストを低減させ、スループットを向上させることができる。

また、ベースは、ベースの内部にて盤面に沿った方向に延在するように設けられ、複数の噴出孔へエアを纏めて供給するエア供給回路と、ベースの内部にて盤面に沿った方向に延在するように設けられ、複数の吸引孔からエアを纏めて吸引するエア吸引回路と、を備えていることが好ましい。この場合、噴出孔へエアを供給するための管、及び吸引孔からエアを吸引するための管の必要性を低減でき、構成の簡易化が可能となる。これと共に、ベースの内部にエア供給回路及びエア吸引回路が設けられていることから、省スペース化が可能となる。

また、ベースは、ベースの内部にて盤面に沿った方向に延在するよう設けられ、複数の噴出孔にエアを纏めて供給するエア供給回路と、ベースの内部にて盤面に沿った方向に延在するよう設けられ、複数の吸引孔からエアを纏めて吸引するエア吸引回路と、を備え、複数の板状部材のうちの第３板状部材は、該第３板状部材に隣接する第４板状部材側の表面に形成された溝部を含み、エア供給回路及びエア吸引回路は、第３板状部材の溝部が第４板状部材によって閉塞されることで構成されていることが好ましい。この場合、第３板状部材の溝部を第４板状部材によって閉塞してエア供給回路及びエア吸引回路を構成できるため、エア供給回路及びエア吸引回路を容易に形成することができ、加工コストを低減することが可能となる。

ここで、エア供給回路及びエア吸引回路は、それぞれ複数設けられており、複数のエア供給回路と複数のエア吸引回路とは、それぞれ盤面に沿った一方向に延在すると共に、盤面に沿って交互に配置され、複数のエア供給回路には、外部からエアを流入させる導入継手がそれぞれ接続されると共に、複数のエア吸引回路には、外部へエアを流出させる導出継手がそれぞれ接続される場合がある。

また、圧損回路は、その延在方向の直交方向における幅が一定であることが好ましい。この場合、圧損回路を容易に形成することができ、加工コストを一層低減することが可能となる。

また、本発明に係るステージ装置は、上記エア浮上ユニットを具備したことを特徴とする。また、本発明に係る検査システムは、上記ステージ装置を具備したことを特徴とする。また、本発明に係る露光システムは、上記ステージ装置を具備したことを特徴とする。また、本発明に係る塗布システムは、上記ステージ装置を具備したことを特徴とする。

これら本発明においても、上記エア浮上ユニットを有することから、上記作用効果、すなわち、充分な保持剛性で基板を浮上保持できると共に省スペース化が可能となるという上記作用効果が奏される。

本発明によれば、充分な保持剛性で基板を浮上保持できると共に、エア浮上ユニットの省スペース化が可能となる。

本発明の一実施形態に係るエア浮上ユニットを含む基板検査システムを示す平面図である。 図１の基板検査システムにおける搬送装置の構成の一部を示す拡大断面図である。 本実施形態のエア浮上ユニットの一部を断面化して示す側面図である。 図３のエア浮上ユニットの上段プレートを示す平面図である。 図３のエア浮上ユニットの上段プレートを示す底面図である。 図４のVI−VI線に沿っての断面図である。 図３のエア浮上ユニットの下段プレートを示す平面図である。 図３のエア浮上ユニットの下段プレートを示す底面図である。 図４のIX−IX線に沿っての断面図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。

図１は、本発明の一実施形態に係るエア浮上ユニットを含む基板検査システムを示す平面図であり、図２は、図１の基板検査システムにおける搬送装置の構成の一部を示す拡大断面図である。図１に示すように、基板検査システム（検査システム）１０は、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ(ＰＤＰ)、有機ＥＬディスプレイ(ＯＬＥＤ)、及び半導体等の矩形板状の基板２８を製造する工程に採用されるものである。

基板２８としては、例えば、液晶用ガラス基板（ガラス角型基板）、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルター用基板、光ディスク用基板等が挙げられ、ここでは、非常に大型の大型基板が用いられている。この基板検査システム１０は、基板搬送ステージ（ステージ装置）１１と、検査装置１４と、を具備している。

基板搬送ステージ１１は、基板２８を搬送するためのものであり、搬送装置１２と、エア浮上装置２６と、を備えている。搬送装置１２は、定盤１６と、１対のガイドレール１８と、４つのスライダ２０と、駆動機構２２と、４つの保持部材２４と、を有している。

定盤１６は、外形が直方体状をなし、床面などの水平面上に載置される。この定盤１６の上面１６ａは、所定方向に延びている。この定盤１６の上面１６ａの延びる方向が、基板２８の搬送方向となる。定盤１６の幅は、基板２８の幅よりも大きめに設けられている。なお、以下の説明においては、定盤１６の上面１６ａの延びる方向を搬送方向Ｘ、定盤１６の上面１６ａの法線方向を鉛直方向Ｚ、搬送方向Ｘ及び鉛直方向Ｚの双方に直交する方向を幅方向Ｙと称す。

１対のガイドレール１８は、搬送方向Ｘに延びるように、定盤１６の上面１６ａに設置されている。これら１対のガイドレール１８は、基板２８の幅よりも若干大きめの間隔を開けて、互いに平行に配置されている。スライダ２０は、１対のガイドレール１８それぞれに２個ずつ設けられている。各スライダ２０は、ガイドレール１８にガイドされて、搬送方向Ｘに移動可能に設けられている。

駆動機構２２は、図２に示すように、固定子３０と可動子３２とを含むリニアモータ機構から構成されている。固定子３０は、一対のガイドレール１８それぞれの外側において、ガイドレール１８に沿うように定盤１６上に設けられている。可動子３２は、図１に示すように、固定子３０と作用することで駆動される駆動体３３と、駆動体３３の両端から搬送方向Ｘに延設され駆動体３３及びスライダ２０を互いに連結する連結部材３７と、を含んでいる。連結部材３７は、スライダ２０の外側面にそれぞれに固定されている。これにより、各ガイドレール１８に設けられた２つのスライダ２０は、一定距離を保ったまま同期して移動する。

保持部材２４は、４つのスライダ２０の内側面にそれぞれ固定されている。保持部材２４は、図２に示すように、吸着部３４とバネ板部３６とを含んでいる。この保持部材２４は、吸着部３４でのエア引きにより、基板２８の側縁部を吸着して確実に保持する。バネ板部３６は、鉛直方向Ｚに沿って延びる基部３６ａと、幅方向Ｙに沿って延びる屈曲部３６ｂとを含んでいる。吸着部３４は、屈曲部３６ｂ上に固定されている。

バネ板部３６の屈曲部３６ｂは、鉛直方向Ｚにバネ性を有すると好ましい。これにより、鉛直方向Ｚにおける基板２８の高さ位置を微調整することができる。また、バネ板部３６の基部３６ａは、幅方向Ｙにバネ性を有すると好ましい。これにより、ガイドレール１８が歪んでいるとき、他方のガイドレール１８側を基準として、基板２８の幅方向Ｙのズレや、基板２８の鉛直方向Ｚ回りの回転を是正することが可能となる。

図１に示すように、エア浮上装置２６は、定盤１６上において検査装置１４の下方の検査領域を含むよう敷設されている。このエア浮上装置２６は、１つ又は複数のエア浮上ユニット５０が２次元状に並設されてなり、鉛直方向Ｚに沿ってエアを噴出（吹出）及び吸引することにより、基板２８を浮上させた状態で強固に保持する浮上保持を実施する（詳しくは後述）。

なお、定盤１６上においてエア浮上装置２６が敷設された領域以外には、エアを噴出して浮上させる一般的なエア噴出装置（不図示）が敷設されている。また、並設されたエア浮上ユニット５０は、それらの上面の高さが互いに等しくなるよう微調整されている。

検査装置１４は、上面１６ａ側から基板２８を検査するものである。検査装置１４は、撮像装置（例えばＣＣＤカメラ）やレーザ計測装置等の検査部４５を有している。検査部４５は、定盤１６上に設置されたガントリ４０に、該ガントリ４０に沿って幅方向Ｙに移動可能なスライド部材４４を介して取り付けられている。また、ここでの検査部４５自身も、スライド部材４４に対して鉛直方向Ｚに移動可能とされている。

次に、上述したエア浮上ユニット５０について詳細に説明する。

図３は本実施形態のエア浮上ユニットの一部を断面化して示す側面図、図４，５は図３のエア浮上ユニットの上段プレートを示す平面図，底面図、図６は、図４のVI−VI線に沿っての断面図、図７，８は図３のエア浮上ユニットの下段プレートを示す平面図，底面図、図９は、図４のIX−IX線に沿っての断面図である。

図３に示すように、エア浮上ユニット５０は、ベース５１の盤面５１ａ上でエアを噴出及び吸引することにより基板２８（図１参照）を浮上保持するものである。なお、ここでのエアは、その温度が周囲環境温度（例えば、クリーンルーム内に配置される場合には２３℃）と同じ温度とされている。これにより、エアの噴出及び吸引に起因して水滴が発生することが抑制される。

ベース５１は、その盤面５１ａに複数形成された噴出孔５２及び吸引孔５３と、ベース５１の内部に水平面（盤面５１ａ）に沿って延在するよう設けられた圧損回路５４と、エア供給回路５５及びエア吸引回路５６と、を備えている。噴出孔５２は、エアを盤面５１ａ上に噴き出すためのものであり、エアを上方に向けて流通させる。吸引孔５３は、エアを盤面５１ａから吸引するためのものであり、エアを下方に向けて流通させる。

圧損回路５４は、その内部でエアを流通させて該エアの圧力を損失させる圧損流路である。換言すると、圧損回路５４は、噴出孔５２から盤面５１ａ上に噴出させるエアに対し、圧損を付与して圧力を損失させる。エア供給回路５５は、複数の噴出孔５２にエアを纏めて供給する流路であり、その入口側には、エアを外部から導入させる導入継手Ｉが接続されている。エア吸引回路５６は、複数の吸引孔５３からエアを纏めて吸引する流路であり、その出口側には、エアを外部へ導出させる導出継手Ｏが接続されている。

なお、導入継手Ｉには、加圧したエアを吹き出すコンプレッサ等の給気装置が接続され、導出継手Ｏには、エアを吸引するための吸気装置が接続されている。給気装置及び吸気装置は、コントローラによってその流量が制御される。

また、ベース５１は、板状部材である上段プレート５７、中段プレート５８及び下段プレート５９を備え、これらが鉛直方向Ｚの上方から下方の順で互いに当接するよう積層されて構成されている。上段プレート５７、中段プレート５８及び下段プレート５９は、断面矩形板状を呈し、互いに同じ材質（ここでは、アルミニウム）で形成されている。

なお、上段プレート５７、中段プレート５８及び下段プレート５９の各材質は、エア浮上ユニット５０の仕様に応じて様々なものを用いてもよく、例えば、石やセラミックス等で上段プレート５７、中段プレート５８及び下段プレート５９を形成してもよい。

また、上段プレート５７、中段プレート５８及び下段プレート５９それぞれの長手方向の両端部には、互いに連通する複数の貫通孔６０が設けられている。そして、これら上段プレート５７、中段プレート５８及び下段プレート５９は、互いに積層された状態（以下、単に「積層状態」という）で貫通孔６０にボルト６１が挿通されて螺着されることにより、互いに固定されている。

図４〜６に示すように、上段プレート５７には、鉛直方向Ｚ視において、千鳥格子状（マトリクス状）に均等間隔で多数配置された貫通孔６２が設けられている。貫通孔６２は、断面円形状を呈し、上面５７ａから下面５７ｂに至るまで鉛直方向Ｚに沿って延びている。そして、搬送方向Ｘ又は幅方向Ｙに隣接する一対の貫通孔６２のうち一方によって上記噴出孔５２が構成され、他方によって上記吸引孔５３が構成される。つまり、噴出孔５２及び吸引孔５３は、搬送方向Ｘ及び幅方向Ｙに沿って交互に配置されている。

上段プレート５７の下面５７ｂは、平面加工が施され、後述の中段プレート５８の上面５８ａと同じ平面度となっている。この上段プレート５７の下面５７ｂにおいては、一定幅及び一定深さで曲がりくねるように延在する溝部６３が、上記圧損回路５４を構成するものとして複数形成されている。

溝部６３は、複数の噴出孔５２に対応する数だけ複数形成されている。これら溝部６３は、鉛直方向Ｚ視において互いに同じ形状を呈している。この溝部６３は、噴出孔５２を含んでおり、該噴出孔５２に連通している。溝部６３は、噴出孔５２を中心にして一定領域内に収まるように、所定長延在している。また、溝部６３は、水平面（盤面５１ａ）に沿った方向である水平方向に曲がる曲がり部６４を複数有している。ここでの曲がり部６４は、溝部６３の延在方向を水平方向直角に曲げている。

図３に戻り、中段プレート５８は、その上面５８ａ及び下面５８ｂが平面状を呈している。上面５８ａは、平面加工が施され、上段プレート５７の下面５７ｂと同じ平面度となっている。また、下面５８ｂは、平面加工が施され、後述の下段プレート５９の上面５９ａと同じ平面度となっている。

この中段プレート５８には、積層状態で吸引孔５３に対応する位置に、該吸引孔５３と連通する連通孔６５が設けられている。また、この中段プレート５８には、積層状態で圧損回路５４における噴出孔５２側と反対側の端部５４ｘ（図５参照）に対応する位置に、圧損回路５４と連通する連通孔６６が設けられている。

連通孔６５は、吸引孔５３により吸引されたエアを下段プレート５９側へと流通させる。連通孔６６は、噴出孔５２から噴出するエアを上段プレート５７側へと流通させる。これら連通孔６５，６６は、鉛直方向Ｚに沿って延びると共に、中段プレート５８の上面５８ａから下面５８ｂに至っている。

このような中段プレート５８は、その上面５８ａが上段プレート５７の下面５７ｂに当接され、ボルト６１で固定されている。これにより、上段プレート５７の溝部６３の開口側が中段プレート５８によって閉ざされて閉塞される。その結果、溝部６３により、閉空間としての圧損回路５４が構成されることとなる。

すなわち、圧損回路５４は、溝部６３と同様に、一定領域内に収まるように所定長曲がりくねるよう延在しており、水平面に沿った方向に曲がる曲がり部６４を複数有している。さらにまた、圧損回路５４は、その延在方向の直交方向における幅が一定とされている。

図７〜９に示すように、下段プレート５９の上面５９ａには、積層状態で複数の連通孔６６（図３参照）に連通するように搬送方向Ｘに沿って延在する溝部７５が、上記エア供給回路５５を構成するものとして複数形成されている。また、この上面５９ａには、積層状態で複数の連通孔６５に連通するように搬送方向Ｘに沿って延在する溝部７６が、上記エア吸引回路５６を構成するものとして複数形成されている。これら溝部７５，７６は、一定幅及び一定深さを有し、幅方向Ｙに交互に等間隔で並設されている。

また、この下段プレート５９の上面５９ａは、平面加工が施され、中段プレート５８の下面５８ｂと同じ平面度となっている。図３，７に示すように、溝部７５の底部においてその延在方向の中央には、導入継手Ｉが接続される導入孔６７が設けられている。他方、溝部７６の底部において延在方向の中央には、導出継手Ｏが接続される導出孔６８が設けられている。導入孔６７及び導出孔６８は、断面円形を呈し、鉛直方向Ｚに沿って下面５７ｂに至るまで延在している。

このような下段プレート５９は、図３に示すように、その上面５９ａが中段プレート５８の下面５８ｂに当接され、ボルト６１で固定されている。これにより、下段プレート５９の溝部７５の開口側が、中段プレート５８の下面５８ｂによって閉ざされて閉塞され、その結果、溝部７５により、いわゆるマニホールドとしてのエア供給回路５５が構成される。併せて、下段プレート５９の溝部７６の開口側が、中段プレート５８の下面５８ｂによって閉ざされて閉塞され、その結果、溝部７６により、いわゆるマニホールドとしてのエア吸引回路５６が構成される。

すなわち、エア供給回路５５及びエア吸引回路５６は、溝部７５，７６と同様に、搬送方向Ｘに沿って延在し、その延在方向の直交方向における幅が一定とされている。また、これらエア供給回路５５及びエア吸引回路５６は、幅方向Ｙに交互に等間隔で並設されている。

次に、上述したエア浮上ユニット５０による基板２８の浮上保持について、図３を参照しつつ説明する。

まず、エアが例えば流量一定で導入継手Ｉを介して供給され、複数のエア供給回路５５に導入される。これら複数のエア供給回路５５により、導入されたエアが搬送方向Ｘに並ぶ複数の噴出孔５２ごとに纏めて供給され、そして、噴出孔５２から上方へ向けて噴出される。

ここで、エアにあっては、噴出孔５２から噴出される前に、圧損回路５４に流通されて圧損が負荷され、圧力が損失される。具体的には、エアが連通孔６６を通じて圧損回路５４の端部５４ｘに流入され、圧損回路５４の延在方向に沿って流れる。このとき、圧損回路５４が曲がり部６４を含むことから、エアは水平方向に曲がりくねるように流れ、好適な圧損が付与される。そして、エアは、圧損回路５４の中心まで流れた後、噴出孔５２に流入され盤面５１ａ上に噴出される。

噴出されたエアは、基板２８と上段プレート５７との隙間を通じて吸引孔５３に吸引される。このエアは、複数のエア吸引回路５６により、搬送方向Ｘに並ぶ複数の吸引孔５３ごとに纏めて吸引される。そして、導出継手Ｏを介して外部へ導出される。

このようなエアの噴出及び吸引によって、エア浮上ユニット５０上の基板２８が浮上されつつ強固に保持される。すなわち、例えば、基板２８とベース５１との隙間量である浮上高さの変化によって、隙間内の圧力の積分値である負荷容量が大きく変化すると、力のバランスが大きく崩れるため、もとの平衡位置（隙間量）にすぐに戻ろうとする。よって、隙間内のエアは、仮想的なバネとして作用し、浮上保持された基板２８は、浮上高さを変更させる外乱に対する復元力としての保持剛性を有することとなる。

次に、上記した基板検査システム１０を用いた基板２８の検査方法について、図１を参照しつつ説明する。

まず、基板２８の幅方向Ｙの側縁部が保持部材２４により吸着され、基板２８が定盤１６の上面１６ａから離間した状態で保持される。続いて、駆動機構２２によりスライダ２０が移動され、基板２８が搬送方向Ｘに所定速度で搬送される。そして、基板２８が検査領域上のとき、エア浮上装置２６により基板２８の下面でエアの噴出及び吸引が行われる。このとき、上述したように圧損回路５４によりエアの圧力損失が好適に生じているため、基板２８が高い保持剛性で保持される。

続いて、検査装置１４の幅方向Ｙ及び鉛直方向Ｚの位置が制御されつつ、該検査装置１４により基板２８がスキャンされ、基板２８がその上面側から検査される。このとき、基板２８の保持剛性は高められているため、振動が抑制されて基板２８が精度よく検査される。最後に、定盤１６の後段に搬送された検査済みの基板２８に対し、保持部材２４による吸着を解除する。

以上、本実施形態では、曲がり部６４で水平方向に曲がりくねるよう構成された圧損回路５４によって、噴出孔５２から噴き出すエアに対して圧損を付与でき、充分な保持剛性で基板２８を浮上保持することができる。また、この圧損回路５４がベース５１の内部に設けられることから、省スペース化及びコンパクト化が可能となる。加えて、圧損回路５４が水平方向に延在する共に、曲がり部６４が圧損回路５４を水平方向に曲げることから、検査装置１４等の配置関係のために特に大型化し易い鉛直方向Ｚに関して、エア浮上ユニット５０を省スペース化及びコンパクト化することができる。

また、本実施形態の圧損回路５４は、上述したように、上段プレート５７の溝部６３が中段プレート５８によって閉塞されることで構成されている。そのため、圧損回路５４の形状が加工労力の大きい曲がりくねった形状であっても、圧損回路５４を容易に形成することができる。その結果、加工コストを低減しつつ（コストコントロール性を高めつつ）、上記効果、すなわち充分な保持剛性で基板２８を浮上保持すると共に省スペース化するという効果を発揮できる。また、圧損回路５４内に異物が進入したとしても、上段プレート５７及び中段プレート５８を分離させることで対応可能となる。

このとき、本実施形態では、上述したように、中段プレート５８の上面５８ａが平面状とされており、溝部６３を中段プレート５８により閉塞して圧損回路５４を構成する上で、溝部６３に対応する溝部を中段プレート５８の上面５８ａに形成していない。つまり、溝部同士を合わせるのではなく、溝部６３と平面とを合わせることで圧損回路５４を形成している。よって、加工コストを一層低減できる。

また、本実施形態では、上述したように、プレート５７，５８の当接面である下面５７ｂ及び上面５８ａが互いに等しい精度の平面度で加工されていることから、これらが精度よく当接（フィット）されるため、溝部６３を精度よく閉塞でき、その結果、圧損回路５４からのエア漏れを抑制することが可能となる。同様に、プレート５８，５９の当接面である下面５８ｂ及び上面５９ａが互いに等しい精度の平面度で加工されていることから、これらが精度よく当接されるため、溝部７５，７６を精度よく閉塞でき、その結果、エア供給回路５５及びエア吸引回路５６からのエア漏れを抑制することが可能となる。

また、本実施形態では、上述したように、プレート５７〜５９が互いに等しい材料で形成されており、プレート５７〜５９が互いに同じ温度膨張係数を有しているため、温度変化に起因したエア浮上ユニット５０の損傷や故障を抑制し、その保全を容易に行うことができる。なお、エア浮上ユニット５０が適用されるアプリケーション次第で温度変化が顕著に生じるおそれがあるため、かかる効果は特に有効である。

また、本実施形態では、上述したように、上段プレート５７の溝部６３が複数の噴出孔５２に対応して複数形成されており、これら溝部６３が鉛直方向Ｚ視において互いに同じ形状を呈している。よって、複数の噴出孔５２から噴出される各エアについて圧損回路５４で付与する圧力損失を同じにでき、浮上剛性を盤面５１ａ上で均一化させることができる。また、複数の溝部６３を形成する際に同じ加工を繰り返すことができ、加工コストを低減させ、スループットを向上させることができる。

また、本実施形態では、上述したように、複数の噴出孔５２へエアを纏めて供給するエア供給回路５５がベース５１内に設けられていると共に、複数の吸引孔５３からエアを纏めて吸引するエア吸引回路５６がベース５１内に設けられている。よって、噴出孔５２へエアを供給するための管、及び吸引孔５３からエアを吸引するための管の必要性を低減でき、構成の簡易化が可能となる。これと共に、上記のようにエア供給回路５５及びエア吸引回路５６がベース５１内に共に設けられていることから、一層の省スペース化が可能となる。

また、本実施形態のエア供給回路５５及びエア吸引回路５６は、上述したように、下段プレート５９の上面５９ａの溝部７５，７６が中段プレート５８によって閉塞されることで構成されている。これにより、エア供給回路５５及びエア吸引回路５６を容易に形成することができ、加工コストを一層低減することが可能となる。

また、本実施形態では、上述したように、圧損回路５４においてその延在方向の直交方向の幅が一定とされていることから、圧損回路５４を形成する際の加工を容易化でき、加工コストを一層低減することが可能となる。

ところで、近年、セラミックスを焼結製造することにより内部に微細な孔を多数形成し、これを圧損回路５４として用いる場合もあるが、この場合は、大型化への対応が困難であると共に、加工コストや調整コストが非常に高くなってしまう。この点、本実施形態では、上述したように、エア浮上ユニット５０を複数並設するだけで足り、加えて、並設されたエア浮上ユニット５０の調整（例えば高さ調整）も容易である。よって、本実施形態においては、大型化に容易に対応させることができる。

なお、本実施形態では、上述したように、プレート５７〜５９の当接面に接着剤等を塗布せず、これらをボルト６１によって固定している。よって、加工コストを一層低減できると共に、接着剤等の塗布ムラによって回路５４〜５６が充分に閉塞されずにエア漏れが発生するのを防止することが可能となる。ちなみに、例えば回路５４〜５６を充分に閉塞できれば、プレート５７〜５９の当接面に接着剤等で接着することが可能である。

以上において、上段プレート５７が第１板状部材を構成し、中段プレート５８が第２及び第４板状部材を構成し、下段プレート５９が第３板状部材を構成する。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明に係るエア浮上ユニットは、実施形態に係る上記エア浮上ユニット５０に限られるものではなく、各請求項に記載した要旨を変更しない範囲で変形し、又は他のものに適用したものであってもよい。

例えば、圧損回路５４の形状や寸法（長さ、幅）としては、上記実施形態に限定されず、所望の圧損をエアに付与すべく種々の形状や寸法を採用してもよい。要は、圧損回路５４は、水平方向に延在しつつ、水平方向に曲がりくねる（曲がり部６４を有する）よう構成されていればよい。

また、上記実施形態の圧損回路５４は、エアの流れを水平方向直角に曲げる曲がり部６４を含んでいるが、例えば鋭角状、鈍角状又は曲線状に曲がる曲がり部を含んでいてもよい。また、圧損回路５４に含まれる曲がり部６４の数は、限定されるものではない。

また、上記実施形態は、搬送方向Ｘに基板２８を搬送する基板搬送ステージ１１にエア浮上ユニット５０を適用したが、搬送方向Ｘ及び幅方向Ｙに基板を搬送させるものや、搬送方向Ｘ、幅方向Ｙ及び鉛直方向Ｚに基板を搬送させるものにエア浮上ユニットを適用してもよい。つまり、本発明のエア浮上ユニットを具備したステージ装置は、Ｘ（Ｙ，Ｚ）ステージ装置、ＸＹ（ＸＺ，ＹＺ）ステージ装置、ＸＹＺステージ装置を含んでいる。

また、上記実施形態は、基板検査システム１０にエア浮上ユニット５０を適用したものであるが、本発明は、その他のシステム、プロセス及び装置に適用したものであってもよい。つまり、本発明は、エア浮上ユニットを具備した露光システム（露光プロセス）、塗布システム（塗布プロセス）、洗浄システム（洗浄プロセス）、搬送装置（搬送プロセス）、及びアライメント保持装置（アライメント保持プロセス）等であってもよい。

なお、例えば露光プロセスに本発明を適用する場合等においては、光源の熱によるエア浮上ユニット５０の温度上昇及び基板２８の加熱を抑制するため、エア浮上ユニット５０に冷却ユニット（例えば冷却管）を設けてもよい。

また、上記実施形態では、噴出孔５２及び吸引孔５３を盤面５１ａの全域に亘って形成したが、盤面５１ａにおいて例えばカメラ等を配置する領域には、噴出孔５２及び吸引孔５３を形成しない場合もある。また、ベース５１をプレート５７〜５９からなる３段構造としたが、ベースが有する板状部材の数は、１枚又は２枚でも４枚以上でもよい。なお、板状部材を２枚で構成する場合、下段プレートに搬送方向Ｘ又は幅方向Ｙに沿って延びる貫通孔を形成し、この貫通孔の両端部側を閉塞することでエア供給回路５５及びエア吸引回路５６を構成できる。

また、上記実施形態では、上段プレート５７の下面５７ｂのみに溝部６３を形成することで圧損回路５４を構成したが、中段プレート５８の上面５８ａにも溝部６３に対応する溝部を形成して圧損回路５４を構成してもよい。同様に、下段プレート５９の上面５９ａのみに溝部７５，７６を形成することでエア供給回路５５及びエア吸引回路５６を構成したが、中段プレート５８の下面５８ｂにも溝部７５，７６に対応する溝部を形成してエア供給回路５５及びエア吸引回路５６を構成してもよい。

また、上記実施形態では、プレート５７〜５９を平板としたが、曲板としてもよく、これらの当接面が平面や曲面であってもよい。また、上記実施形態では、プレート５７，５８の当接面を互いに等しい精度の平面度で加工し、プレート５８，５９の当接面を互いに等しい精度の平面度で加工したが、これに限定されるものではない。例えば、当接面における互いの輪郭度、平行度（曲率）、寸法公差、又は幾何公差が互いに等しい精度となるよう加工してもよく、要は、当接面に互いに等しい精度の面加工が施されていればよい。

ちなみに、上記における「同じ」及び「等しい」は、「略同じ」及び「略等しい」をそれぞれ含む広義のものであって、例えばその性質、状態又は程度等が互いに共通し（同様で）、互いの差異が小さいものを意図する。

１０…基板検査システム（検査システム）、１１…基板搬送ステージ（ステージ装置）、２８…基板、５０…エア浮上ユニット、５１…ベース、５１ａ…盤面、５２…噴出孔、５３…吸引孔、５４…圧損回路、５５…エア供給回路、５６…エア吸引回路、５７…上段プレート（第１板状部材）、５７ｂ…下面（表面，当接面）、５８…中段プレート（第２板状部材，第４板状部材）、５８ａ…上面（表面，当接面）、５９…下段プレート（第３板状部材）、５９ａ…上面（表面）、６３…溝部（第１板状部材の溝部）、６４…曲がり部、７５，７６…溝部（第３板状部材の溝部）、Ｉ…導入継手、Ｏ…導出継手。

Claims (14)

1. ベースの盤面上でエアの吹出及び吸引により基板を浮上保持するエア浮上ユニットであって、
   前記ベースは、
   前記盤面に形成され、前記エアを噴き出すための複数の噴出孔と、
   前記盤面に形成され、前記エアを吸引するための複数の吸引孔と、
   前記ベースの内部にて前記盤面に沿った方向に延在するように設けられ、前記噴出孔から噴き出す前記エアを流通させて該エアの圧力を損失させるための圧損回路と、を備え、
   前記圧損回路は、前記盤面に沿った方向に曲がる曲がり部を有していることを特徴とするエア浮上ユニット。
2. 前記ベースは、互いに当接するように積層された複数の板状部材を有し、
   複数の前記板状部材のうちの第１板状部材は、該第１板状部材に隣接する第２板状部材側の表面に形成された溝部を含み、
   前記圧損回路は、前記第１板状部材の溝部が前記第２板状部材によって閉塞されることで構成されていることを特徴とする請求項１記載のエア浮上ユニット。
3. 前記第２板状部材において前記第１板状部材側の表面は、平面状又は曲面状を呈していることを特徴とする請求項２記載のエア浮上ユニット。
4. 前記第１及び第２板状部材の当接面は、互いに等しい精度の面加工が施されていることを特徴とする請求項２又は３記載のエア浮上ユニット。
5. 複数の前記板状部材は、同じ温度膨張係数を有する材料で形成されていることを特徴とする請求項２〜４の何れか一項記載のエア浮上ユニット。
6. 前記第１板状部材の溝部は、複数の前記噴出孔に対応して複数形成され、
   複数の前記第１板状部材の溝部は、互いに同じ形状を呈していることを特徴とする請求項２〜５の何れか一項記載のエア浮上ユニット。
7. 前記ベースは、
   前記ベースの内部にて前記盤面に沿った方向に延在するように設けられ、複数の前記噴出孔へ前記エアを纏めて供給するエア供給回路と、
   前記ベースの内部にて前記盤面に沿った方向に延在するように設けられ、複数の前記吸引孔から前記エアを纏めて吸引するエア吸引回路と、を備えていることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項記載のエア浮上ユニット。
8. 前記ベースは、
   前記ベースの内部にて前記盤面に沿った方向に延在するよう設けられ、複数の前記噴出孔に前記エアを纏めて供給するエア供給回路と、
   前記ベースの内部にて前記盤面に沿った方向に延在するよう設けられ、複数の前記吸引孔から前記エアを纏めて吸引するエア吸引回路と、を備え、
   複数の前記板状部材のうちの第３板状部材は、該第３板状部材に隣接する第４板状部材側の表面に形成された溝部を含み、
   前記エア供給回路及び前記エア吸引回路は、前記第３板状部材の溝部が前記第４板状部材によって閉塞されることで構成されていることを特徴とする請求項２〜６の何れか一項記載のエア浮上ユニット。
9. 前記エア供給回路及び前記エア吸引回路は、それぞれ複数設けられており、
   複数の前記エア供給回路と複数の前記エア吸引回路とは、それぞれ前記盤面に沿った一方向に延在すると共に、前記盤面に沿って交互に配置され、
   複数の前記エア供給回路には、外部から前記エアを流入させる導入継手がそれぞれ接続されると共に、複数の前記エア吸引回路には、外部へ前記エアを流出させる導出継手がそれぞれ接続されることを特徴とする請求項７又は８記載のエア浮上ユニット。
10. 前記圧損回路は、その延在方向の直交方向における幅が一定であることを特徴とする請求項１〜９の何れか一項記載のエア浮上ユニット。
11. 請求項１〜１０の何れか一項記載のエア浮上ユニットを具備したことを特徴とするステージ装置。
12. 請求項１１記載のステージ装置を具備したことを特徴とする検査システム。
13. 請求項１１記載のステージ装置を具備したことを特徴とする露光システム。
14. 請求項１１記載のステージ装置を具備したことを特徴とする塗布システム。

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