CN100557769C - 工作台装置以及涂敷处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种工作台装置，具有在上方进行基板的输送的工作台、以及、使基板在该工作台上上浮的上浮机构，工作台具有用来喷射使基板(G)上浮的气体的多个气体喷射口(16a)、以及、对从气体喷射口(16a)喷射的气体进行吸引的多个吸气口(16b)，多个气体喷射口(16a)和多个吸气口(16b)各自设置成，在沿着基板输送方向的既定距离内不沿着平行于基板输送方向的直线排列。

Description

工作台装置以及涂敷处理装置
技术领域
本发明涉及用来输送液晶显示装置(LCD)等FPD(平板显示器)所使用的玻璃基板等基板的工作台装置以及具有该工作台装置的涂敷处理装置。
背景技术
例如在液晶显示装置(LCD)的制造工艺中，是采用光刻技术在玻璃基板上形成既定的电路图案的。即，向玻璃基板供给抗蚀剂液而形成涂敷膜，对其进行干燥、热处理之后，依次进行曝光处理和显影处理。
其中，作为向玻璃基板供给抗蚀剂液而形成涂敷膜的装置，下述涂敷膜形成装置已经公知，所述涂敷膜形成装置具有对玻璃基板进行真空水平吸附保持的载置台、向被保持在载置台上的基板供给抗蚀剂液的抗蚀剂喷嘴、以及使载置台和抗蚀剂喷嘴在水平方向上相对移动的移动机构(例如可参考专利文献1)。
但是，对玻璃基板进行真空吸附保持存在着这样的缺点，即，很容易使载置台上所设置的吸气孔的痕迹转印到玻璃基板的表面上，还会使大量微粒附着到基板的背面上。此外，由于必须使抗蚀剂喷嘴或载置台之中的某一方能够移动，因而存在着装置的体积大、结构复杂而且动力成本高等问题。
专利文献1：特开平10-156255号公报
发明内容
本发明的目的是，提供一种对基板进行涂敷处理时吸附孔的痕迹不会转印到基板上、能够减少微粒在基板背面上的附着、而且装置的结构简单的工作台装置以及使用该工作台装置的涂敷处理装置。
作为旨在实现上述任务的技术，本发明人首先就不将玻璃基板吸附保持在载置台上而边大致呈水平姿势进行输送边向该玻璃基板的表面供给抗蚀剂液来形成涂敷膜的装置进行了研究，并就边以上浮方式输送基板边在该基板的表面涂敷抗蚀剂液的上浮式基板输送处理装置申请了发明(特愿2004-44330，特愿2004-218156)。
作为该上浮式基板输送处理装置中所使用的基板上浮用工作台，有这样两种型式，一种是如图1A所示，形成有气体喷射口311和吸气口312，通过使气体的喷射量和吸气量达到平衡而使得基板从工作台表面上浮一定高度的工作台301，另一种是如图1B所示，形成有气体喷射口311和槽313，通过使气体喷射量和从槽313排气的排气量达到平衡而使得基板从工作台表面上浮一定高度的工作台305。
在图1A所示的工作台301上，气体喷射口311和吸气口312各自在基板输送方向和垂直于基板输送方向的方向上以一定的间隔在直线上排列着形成并且二者交替着形成，而在图1B所示的工作台305上，气体喷射口311在基板输送方向和垂直于基板输送方向的方向上以一定的间隔形成，槽313则在垂直于基板输送方向的方向上以一定间隔形成而其长度方向与基板输送方向一致。
然而，若如上所述设置气体喷射口311、吸气口312和槽313，将使得基板的一定区域始终从槽313上通过，而其它部分从气体喷射口311(以及吸气口312)上通过，因此，气体喷射口311、吸气口312和槽313的这种布置方式，会在抗蚀剂膜上产生条纹状转印痕迹(即导致抗蚀剂膜的厚度不均)。这种转印痕迹最终会使图象品质参差不齐。
本发明能够避免发生上述问题而实现前述目的。
根据本发明的第1观点，可提供一种工作台装置，具有在上方进行基板的输送的工作台、以及、使基板在该工作台上上浮的上浮机构，所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及、对从所述气体喷射口喷射的气体进行吸引的多个吸气口，所述多个气体喷射口和所述多个吸气口各自设置成，在沿着基板输送方向的既定距离内不沿着平行于基板输送方向的直线排列。
在第1观点所涉及的工作台装置中，优选地，气体喷射口的相邻间隔为1cm～5cm，吸气口的相邻间隔为1cm～5cm，多个气体喷射口和多个吸气口各自不与基板输送方向相平行地成直线排列的距离在0.2m以上。
此外，工作台还可以这样构成：具有在既定位置上形成有气体喷射孔和吸气孔的基台、由具有气体喷射口的多孔性材料制成的第1块材、以及、由具有吸气口的多孔性材料制成的第2块材；第1、第2块材这样设置在基台上，即，使得第1块材上所形成的气体喷射口与基台上所形成的气体喷射孔连通、第2块材上所形成的吸气口与基台上所形成的吸气孔连通。
工作台的表面上还可以形成有用来将从气体喷射口喷射的气体向工作台的侧面排放的直线形状的槽部，在这种场合，优选地槽部的长度方向与基板输送方向错开既定角度。此外，优选地，该槽部的长度方向与基板输送方向的夹角在15度以上90度以下。在具有槽部的工作台装置由所述基台和第1、第2块材构成的场合，只要以在第1、第2块材之间形成槽部的方式将第1、第2块材设置在基台上即可。
根据本发明的第2观点，可提供一种工作台装置，具有在上方进行基板的输送的工作台、以及、使基板在该工作台上上浮的上浮机构，所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及、将从所述气体喷射口喷射的气体向所述工作台的侧面排放的直线形状的槽部，所述多个气体喷射口设置成不是沿着平行于基板输送方向的直线排列，并且，所述槽部的长度方向与基板输送方向错开既定角度。
在第2观点所涉及的工作台装置中，优选地，所述气体喷射口的相邻间隔为1cm～5cm，所述多个气体喷射口不与基板输送方向相平行地成直线排列的距离在0.2m以上。
此外，工作台还可以这样构成，即，具有在既定位置上形成有气体喷射孔的基台、以及、由具有所述气体喷射口的多孔性材料制成的块材；所述块材这样设置在所述基台上，即，使得所述块材上所形成的气体喷射口与所述基台上所形成的气体喷射孔连通、在所述块材之间形成所述槽部。
优选地，所述槽部的长度方向与基板输送方向的夹角在5度以上30度以下。
根据本发明的第3观点，可提供一种涂敷处理装置，边输送基板边在该基板上涂敷涂敷液而形成涂敷膜，其具有：具有在上方进行基板的输送的工作台以及使基板在该工作台上上浮的上浮机构的工作台装置，对在所述工作台上上浮的基板进行输送的基板输送机构，以及，在由所述基板输送机构在所述工作台上输送的基板的表面涂敷涂敷液的涂敷机构；
所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及、对从所述气体喷射口喷射的气体进行吸引的多个吸气口，所述多个气体喷射口和所述多个吸气口各自设置成，在沿着基板输送方向的既定距离内不沿着平行于基板输送方向的直线排列。
根据本发明的第4观点，可提供一种涂敷处理装置，边输送基板边在该基板上涂敷涂敷液而形成涂敷膜，其具有：具有在上方进行基板的输送的工作台以及使基板在该工作台上上浮的上浮机构的工作台装置，对在所述工作台上上浮的基板进行输送的基板输送机构，以及，在由所述基板输送机构在所述工作台上输送的基板的表面涂敷涂敷液的涂敷机构；所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及、将从所述气体喷射口喷射的气体向所述工作台的侧面排放的直线形状的槽部，所述多个气体喷射口设置成不是沿着平行于基板输送方向的直线排列，并且，所述槽部的长度方向与基板输送方向错开既定角度。
根据本发明，能够在形成涂敷膜时抑制涂敷膜上产生由气体喷射口、吸气口和槽引起的转印痕迹，形成膜厚分布的均匀性非常优异的涂敷膜。
附图说明
图1A是对工作台上所设置的气体喷射口、吸气口图案的一个例子进行展示的俯视图。
图1B是对工作台上所设置的气体喷射口、吸气口、槽的布局图案的另一个例子进行展示的俯视图。
图2是具有本发明一实施方式的抗蚀剂涂敷装置的抗蚀剂涂敷/显影处理系统的概略俯视图。
图3是对抗蚀剂涂敷/显影处理系统的第1热处理单元部进行展示的侧视图。
图4是对抗蚀剂涂敷/显影处理系统的第2热处理单元部进行展示的侧视图。
图5是对抗蚀剂涂敷/显影处理系统的第3热处理单元部进行展示的侧视图。
图6是抗蚀剂涂敷/显影处理系统所具备的抗蚀剂涂敷单元的概略俯视图。
图7是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的小工作台进行展示的概略俯视图。
图8是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的上浮机构进行展示概略结构图。
图9是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的小工作台的其它例子进行展示的概略俯视图。
图10是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的小工作台的另一例子进行展示的概略俯视图。
图11是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的小工作台的又一例子进行展示的概略俯视图。
图12是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的小工作台的其它例子进行展示的概略俯视图。
图13是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的小工作台的另一例子进行展示的概略俯视图。
图14A是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的小工作台的又一例子进行展示的概略俯视图。
图14B是图14A的工作台装置的概略侧视图。
图15A是对图6的抗蚀剂涂敷单元的工作台装置所具有的小工作台的又一不同的例子进行展示的概略俯视图。
图15B是图15A的工作台装置的概略侧视图。
具体实施方式
下面，结合附图对本发明的实施方式进行详细说明。在这里，对将本发明应用于在LCD用玻璃基板(以下称作“LCD基板”)的表面形成抗蚀剂膜的装置以及方法中的情况进行说明。
图2是搭载有本发明一实施方式所涉及的抗蚀剂涂敷单元的、在LCD基板上形成抗蚀剂膜并在曝光处理之后进行抗蚀剂膜显影处理的抗蚀剂涂敷/显影处理系统的概略俯视图。
该抗蚀剂涂敷/显影处理系统100具有：载置容纳多个LCD基板G的盒的盒工作站(送入送出部)1、具有用来对LCD基板G实施包括抗蚀剂的涂敷和显影在内的一系列处理的多个处理单元的处理工作站(处理部)2、用来与曝光装置4之间进行LCD基板G的交接的接口工作站(接口部)3，盒工作站1和接口工作站3分别设置在处理工作站2的两端。图2中，抗蚀剂涂敷/显影处理系统100的长度方向为X方向，在俯视图上与X方向相垂直的方向为Y方向。
盒工作站1具有能够在Y方向上排列着载置盒C的载置台9、以及、用来与处理工作站2之间进行LCD基板G的送入送出的输送装置11，在该载置台9和外部之间进行盒C的输送。输送装置11具有输送臂11a，能够在沿着盒C排列方向即Y方向设置的输送路径10上进行移动，通过输送臂11a在盒C和处理工作站2之间进行LCD基板G的送入送出。
处理工作站2具有基本上向X方向延伸的两条平行的LCD基板G输送用的输送线路A、B，沿着输送线路A从盒工作站1侧朝向接口工作站3排列有擦洗单元(SCR)21、第1热处理单元部26、抗蚀剂涂敷单元23、第2热处理单元部27。
而沿着输送线路B从接口工作站3侧朝向盒工作站1排列有第2热处理单元部27、显影单元(DEV)24、i射线UV照射单元(i-UV)25、第3热处理单元部28。在擦洗单元21的上方的局部部位设置有准分子UV照射单元(e-UV)22。准分子UV照射单元22是为了在进行擦洗之前先将LCD基板G的有机物去除而设置的，i射线UV照射单元25是为了进行显影的脱色处理而设置的。
在擦洗单元21中，能够边大致呈水平姿势输送LCD基板G边进行清洗处理和干燥处理。在显影单元24中，能够边大致呈水平姿势输送LCD基板G边依次进行显影液涂敷、漂洗、干燥处理。在上述擦洗单元21和显影单元24中，LCD基板G的输送例如是以滚子输送或带输送等方式进行，LCD基板G的送入口和送出口设置在相向的短边上。此外，LCD基板G向i射线UV照射单元25的输送，是借助与显影单元24的输送机构同样的机构连续进行的。
抗蚀剂涂敷单元23如后面所详细说明的那样，具有：边大致呈水平姿势输送LCD基板G边供给抗蚀剂液而形成涂敷膜的抗蚀剂涂敷装置(CT)23a；使LCD基板G处于减压气氛下，从而使LCD基板G上形成的涂敷膜中所含有的挥发成分蒸发而使涂敷膜干燥的减压干燥装置(VD)23b。
第1热处理单元部26具有由对LCD基板G实施热处理的热处理单元层叠而成的两个热处理单元模块(TB)31、32，热处理单元模块31设置在擦洗单元21侧，热处理单元模块32设置在抗蚀剂涂敷单元23侧。这两个热处理单元模块31、32之间设置有第1输送装置33。
如图3的第1热处理单元部26的侧视图所示，热处理单元模块31由进行LCD基板G的交接的传递单元(PASS)61、对LCD基板G进行脱水烘焙处理的两个脱水烘焙单元(DHP)62、63、以及、对LCD基板G实施疏水化处理的粘附性处理单元(AD)64自下而上顺序层叠4层而构成。而热处理单元模块32，由进行LCD基板G的交接的传递单元(PASS)65、对LCD基板G进行冷却的两个冷却单元(COL)66、67、以及、对LCD基板G实施疏水化处理的粘附性处理单元(AD)68自下而上顺序层叠4层而构成。
第1输送装置33的作用是，经由传递单元61从擦洗单元21接受LCD基板G，在上述热处理单元之间进行LCD基板G的送入送出，经由传递单元65向抗蚀剂涂敷单元23交接LCD基板G。
第1输送装置33具有上下延伸的导轨91、沿着导轨91升降的升降部件92、以能够在升降部件92上旋转的方式设置的基底部件93、以能够在基底部件93上前进后退的方式设置并对LCD基板G进行保持的基板保持臂94。升降部件92的升降通过马达95的驱动进行，基底部件93的旋转通过马达96的驱动进行，基板保持臂94的前后动作通过马达97的驱动进行。如上所述，第1输送装置33能够上下移动、前后移动和旋转动作，因而对热处理单元模块31、32的任何单元均能够进行访问。
第2热处理单元部27具有由对LCD基板G实施热处理的热处理单元层叠而成的两个热处理单元模块(TB)34、35，热处理单元模块34设置在抗蚀剂涂敷单元23侧，热处理单元模块35设置在显影单元24侧。此外，这两个热处理单元模块34、35之间设置有第2输送装置36。
如图4的第2热处理单元部27的侧视图所示，热处理单元模块34由进行LCD基板G的交接的传递单元(PASS)69、以及、对LCD基板G进行预烘焙处理的3个预烘焙单元(PREBAKE)70、71、72自下而上顺序层叠4层而构成。而热处理单元模块35，由进行LCD基板G的交接的传递单元(PASS)73、对LCD基板G进行冷却的冷却单元(COL)74、以及、对LCD基板G进行预烘焙处理的两个预烘焙单元(PREBAKE)75、76自下而上顺序层叠4层而构成。
第2输送装置36的作用是，经由传递单元69从抗蚀剂涂敷单元23接受LCD基板G，在上述热处理单元之间进行LCD基板G的送入送出，经由传递单元73向显影单元24交接LCD基板G，与后述的作为接口工作站3的基板交接部的附设冷却工作台(EXT·COL)44之间进行LCD基板G的交接及接受。第2输送装置36具有与第1输送装置33相同的构造，对热处理单元模块34、35的任何单元均能够进行访问。
第3热处理单元部28具有由对LCD基板G实施热处理的热处理单元层叠而成的两个热处理单元模块(TB)37、38，热处理单元模块37设置在显影单元24侧，热处理单元模块38设置在盒工作站1侧。此外，这两个热处理单元模块37、38之间设置有第3输送装置39。
如图5的第3热处理单元部28的侧视图所示，热处理单元模块37由进行LCD基板G的交接的传递单元(PASS)77、以及、对LCD基板G进行后烘焙处理的3个后烘焙单元(POBAKE)78、79、80自下而上顺序层叠4层而构成。而热处理单元模块38，由对LCD基板G进行后烘焙处理的后烘焙单元(POBAKE)81、进行LCD基板G的交接以及冷却的传递/冷却单元(PASS/COL)82、以及、两个后烘焙单元(POBAKE)83、84自下而上顺序层叠4层而构成。
第3输送装置39的作用是，经由传递单元77从i射线UV照射单元25接受LCD基板G，在上述热处理单元之间进行LCD基板G的送入送出，经由传递/冷却单元82向盒工作站1交接LCD基板G。第3输送装置39也具有与第1输送装置33相同的结构，对热处理单元模块37、38的任何单元均能够进行访问。
在处理工作站2中，按照如上所述构成两条输送线路A、B的要求并基本上按照进行处理的顺序设置了各个处理单元和输送装置，并在该输送线路A、B之间设置了空间40。此外，设置有能够在该空间40中往复移动的往复输送装置(基板载置部件)41。该往复输送装置41以能够对LCD基板G进行保持的方式构成，通过往复输送装置41在输送线路A、B之间进行LCD基板G的交接。LCD基板G向往复输送装置41的交接，是通过上述第1至第3输送装置33、36、39进行的。
接口工作站3具有在处理工作站2与曝光装置4之间进行LCD基板G的送入送出的输送装置42、放置缓冲盒的缓冲工作台(BUF)43、以及、作为具有冷却功能的基板交接部的附设冷却工作台44，由标题编写器(TITLER)和周边曝光装置(EE)上下层叠而成的外部装置模块45与输送装置42相邻地设置。输送装置42具有输送臂42a，通过该输送臂42a在处理工作站2和曝光装置4之间进行LCD基板G的送入送出。
在如上构成的抗蚀剂涂敷/显影处理系统100中，首先，将放置在盒工作站1的载置台9上的盒C内的LCD基板G，通过输送装置11直接送入处理工作站2的准分子UV照射单元22中进行擦洗前处理。接着，通过输送装置11将LCD基板G送入擦洗单元21中进行擦洗。进行擦洗处理后，将LCD基板G例如通过滚子输送方式送出到属于第1热处理单元部26的热处理单元模块31的传递单元61中。
对于配置在传递单元61中的LCD基板G，首先，将其输送到热处理单元模块31的脱水烘焙单元62、63之某一方中进行加热处理，接着，在输送到热处理单元模块32的冷却单元66、67之某一方中进行冷却之后，为了提高抗蚀剂的附着性，输送到热处理单元模块31的粘附性处理单元64和热处理单元模块32的粘附性处理单元68之某一方中，在这里通过HMDS进行粘附性处理(疏水化处理)。之后，将LCD基板G输送到冷却单元66、67之某一方中进行冷却，再输送到热处理单元模块32的传递单元65中。在进行上述一系列处理的过程中，LCD基板G的输送处理均通过第1输送装置33进行。
对于配置在传递单元65中的LCD基板G，通过后述的第1基板输送臂19a将其送入抗蚀剂涂敷单元23内。如后面将详细说明的那样，在抗蚀剂涂敷装置23a中，边呈水平姿势输送LCD基板G边供给抗蚀剂液而形成涂敷膜，之后，通过减压干燥装置23b对涂敷膜实施减压干燥处理。此后，通过后述的第2基板输送臂19b，将LCD基板G从抗蚀剂涂敷单元23交接到属于第2热处理单元部27的热处理单元模块34的传递单元69中。
对于配置在传递单元69中的LCD基板G，通过第2输送装置36将其输送到热处理单元模块34的预烘焙单元70、71、72和热处理单元模块35的预烘焙单元75、76之某一方中进行预烘焙处理，然后输送到热处理单元模块35的冷却单元74中冷却到既定温度。之后，通过第2输送装置36再输送到热处理单元模块35的传递单元73中。
之后，将LCD基板G通过第2输送装置36输送到接口工作站3的附设冷却工作台44中，根据需要，通过接口工作站3的输送装置42输送到外部装置模块45的周边曝光装置(EE)中，在这里进行旨在将抗蚀剂膜的外周部(不需要部分)去除的曝光。接着，将LCD基板G通过输送装置42输送到曝光装置4中，在这里对LCD基板G上的抗蚀剂膜以既定图案实施曝光处理。对于LCD基板G，有时要将其暂时存放在缓冲工作台43上的缓冲盒中后再输送到曝光装置4中。
曝光结束后，在将LCD基板G通过接口工作站3的输送装置42送入外部装置模块45的上层的标题编写器(TITLER)中而在LCD基板G上记录既定的信息之后，载置到附设冷却工作台44上。将LCD基板G通过第2输送装置36从附设冷却工作台44输送到属于第2热处理单元部27的热处理单元模块35的传递单元73中。
LCD基板G的从传递单元73向显影单元24的输送，是通过从传递单元73延伸至显影单元24的例如滚子输送机构实现的。在显影单元24中，例如边呈水平姿势输送基板边将显影液洒到LCD基板G上，之后，暂时停止LCD基板G的输送并使LCD基板倾斜既定角度而使LCD基板上的显影液流下去，再在该状态下向LCD基板G供给漂洗液将显影液冲刷掉。之后，使LCD基板G回到水平姿势，再次开始进行输送，将干燥用氮气或空气吹到LCD基板G上使LCD基板G变得干燥。
在显影处理结束后，将LCD基板G通过从显影单元24中延续出来的输送机构例如滚子输送机构输送到i射线UV照射单元25中，对LCD基板G实施脱色处理。之后，将LCD基板G通过i射线UV照射单元25内的滚子输送机构送出到属于第3热处理单元部28的热处理单元模块37的传递单元77中。
对于配置在传递单元77中的LCD基板G，通过第3输送装置39将其输送到热处理单元模块37的后烘焙单元78、79、80和热处理单元模块38的后烘焙单元81、83、84之某一方中进行后烘焙处理，之后输送到热处理单元模块38的传递/冷却单元82中冷却到既定温度后，通过盒工作站1的输送装置11放入位于盒工作站1上的既定的盒C中。
下面，对抗蚀剂涂敷单元23进行详细说明。
图6是抗蚀剂涂敷单元23的概略俯视图。抗蚀剂涂敷单元23具有抗蚀剂涂敷装置(CT)23a和减压干燥装置(VD)23b。
抗蚀剂涂敷装置23a具有：具有用来将LCD基板G上浮着输送的工作台200的工作台装置12；在工作台装置12上将LCD基板G向X方向输送的基板输送机构13；向在工作台200上被上浮着输送的LCD基板G的表面供给抗蚀剂液的抗蚀剂供给喷嘴14；用来对抗蚀剂供给喷嘴14进行清洗等的喷嘴清洗单元15。此外，为了从设置在热处理单元模块32中的传递单元65向抗蚀剂涂敷装置23a输送LCD基板G，第1基板输送臂19a可在传递单元65和抗蚀剂涂敷单元23之间自由往复移动。该第1基板输送臂19a不仅能够在X方向上移动，而且还能够在Y方向和Z方向(铅直方向)上移动。
此外，减压干燥装置23b具有用来载置LCD基板G的载置台17、以及、容纳载置台17和载置在载置台17上的LCD基板G的腔室18。为了从抗蚀剂涂敷装置23a经由减压干燥装置23b向设置在热处理单元模块34中的传递单元69输送LCD基板G，第2基板输送臂19b可在抗蚀剂涂敷单元23和传递单元69之间往复移动。第2基板输送臂19b同样不仅能够在X方向上移动，而且还能够在Y方向和Z方向上移动。
工作台装置12从LCD基板G的输送方向的上游朝向下游大体上分为导入部12a、涂敷部12b和输出部12c。导入部12a是用来从热处理单元模块32的传递单元65向涂敷工作台部12b输送LCD基板G的区域。涂敷部12b中设置有抗蚀剂喷嘴14，在这里向LCD基板G供给抗蚀剂液以形成涂敷膜。输出部12c是用来将已形成涂敷膜的LCD基板G输出到减压干燥装置23b中的区域。
如图6所示，工作台装置12的工作台200具有在X方向上排列的3台小工作台201、202、203，它们分别设置在导入部12a、涂敷部12b和输出部12c中。
在工作台200上，设置有用来将既定的气体(例如空气或氮气)向上方(Z方向)喷射的多个气体喷射口16a、以及、用来进行吸气的多个吸气口16b。
工作台200之中的、分别设置在导入部12a和输出部12c中的小工作台201和203具有这样的结构，即，上述多个气体喷射口16a和多个吸气口16b各自设置成在X方向和Y方向上以一定间隔在直线上排列，并且二者交替着设置，通过使从气体喷射口16a喷射的气体的喷射量与从吸气口16b吸气的吸气量达到平衡(即，使压力负荷一定)，使得LCD基板G从小工作台201、203的表面上浮一定高度。通过以基板输送机构13对这样上浮的LCD基板G的Y方向端部进行保持并向X方向移动，便能够进行LCD基板G的输送。
在导入部12a中抗蚀剂膜尚未形成，而被送入到输出部12c中的LCD基板G的抗蚀剂膜的干燥业已达到了某种程度，因而均不会产生转印痕迹，因此，在导入部12a和输出部12c中，不必考虑抗蚀剂膜上产生转印痕迹的问题。在图6中，为了清楚了解气体喷射口16a和吸气口16b的布置状况，将气体喷射口16a用白色圆点表示，吸气口16b用黑色圆点表示，而且为了清楚表示其布置状况，只展示了一部分。
工作台200之中的、设置在涂敷部12b中的小工作台202上所设置的气体喷射口16a和吸气口16b如图7的放大俯视图所示，各自设置成，在基板输送方向即X方向上的一定距离L内，在X方向上排列不成直线。通过这样构成，无论LCD基板G的哪一部分，从气体喷射口16a(或吸气口16b)上通过的频率均大体上均匀，由此可抑制条纹状转印痕迹的产生。
更具体地说，优选地，在气体喷射口16a的相邻间隔为1cm～5cm，吸气口16b的相邻间隔为1cm～5cm时，优选将气体喷射口16a和吸气口16b各自不与基板输送方向相平行地成直线排列的距离L设为0.2m以上。气体喷射口16a之间以及吸气口16b之间的相邻间隔虽然也可以不足1cm，但存在着导致加工成本增加的问题，此外，在1cm以上时可充分保证LCD基板G的上浮精度，但若超过5cm将导致LCD基板G的平坦性降低。此外，如图7所示，在与X方向错开角度θ的方向上成直线设置气体喷射口16a和吸气口16b的情况下，该角度θ优选地在15度以上90度以下。角度θ为15度时，尽管会产生轻微的条纹状转印痕迹，但作为产品尚在允许的范围内。
如图8所示，在工作台200的下方设置有上浮机构300。上浮机构300具有：各与设置在工作台200上的既定数量的气体喷射口16a连通的支管211；以使多个支管211彼此连通的方式安装的歧管212；通过送风管213安装在歧管212上的、具有气体喷射机构的功能的送风装置214；各与设置在工作台200上的既定数量的吸气口16b连通的支管215；以使多个支管215彼此连通的方式安装的歧管216；通过主吸气管217安装在歧管216上的减压装置218；对送风装置214的送风量以及减压装置218的吸引量进行控制、对从气体喷射口16a喷射的气体喷射压力以及吸气口16b处的吸气压力进行控制的控制器219。通过以该控制器219对从气体喷射口16a喷射的气体喷射压力以及吸气口16b处的吸引压力进行控制，而对基板G的上浮高度和上浮姿势进行控制，使基板处于既定的高度且呈水平姿势。作为送风装置214，可使用鼓风机或气瓶或工厂气体配管设备等，作为减压装置218，可使用吸气机或真空泵等。
在设置在导入部12a的小工作台201上，设置有对由第1基板输送臂19a输送到导入部12a中的LCD基板G进行支承并可使之下落到小工作台201上的升降销47a。此外，在设置在输出部12c的小工作台203上，设置有用于将输送到输出部12c的LCD基板G抬起并交接给第2基板输送臂19b的升降销47b。
基板输送机构13具有：在工作台200的侧面以在X方向上延伸的状态设置的直线引导器52a、52b；与直线引导器52a、52b相嵌合的滑动器50；用来驱动滑动器50在X方向上往复移动的带驱动机构或气动滑动器等X轴驱动机构(未图示)；为了对LCD基板G的Y方向端部的局部进行吸附保持而设置在滑动器50上的吸盘等基板保持部件(未图示)。例如，该吸盘在LCD基板G的未涂敷抗蚀剂液部分的背面侧的Y方向端部附近对LCD基板G进行吸附保持。
抗蚀剂喷嘴14具有在一方向上较长的长条形状，喷出Y方向上较长的大致呈带状的抗蚀剂液。喷嘴移动机构20具有：对该抗蚀剂喷嘴14以使其长度方向与Y方向一致的状态进行保持，使抗蚀剂喷嘴14在Z方向上升降的升降机构30；对升降机构30进行保持的支柱部件54；用来驱动支柱部件54在X方向上移动的滚珠丝杠等水平驱动机构56。借助这样的喷嘴移动机构20，可使得抗蚀剂喷嘴14在向LCD基板G供给抗蚀剂液的位置、以及、在喷嘴清洗单元15中进行清洗处理等的各位置之间进行移动。
喷嘴清洗单元15安装在支柱部件55上，并设置在小工作台202的上方。喷嘴清洗单元15具有：在向LCD基板G供给抗蚀剂液之前预先使抗蚀剂液从抗蚀剂喷嘴14中喷出的、进行所谓伪分配的伪分配部57；为避免抗蚀剂喷嘴14的抗蚀剂喷口干燥而使抗蚀剂喷口保持在溶剂(例如稀释剂)蒸汽氛围中的喷嘴浴58；用来将附着在抗蚀剂喷嘴14的抗蚀剂喷口附近的抗蚀剂去除的喷嘴清洗机构59。
在设置在减压干燥装置23b中的载置台17的表面上，对LCD基板G进行支承的邻近销(未图示)设置在既定位置上。腔室18具有由固定的下部容器和可自由升降的上部盖体构成的上下二分割结构。
下面，就如上构成的抗蚀剂涂敷单元23中LCD基板G的处理工序进行说明。
首先，使滑动器50待机在导入部12a的既定位置上(例如热处理单元模块32侧)，工作台200中使各部分处于可使LCD基板G上浮到既定高度的状态。接着，从设置在热处理单元模块32中的传递单元65将LCD基板G保持在第1基板输送臂19a上，送入导入部12a中。之后，使升降销47a上升，将LCD基板G从第1基板输送臂19a交接到升降销47a上之后，使升降销47a下降，交接到滑动器50上。由此，LCD基板G将在小工作台201上大致呈水平姿势保持上浮。
之后，若使滑动器50向输出部12c侧以既定速度滑动，则在涂敷部12b中，在小工作台202上呈上浮状态输送的LCD基板G从抗蚀剂喷嘴14的下方通过时，从抗蚀剂喷嘴14将抗蚀剂液供给到LCD基板G的表面，从而形成涂敷膜。至于抗蚀剂喷嘴14的设置高度，由于通常多个LCD基板G的输送状态实质上是相同的，因而利用第1个被处理LCD基板G或伪基板对抗蚀剂喷嘴14的高度进行调节后，将其位置储存在升降机构30的控制装置中即可。此外，关于从抗蚀剂喷嘴14中抗蚀剂液的喷出开始/喷出结束的时机，可以设置对LCD基板G的位置进行检测的传感器，依据来自该传感器的信号确定。
将已形成涂敷膜的LCD基板G输送到输出部12c中，在这里解除滑动器50对其进行的保持，使升降销47b上升。接着，使第2基板输送臂19b访问被升降销47b抬起的LCD基板G，在第2基板输送臂19b在LCD基板G的Y方向端部对LCD基板G进行把持后，使升降销47b下降。
第2基板输送臂19b将把持着的LCD基板G放置在减压干燥装置23b的载置台17上。之后，将腔室18密闭起来对其内部进行减压，从而对涂敷膜进行减压干燥。另一方面，已将LCD基板G交接给升降销47b的滑动器50返回到热处理单元模块32侧，以便输送下一个要处理的LCD基板G。
在LCD基板G在减压干燥装置23b中的处理结束后，将腔室18打开，使第2基板输送臂19b访问放置在载置台17上的LCD基板G，对LCD基板G进行把持，将LCD基板G向热处理单元模块34的传递单元69中输送。
之后，如上所述地重复LCD基板G的输送从而在LCD基板G上形成涂敷膜，在此期间，作为抗蚀剂喷嘴14的清洗处理，例如将伪分配部57中进行的伪分配、LCD基板G上抗蚀剂膜的形成、以喷嘴清洗机构59对抗蚀剂喷嘴14进行的清洗处理、以喷嘴浴58避免抗蚀剂喷口干燥等作为一套工艺而适当进行。
下面，就设置在涂敷部12b中的小工作台的另一个例子进行说明。
图9所示的小工作台202a和图10所示的小工作台202b均具有这样的结构，即，在图6和图7所示的小工作台202的表面，还形成有旨在将从气体喷射口16a喷射的气体向小工作台202的侧面排放的直线形状的槽部16c。在气体喷射口16a和吸气口16b向与X方向错开角度θ的方向延伸而成直线设置的场合，既可以将该槽部16c如图9所示设置成向角度θ方向延伸，也可以如图10所示设置成向与角度θ方向相垂直的方向延伸。
图11所示的小工作台202c，是图9所示小工作台202a的、不具有吸气口16b的变形方案，同样地，图12所示的小工作台202d，是图10所示小工作台202b的、不具有吸气口16b的变形方案。对于图9、图10所示的小工作台202a、202b来说，从形成于小工作台202a、202b与LCD基板G之间的空间排放的气体量，是以从吸气口16b吸气的吸气量和从槽部16c向小工作台202a、202b的侧面排放的气体量的总和进行调整的，而对于图11、图12所示的小工作台202c、202d来说，从形成于小工作台202c、202d与LCD基板G之间的空间将气体排放的气体量，是以从槽部16c向小工作台202c、202d的侧面排放的气体量进行调整的。
图13所示小工作台202e是图9所示小工作台202a的变形例，抗蚀剂喷嘴14的设置位置的基板输送方向前方侧具有与小工作台202a相同的结构，而抗蚀剂喷嘴14的设置位置的基板输送方向上游侧，具有气体喷射口16a、吸气口16b、槽部16c在与基板输送方向相平行的方向上成直线排列的结构。
之所以这样设计是因为，抗蚀剂膜上产生转印痕迹的一个很重要的原因是，在抗蚀剂液涂敷后、抗蚀剂液干燥前的旨在使LCD基板G上浮的气流会导致LCD基板G上的温度分布不均，因而对于涂敷抗蚀剂液之前的部分来说，即使如图所示设置气体喷射口16a等，也不会在抗蚀剂膜上产生转印痕迹。这种小工作台202e的结构也适用于上述小工作台202、202b～202d。
图14A、14B是对另一种小工作台进行展示的概略俯视图和概略侧视图。该小工作台205具有这样的结构：在气体喷射孔221形成于既定位置的基台220上，设置由具有气体喷射口16a的多孔性材料制成的块材(块)222，使得块材222上所形成的气体喷射口16a和基台220上所形成的气体喷射孔221连通，并且在块材222之间形成槽部16c。
由于使用上述由多孔性材料制成的块材222，不仅从气体喷射口16a而且从其周围喷射气体，因此，能够避免LCD基板G因气体喷射压力的作用而发生局部挠曲，可提高整个LCD基板G的水平度。气体喷射口16a虽然与Y方向相平行地成直线设置，但又是与相对于X方向错开角度θ的方向相平行地成直线设置的，因此，能够与小工作台202等同样地抑制抗蚀剂膜上转印痕迹的产生。
图15A、15B是又一种小工作台的概略俯视图和侧视图。该小工作台206具有这样的结构：具有气体喷射孔231和吸气孔232形成于既定位置上的基台230、由具有气体喷射口16a的多孔性材料制成的第1块材233、以及、由具有吸气口16b的多孔性材料制成的第2块材234，第1块材233和第2块材234这样设置在基台230上，即，使得第1块材233上所形成的气体喷射口16a与基台230上所形成的气体喷射孔231连通，第2块材234上所形成的吸气口16b与基台230上所形成的吸气孔232连通。
小工作台206也与小工作台205同样，由于使用由多孔性材料制成的第1、第2块材233、234，因而能够抑制LCD基板G因气体喷射压力和气体吸引压力的作用而发生局部挠曲，提高整个LCD基板G的水平度，而且，能够抑制抗蚀剂膜上转印痕迹的产生。小工作台206的给排气量是通过基台230进行调整的，因而第1块材233和第2块材234只是其功能不同，而作为结构体是相同的。
上述小工作台205、206，也可以以与从小工作台202a到小工作台202e的变形方案同样的方案变形。此外，小工作台205、206上所形成的槽部16c的延伸方向也可以与图10、图12所示的小工作台202b、202d一致。
图7～图15B展示了涂敷部12b的小工作台的各种方案，而对于输出部12c来说，由于LCD基板G的抗蚀剂膜尚未完全干燥，因而毋庸置疑，也可以将输出部12c的小工作台设计成与涂敷部12b的小工作台相连续的方案，这样一来，可进一步减小产生条纹状转印痕迹的可能性。此外，对于小工作台201、203来说，不必像小工作台202那样使LCD基板G的上浮精度维持很高的水平，因而也可以不设置吸气口16b。不设置吸气口16b将使装置的构造简化，使装置成本降低，而且还能够提高装置的可靠性。例如，吸气系统发生故障时LCD基板G的上浮精度将极度变差，而不设置吸气系统可避免这种故障的发生。
本发明并不受上述实施方式的限定而可以进行各种变形。例如，在上述实施方式中，涂敷部12b的小工作台的气体喷射口16a和吸气口16b不是在基板输送方向上成直线排列着设置的，导入部12a和输出部12c也可以同样构成。此外，在上述实施方式中，作为涂敷膜是以涂敷抗蚀剂膜为例进行说明的，但涂敷膜并不限于此，也可以是防反射膜或不具有感光性的绝缘膜等其他的膜。
产业上的可利用性
本发明适用于在LCD玻璃基板等大型基板上形成抗蚀剂膜等涂敷膜的抗蚀剂膜形成装置等。

Claims (10)

1.一种工作台装置，具有在上方进行基板的输送的工作台、以及使基板在该工作台上上浮的上浮机构，其特征在于，
所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及对从所述气体喷射口喷射的气体进行吸引的多个吸气口，
所述多个气体喷射口和所述多个吸气口各自设置成，在沿着基板输送方向的既定距离内以与基板输送方向错开15度以上～90度以下的角度排列，
所述气体喷射口的相邻间隔为1cm～5cm，所述吸气口的相邻间隔为1cm～5cm。
2.如权利要求1所述的工作台装置，其特征在于，所述多个气体喷射口和所述多个吸气口各自以与基板输送方向错开15度以上～90度以下的角度排列的距离在0.2m以上。
3.如权利要求1所述的工作台装置，其特征在于，
所述工作台具备：
在既定位置上形成有气体喷射孔和吸气孔的基台、
由具有所述气体喷射口的多孔性材料制成的第1块材、以及
由具有所述吸气口的多孔性材料制成的第2块材；
所述第1、第2块材这样设置在所述基台上，即，使得所述第1块材上所形成的气体喷射口与所述基台上所形成的气体喷射孔连通、所述第2块材上所形成的吸气口与所述基台上所形成的吸气孔连通。
4.如权利要求1所述的工作台装置，其特征在于，
所述工作台的表面上还具有用来将从所述气体喷射口喷射的气体向所述工作台的侧面排放的直线状形成的槽部，
所述槽部的长度方向为所述多个气体喷射口和所述多个吸气口排列的方向或者与该方向垂直的方向。
5.如权利要求4所述的工作台装置，其特征在于，
所述工作台具备：
在既定位置上形成有气体喷射孔和吸气孔的基台、
由具有所述气体喷射口的多孔性材料制成的第1块材、以及
由具有所述吸气口的多孔性材料制成的第2块材；
所述第1、第2块材这样设置在所述基台上，即，使得所述第1块材上所形成的气体喷射口与所述基台上所形成的气体喷射孔连通、所述第2块材上所形成的吸气口与所述基台上所形成的吸气孔连通、在所述第1、第2块材之间形成所述槽部。
6.一种工作台装置，具有在上方进行基板的输送的工作台、以及使基板在该工作台上上浮的上浮机构，其特征在于，
所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及将从所述气体喷射口喷射的气体向所述工作台的侧面排放的直线形状的槽部，
所述多个气体喷射口以与基板输送方向错开15度以上～90度以下的角度排列，
并且，所述槽部的长度方向为所述多个气体喷射口排列的方向或者与该方向垂直的方向，
所述气体喷射口的相邻间隔为1cm～5cm。
7.如权利要求6所述的工作台装置，其特征在于，所述多个气体喷射口不与基板输送方向相平行地成直线排列的距离在0.2m以上。
8.如权利要求6所述的工作台装置，其特征在于，
所述工作台具备：
在既定位置上形成有气体喷射孔的基台、以及
由具有所述气体喷射口的多孔性材料制成的块材；
所述块材这样设置在所述基台上，即，使得所述块材上所形成的气体喷射口与所述基台上所形成的气体喷射孔连通、在所述块材之间形成所述槽部。
9.一种涂敷处理装置，边输送基板边在该基板上涂敷涂敷液而形成涂敷膜，其特征在于，
具有：
具有在上方进行基板的输送的工作台以及使基板在该工作台上上浮的上浮机构的工作台装置，
对在所述工作台上上浮的基板进行输送的基板输送机构，以及
在由所述基板输送机构在所述工作台上输送的基板的表面涂敷涂敷液的涂敷机构；
所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及对从所述气体喷射口喷射的气体进行吸引的多个吸气口，
所述多个气体喷射口和所述多个吸气口各自设置成，在沿着基板输送方向的既定距离内以与基板输送方向错开15度以上～90度以下的角度排列，
所述气体喷射口的相邻间隔为1cm～5cm，所述吸气口的相邻间隔为1cm～5cm。
10.一种涂敷处理装置，边输送基板边在该基板上涂敷涂敷液而形成涂敷膜，其特征在于，
具有：
具有在上方进行基板的输送的工作台以及使基板在该工作台上上浮的上浮机构的工作台装置，
对在所述工作台上上浮的基板进行输送的基板输送机构，以及
在由所述基板输送机构在所述工作台上输送的基板的表面涂敷涂敷液的涂敷机构；
所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及将从所述气体喷射口喷射的气体向所述工作台的侧面排放的直线形状的槽部，
所述多个气体喷射口设置成以与基板输送方向错开15度以上～90度以下的角度排列，
并且，所述槽部的长度方向为所述多个气体喷射口的排列方向或者与该方向垂直的方向，
所述气体喷射口的相邻间隔为1cm～5cm。
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