WO2018042808A1 - レーザ照射装置 - Google Patents

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hole
pedestal
porous plate
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祐輝 鈴木
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株式会社日本製鋼所
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    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment

Definitions

  • the present invention relates to a laser irradiation apparatus, for example, a laser irradiation apparatus that irradiates a laser beam while levitating and conveying a plate-like workpiece.
  • Patent Documents 1 and 2 disclose a technique for floating a plate-like workpiece by ejecting gas upward from a horizontally placed porous plate.
  • the porous plate is bonded to the base with an adhesive.
  • JP 2008-110852 A Japanese Patent No. 5512052
  • each of the first and second levitation units includes a pedestal and a porous plate bonded to the upper surface of the pedestal with an adhesive layer, and the pedestal includes at least a gap.
  • the outer peripheral edge facing the top has a rising part protruding upward
  • the porous plate has a notch part that fits into the rising part
  • the adhesive layer has an inner wall of the rising part that fits into the notch part It is formed along.
  • gas is sucked through the plurality of first through holes formed in the porous plate and the plurality of second through holes formed in the metal intermediate plate.
  • the diameter of the plurality of first through holes is larger than the diameter of the plurality of second through holes.
  • the one embodiment for example, it is suitable for a laser annealing apparatus or the like, and a high-quality laser irradiation apparatus can be provided.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a laser irradiation apparatus according to Embodiment 1.
  • FIG. 4 is a plan view showing a positional relationship between the floating units 30a and 30b and the plate-like workpiece 100.
  • FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of a levitation unit according to Comparative Example 1 of Embodiment 1, corresponding to the VV cross-sectional view of FIG.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of a levitation unit according to Comparative Example 2 of Embodiment 1, corresponding to the VV cross-sectional view of FIG.
  • FIG. 5 is a VV cross-sectional view of FIG. 2.
  • 3 is a plan view showing an adhesive layer 34 formed on a pedestal 31.
  • FIG. 6 is an enlarged view of a portion surrounded by an alternate long and short dash line in FIG. 5. It is sectional drawing of the levitation
  • 3 is a plan view showing an adhesive layer 34 formed on a pedestal 31.
  • FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of a levitation unit according to a comparative example of Embodiment 2, corresponding to the VV cross-sectional view of FIG. 6 is a perspective view of a levitation unit according to Embodiment 2.
  • FIG. 6 is an exploded perspective view of a levitation unit according to Embodiment 2.
  • FIG. 6 is an exploded perspective view of a levitation unit according to Embodiment 2.
  • FIG. 14 is a sectional view taken along line XIV-XIV in FIG. 11.
  • 3 is a plan view showing adhesive layers 34a and 34d formed on a base 31.
  • FIG. It is an enlarged view of the junction part of short porous board 32a, 32b.
  • 3 is a cross-sectional view schematically showing a suction path (a through hole 323 of a porous plate 32 and a through hole 333 of an intermediate plate 33), a decompression chamber 36, and a decompression through hole 313.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of the laser irradiation apparatus according to the first embodiment.
  • the laser irradiation apparatus according to Embodiment 1 is suitable for an excimer laser annealing apparatus that irradiates an amorphous silicon film formed on a glass substrate with a laser beam to be polycrystallized.
  • the laser irradiation apparatus according to Embodiment 1 can be applied to a laser peeling apparatus that peels the peeling layer by irradiating the peeling layer formed on the glass substrate with a laser beam from the substrate side.
  • the laser irradiation apparatus 1 includes a laser irradiation unit 10, a local seal unit 20, and levitation units 30a and 30b.
  • the laser irradiation apparatus 1 according to Embodiment 1 irradiates a laser beam LB while levitating and conveying a plate-like workpiece 100 such as a glass substrate.
  • the right-handed xyz coordinates shown in FIG. 1 are convenient for explaining the positional relationship between the components.
  • the xy plane is a horizontal plane, and the z-axis plus direction is vertically upward.
  • the laser irradiation unit 10 includes a laser oscillator 11 and an optical system module 12.
  • the laser oscillator 11 is a laser light source, and is an ultraviolet laser oscillator such as an excimer laser or a solid-state laser. Laser light generated in the laser oscillator 11 is introduced into an optical system module 12 composed of lenses and mirrors.
  • the laser beam LB emitted from the optical system module 12 is condensed on the plate-like workpiece 100 that is being levitated and conveyed. As will be described later with reference to FIG. 2, the laser beam LB is a line beam whose longitudinal direction is the y-axis direction on the plate-like workpiece 100.
  • the local seal portion 20 is provided on the lower side of the optical system module 12 so as to surround the laser beam LB.
  • An inert gas such as nitrogen gas is injected from the local seal portion 20 toward the irradiation region of the laser beam LB on the plate-like workpiece 100. Therefore, for example, oxidation of the silicon film annealed by the laser beam LB on the plate-like workpiece 100 can be suppressed.
  • sticker part 20 is not essential.
  • the levitation units 30a and 30b are plate-like members installed horizontally, and jet the gas upward from the upper surface to float the plate-like workpiece 100 horizontally.
  • the plate workpiece 100 is levitated about 200 ⁇ m.
  • the levitation units 30a and 30b are arranged side by side in the conveyance direction (x-axis direction) of the plate workpiece 100 at a predetermined interval.
  • the laser beam LB is irradiated in the gap between the levitation unit (for example, the first levitation unit) 30a and the levitation unit (for example, the second levitation unit) 30b.
  • the levitation units 30a and 30b have a pedestal 31 and a porous plate 32, respectively.
  • a porous plate 32 is attached to the upper surface of the plate-shaped pedestal 31.
  • the pedestal 31 is a plate member made of metal such as aluminum or stainless steel.
  • a pressurized gas is introduced into the pedestal 31, and the gas passes through fine pores (that is, pores) inside the porous plate 32 and is injected from the upper surface of the porous plate 32.
  • the porous plate 32 faces the plate-like workpiece 100 when the plate-like workpiece 100 is conveyed.
  • the porous plate 32 is made of, for example, porous ceramics, porous carbon, porous metal, or the like. Carbon may be scraped by contact with the plate-like workpiece 100 during use, or particles may be generated in the irradiation region of the laser beam LB. Also, porous carbon is expensive. For this reason, it is preferable to use inexpensive ceramics that are less prone to scraping and particles.
  • alumina ceramics having a pore diameter of 0.1 to 50 ⁇ m (preferably 1 to 10 ⁇ m) and a porosity of 10 to 60% (preferably 35 to 45%) can be used.
  • FIG. 2 is a plan view showing the positional relationship between the levitation units 30 a and 30 b and the plate-like workpiece 100.
  • the laser beam LB on the plate-like workpiece 100 is indicated by a two-dot chain line. Note that the right-handed xyz coordinates shown in FIG. 2 coincide with those in FIG.
  • the levitation units 30a and 30b each have a rectangular planar shape.
  • the conveyance direction (x-axis direction) of the plate-like workpiece 100 matches the longitudinal direction of the floating units 30a and 30b
  • the y-axis direction matches the width direction of the floating units 30a and 30b. ing.
  • the laser beam LB is a line beam whose longitudinal direction is the y-axis direction, and is applied to the gap between the floating units 30a and 30b.
  • the length of the laser beam LB in the y-axis direction is, for example, about the same as or less than the length of the plate-like workpiece 100 in the y-axis direction (that is, the width of the plate-like workpiece 100).
  • the irradiation position of the laser beam LB is fixed, the plate-like workpiece 100 is conveyed in the x-axis plus direction. Therefore, the entire surface of the plate-like workpiece 100 can be irradiated with the laser beam LB.
  • the entire surface of the plate-shaped workpiece 100 may be irradiated with the laser beam LB by being divided into a plurality of conveyances. . Further, it is not always necessary to irradiate the entire surface of the plate-like workpiece 100 with the laser beam LB.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the levitation unit according to the first comparative example of the first embodiment, corresponding to the VV cross-sectional view of FIG. Note that the right-handed xyz coordinates shown in FIG. 3 coincide with those in FIG.
  • the levitation unit 300b according to the first comparative example of the first embodiment includes a pedestal 310 and a porous plate 320.
  • both the base 310 and the porous plate 320 have a simple plate shape.
  • the porous plate 320 is attached to the upper surface of the plate-like pedestal 310 with an adhesive layer 340 made of a resin adhesive.
  • the adhesive layer 340 is formed in a square ring shape in plan view along the outer peripheral edge of the base 310.
  • a pressurizing chamber 350 that is a space surrounded by the pedestal 310, the porous plate 320, and the adhesive layer 340 is formed.
  • the pedestal 310 is formed with a pressurizing through hole 311 that penetrates the upper surface and the lower surface. Pressurized gas is introduced into the pressurizing chamber 350 through the pressurizing through hole 311, and the gas passes through fine pores inside the porous plate 320 and is injected from the upper surface of the porous plate 320. . Therefore, the plate-like workpiece 100 can be levitated.
  • the adhesive layer 340 is formed along the outer peripheral edge of the pedestal 310. Therefore, the ultraviolet rays generated with the irradiation of the laser beam LB easily reach the adhesive layer 340, and the adhesive layer 340 deteriorates.
  • the adhesive layer 340 is deteriorated, the airtightness of the pressurizing chamber 350 is lowered, and the gas injected from the upper surface of the porous plate 320 is reduced. Therefore, the plate-like workpiece 100 cannot be levitated with high accuracy. Further, when the adhesive layer 340 deteriorates, gas is generated from the resin adhesive itself, which adversely affects the irradiation result of the laser beam LB.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the levitation unit according to Comparative Example 2 of Embodiment 1, and corresponds to the VV cross-sectional view of FIG. Note that the right-handed xyz coordinates shown in FIG. 4 coincide with those in FIG.
  • the pedestal 310 has a simple plate shape, whereas in Comparative Example 2 shown in FIG. 4, the rising portion 312 that protrudes upward is formed on the outer peripheral edge of the pedestal 310. Is formed.
  • the rising portion 312 is formed in a square ring shape in plan view along the outer peripheral edge of the base 310.
  • the porous plate 320 is the same size as the pedestal 310, whereas in the Comparative Example 2 shown in FIG. 4, the porous plate 320 is more than the pedestal 310. It is small and arranged inside the rising portion 312.
  • the adhesive layer 340 is formed along the outer peripheral edge of the pedestal 310, whereas in Comparative Example 2 shown in FIG. 4, the adhesive layer 340 is formed on the rising portion 312. It is formed along the inner wall.
  • the adhesive layer 340 is formed on the inner side along the inner wall of the rising portion 312. Therefore, the ultraviolet rays generated with the irradiation of the laser beam LB are blocked by the rising portion 312 and the deterioration of the adhesive layer 340 can be suppressed as compared with the first comparative example.
  • the ultraviolet rays that have entered from the gap between the rising portion 312 of the pedestal 310 and the porous plate 320 reach the adhesive layer 340 and deteriorate the adhesive layer 340.
  • FIGS. 5 and 6 are cross-sectional views taken along the line VV in FIG.
  • FIG. 6 is a plan view showing the adhesive layer 34 formed on the pedestal 31.
  • FIG. 7 is an enlarged view of a portion surrounded by an alternate long and short dash line in FIG. Note that the right-handed xyz coordinates shown in FIGS. 5 to 7 coincide with those in FIG.
  • the levitation units 30a and 30b have a mirror-symmetrical configuration with respect to the yz plane and are the same, so the configuration of the levitation unit 30b will be described.
  • the levitation unit 30 b according to Embodiment 1 includes a pedestal 31 and a porous plate 32.
  • the pedestal 31 according to the first embodiment is a plate-like member in which a rising portion 312 protruding upward is formed on the outer peripheral edge, like the pedestal 310 according to the comparative example 2 shown in FIG. 4. It is.
  • the rising portion 312 is formed in a square ring shape in plan view along the outer peripheral edge of the base 31.
  • the lower surface of the base 31 is grind
  • the thickness t1 of the pedestal 31 is preferably about 10 mm or more, for example.
  • the porous plate 32 according to the first embodiment is the same size as the pedestal 31 as shown in FIG. Moreover, as shown in FIG. 7, the notch part 321 fitted with the standing part 312 of the base 31 is formed along the outer periphery.
  • the notch 321 is formed in a square ring shape in plan view along the outer peripheral edge of the porous plate 32.
  • the porous plate 32 is attached to the upper surface of the pedestal 31 with an adhesive layer 34 made of a resin adhesive.
  • the adhesive layer 34 is formed along the inner wall of the rising portion 312 of the pedestal 31 fitted to the notch 321 of the porous plate 32.
  • the adhesive layer 34 is formed in a square ring shape in plan view along the inner wall of the rising portion 312 of the base 31.
  • the adhesive layer 34 does not need to be in close contact with the inner wall of the rising portion 312.
  • an epoxy adhesive can be used as the resin adhesive constituting the adhesive layer 34.
  • a pressurizing chamber 35 that is a space surrounded by the pedestal 31, the porous plate 32, and the adhesive layer 34 is formed.
  • the pedestal 31 is formed with a pressurizing through hole 311 passing through the upper surface and the lower surface at the end on the positive side in the x-axis direction.
  • a pressurized gas is introduced into the pressurizing chamber 35 through the pressurizing through hole 311, and the gas passes through fine pores inside the porous plate 32 and is injected from the upper surface of the porous plate 32. . Therefore, the plate-like workpiece 100 can be levitated.
  • a pressurizing device such as a compressor or a blower is connected to the pressurizing through hole 311 via a pipe.
  • the rising portion 312 protruding upward is formed on the outer peripheral edge of the base 31. Further, a notch 321 that fits with the rising portion 312 of the base 31 is formed on the outer peripheral edge of the porous plate 32. An adhesive layer 34 is formed along the inner wall of the rising portion 312 fitted with the notch 321.
  • the notch portion 321 of the porous plate 32 and the rising portion 312 of the base 31 are in close contact with each other, the ultraviolet rays generated by the irradiation of the laser beam LB do not reach the adhesive layer 34. Even if a gap is formed between the notch 321 and the rising portion 312 and ultraviolet rays enter through the gap, the adhesive layer 34 formed on the inside of the rising portion 312 fitted with the notch 321 is not covered. Hard to reach. Therefore, such a configuration can effectively suppress the deterioration of the adhesive layer 34.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of a levitation unit according to a modification of the first embodiment.
  • FIG. 8 corresponds to FIG.
  • FIG. 9 is a plan view showing the adhesive layer 34 formed on the pedestal 31.
  • the pedestal 31 of the levitation unit 30b according to the first embodiment has a rising portion 312 formed on the entire outer periphery.
  • the pedestal 31 of the levitation unit 30 b according to the modification of the first embodiment has the rising portion 312 only on the outer peripheral edge facing the gap irradiated with the laser beam LB. Is formed.
  • a rising portion 312 is not formed on the other outer peripheral edge. That is, as shown in FIG. 9, the rising portion 312 is formed linearly in the y-axis direction along the outer peripheral edge on the minus side in the x-axis direction.
  • the porous plate 32 of the levitation unit 30b is fitted with the rising portion 312 only at the outer peripheral edge facing the gap irradiated with the laser beam LB.
  • a notch 321 is formed.
  • the notch part 321 is not formed in the other outer periphery. That is, the notch 321 is linearly formed in the y-axis direction along the outer peripheral edge on the minus side in the x-axis direction.
  • the porous plate 32 is affixed to the upper surface of the pedestal 31 by an adhesive layer 34 made of a resin adhesive.
  • the adhesive layer 34 is formed on the inner side along the inner wall of the rising portion 312 of the base 31 fitted to the notch 321 of the porous plate 32.
  • the rising portion 312 is not formed on the outer peripheral edge that does not face the gap irradiated with the laser beam LB, and the adhesive layer 34 is formed on the outer peripheral edge. Therefore, the adhesive layer 34 is formed in a quadrangular ring shape in plan view.
  • the rising portion 312 protruding upward is formed on the outer peripheral edge of the base 31 facing the gap irradiated with the laser beam LB. Further, a notch 321 that fits the rising portion 312 is formed on the outer peripheral edge of the porous plate 32 facing the gap irradiated with the laser beam LB. An adhesive layer 34 is formed on the inner side along the inner wall of the rising portion 312 fitted with the notch 321.
  • the notch portion 321 of the porous plate 32 and the rising portion 312 of the base 31 are in close contact with each other, the ultraviolet rays generated by the irradiation of the laser beam LB do not reach the adhesive layer 34. Even if a gap is formed between the notch 321 and the rising portion 312 and ultraviolet rays enter through the gap, the adhesive layer 34 formed on the inside of the rising portion 312 fitted with the notch 321 is not covered. Hard to reach. Therefore, the deterioration of the adhesive layer 34 can be effectively suppressed.
  • the rising portion 312 is not formed on the outer peripheral edge that does not face the gap irradiated with the laser beam LB, and the adhesive layer 34 is formed on the outer peripheral edge. Is formed. However, since it does not face the gap irradiated with the laser beam LB, even if the adhesive layer 34 is formed on the outer peripheral edge, the ultraviolet ray hardly reaches the adhesive layer 34.
  • Embodiment 2 Next, a laser irradiation apparatus according to Embodiment 2 will be described.
  • the overall configuration of the laser irradiation apparatus according to Embodiment 2 is the same as the overall configuration of the laser irradiation apparatus according to Embodiment 1 shown in FIG. 1 and FIG.
  • the laser irradiation apparatus according to the second embodiment is different from the laser irradiation apparatus according to the first embodiment in the configuration of the levitation unit.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of the levitation unit according to the comparative example of the second embodiment, corresponding to the VV cross-sectional view of FIG. Note that the right-handed xyz coordinates shown in FIG. 10 coincide with those in FIG.
  • the levitation unit 300b according to the comparative example of the second embodiment includes a pedestal 310 and a porous plate 320 according to the comparative example 1 of the first embodiment shown in FIG.
  • An intermediate plate 330 is provided.
  • the intermediate plate 330 has a simple plate shape.
  • the intermediate plate 330 is a metal plate member such as aluminum or stainless steel and has the same size as the pedestal 310.
  • the thickness t2 of the intermediate plate 330 is smaller than the thickness t1 of the pedestal 310.
  • the porous plate 320 is attached to the upper surface of the plate-shaped intermediate plate 330 by an adhesive layer 340a.
  • the adhesive layer 340a is formed in a square ring shape in plan view along the outer peripheral edge of the upper surface of the intermediate plate 330.
  • the intermediate plate 330 is attached to the upper surface of the pedestal 310 by an adhesive layer 340d.
  • the adhesive layer 340d is formed in a square ring shape in plan view along the outer peripheral edge of the upper surface of the base 310.
  • a pressurizing chamber 350 that is a space surrounded by the porous plate 320, the middle plate 330, and the adhesive layer 340a is formed.
  • the pedestal 310 is formed with a pressurizing through hole 311 passing through the upper surface and the lower surface at the end on the positive side in the x-axis direction.
  • a pressurizing through hole 334 is formed in the intermediate plate 330.
  • the pressurizing through hole 311 of the pedestal 310 and the pressurizing through hole 334 of the intermediate plate 330 are formed at corresponding positions and connected by an annular adhesive layer 340e. Further, the pressurizing chamber 350 and the decompression chamber 360 are partitioned by the adhesive layer 340a, and the respective airtightness is maintained.
  • Pressurized gas is introduced into the pressurizing chamber 350 through the pressurizing through hole 311 of the pedestal 310, the adhesive layer 340 e, and the pressurizing through hole 334 of the intermediate plate 330, and the gas enters the inside of the porous plate 320.
  • the fine holes are ejected from the upper surface of the porous plate 320. Therefore, the plate-like workpiece 100 can be levitated.
  • a decompression chamber 360 that is a space surrounded by the pedestal 310, the middle plate 330, and the adhesive layer 340d is formed.
  • the pedestal 310 is formed with a pressure reducing through hole 313 passing through the upper surface and the lower surface at the center. The gas in the decompression chamber 360 is exhausted through the decompression through hole 313.
  • a large number of through holes 333 are formed in the intermediate plate 330 constituting the decompression chamber 360 over substantially the entire surface.
  • the porous plate 320 is also formed with a large number of through holes 323 over substantially the entire surface.
  • middle board 330 are formed in the corresponding position, and are connected by the cyclic
  • the levitation unit 300b according to the comparative example of the second embodiment sucks the gas from the through hole 323 of the porous plate 320 while jetting the gas from the pores of the porous plate 320 to float the plate-like workpiece 100.
  • the plate-like workpiece 100 is sucked.
  • the plate-like workpiece 100 can be made more accurately than the levitating unit 300b according to the comparative example 1 of the first embodiment shown in FIG. Can surface.
  • the plate-like workpiece 100 can be levitated more accurately at the focal position of the laser beam LB.
  • the adhesive layer 340a is formed along the outer peripheral edge of the upper surface of the intermediate plate 330, and the adhesive layer 340d is formed on the upper surface of the pedestal 310. It is formed along the outer periphery. Therefore, the ultraviolet rays generated with the irradiation of the laser beam LB easily reach the adhesive layers 340a and 340d, and the adhesive layers 340a and 340d deteriorate.
  • the airtightness of the pressurizing chamber 350 decreases, and the gas injected from the upper surface of the porous plate 320 decreases.
  • the adhesive layer 340d deteriorates, the airtightness of the decompression chamber 360 is lowered, and the gas sucked from the through hole 323 of the porous plate 320 is reduced. Therefore, the plate-like workpiece 100 cannot be levitated with high accuracy.
  • FIG. 11 is a perspective view of the levitation unit according to the second embodiment.
  • 12 and 13 are exploded perspective views of the levitating unit according to the second embodiment.
  • 14 is a cross-sectional view taken along the line XIV-XIV in FIG.
  • FIG. 14 corresponds to the VV cross-sectional view of FIG.
  • FIG. 15 is a plan view showing the adhesive layers 34 a and 34 d formed on the pedestal 31. Note that the right-handed xyz coordinates shown in FIGS. 11 to 15 are the same as those in FIG.
  • the floating unit 30b according to the second embodiment also has a configuration in which a porous plate 32 is joined to a pedestal 31 in the same manner as the floating unit 30b according to the first embodiment. ing.
  • the porous plate 32 is divided into two at the center in the longitudinal direction (x-axis direction).
  • the long porous plate 32 is configured by joining the two short porous plates 32a and 32b at the center in the longitudinal direction.
  • a material obtained by joining two short porous plates can be manufactured more easily and inexpensively than a single long porous plate.
  • the levitating unit 30 b includes an intermediate plate 33 in addition to the pedestal 31 and the porous plate 32.
  • the intermediate plate 33 is a metal plate-like member such as aluminum or stainless steel, like the base 31.
  • the intermediate plate 33 is slightly smaller than the base 31 and is accommodated in the base 31.
  • the porous plate 32 has a large number of through holes (first through holes) 323 extending in the longitudinal direction (x-axis direction) and the width direction (substantially over the entire surface). They are arranged at equal intervals in the y-axis direction). Also on the intermediate plate 33, a large number of through holes (second through holes) 333 are arranged at substantially equal intervals in the longitudinal direction (x-axis direction) and the width direction (y-axis direction) over substantially the entire surface.
  • the through hole 323 of the porous plate 32 and the through hole 333 of the intermediate plate 33 are provided at corresponding positions.
  • a pressure reducing through hole 313 is formed in the base 31.
  • the pressurizing through hole 311 is formed at the center of the end on the plus side in the x-axis direction.
  • the decompression through-hole 313 is formed at the center.
  • the pedestal 31 according to the second embodiment has a plate shape in which a rising portion 312 protruding upward is formed on the outer peripheral edge, like the pedestal 31 according to the first embodiment shown in FIG. 5. It is a member.
  • the rising portion 312 is formed in a square ring shape in plan view along the outer peripheral edge of the base 31.
  • the lower surface of the base 31 is grind
  • the thickness t1 of the pedestal 31 is preferably about 10 mm or more, for example.
  • FIG. 16 is an enlarged view of a joint portion of the short porous plates 32a and 32b.
  • a convex portion 322a is formed on the lower end of the butted end surface of the short porous plate (first plate) 32a with the short porous plate (second plate) 32b.
  • the convex part 322b is formed in the upper surface at the abutting end surface with the short porous board 32a in the short porous board 32b.
  • An adhesive layer 34c is formed between the convex portion 322a of the short porous plate 32a and the convex portion 322b of the short porous plate 32b.
  • the ultraviolet rays generated by the irradiation with the laser beam LB hardly reach the joint portions. . Further, even if the ultraviolet rays reach the joint portion, as shown in FIG. 16, it is blocked by the convex portion 322b of the short porous plate 32b, and the deterioration of the adhesive layer 34c can be effectively suppressed.
  • the porous plate 32 is the same size as the pedestal 31.
  • a notch 321 that fits with the rising portion 312 of the pedestal 31 is formed along the outer peripheral edge.
  • the notch 321 is formed in a square ring shape in plan view along the outer peripheral edge of the porous plate 32.
  • the porous plate 32 is affixed to the upper surface of the pedestal 31 by an adhesive layer 34a made of a resin adhesive.
  • the adhesive layer 34 a is formed along the inner wall of the rising portion 312 of the pedestal 31 fitted with the notch 321 of the porous plate 32.
  • the adhesive layer 34 a is formed in a square ring shape in plan view along the inner wall of the rising portion 312 of the pedestal 31.
  • the pedestal 31 in the pedestal 31 according to the second embodiment, a region surrounded by the adhesive layer 34a is dug down, and a cavity constituting the decompression chamber 36 is formed.
  • a counterbore groove 314 is provided at the periphery of the cavity.
  • the intermediate plate 33 is fitted in the counterbored groove 314, and the intermediate plate 33 is bonded to the pedestal 31 by an adhesive layer 34 d formed on the counterbored groove 314.
  • the upper surface of the intermediate plate 33 coincides with the upper surface of the base 31 on which the adhesive layer 34a is formed. That is, the intermediate plate 33 is accommodated in the pedestal 31 in parallel with the porous plate 32 below the porous plate 32.
  • the thickness t2 of the intermediate plate 33 is smaller than the thickness t1 of the base 31.
  • the adhesive layer 34d is formed in a square ring shape in plan view along the inner side of the adhesive layer 34a.
  • the pressurizing through hole 311 is located inside the adhesive layer 34a and outside the adhesive layer 34d. Even if the adhesion area between the base 31 and the intermediate plate 33 is increased by providing a plurality of projections having the same height as the bottom surface of the counterbore groove 314 in the decompression chamber 36 and forming the adhesive layer 34d on the upper surface of the projections. Good.
  • a pressurizing chamber 35 that is a space surrounded by the pedestal 31, the porous plate 32, the intermediate plate 33, and the adhesive layer 34 a is formed on the upper side of the intermediate plate 33.
  • the pedestal 31 is formed with a pressurizing through hole 311 passing through the upper surface and the lower surface at the end on the positive side in the x-axis direction.
  • a pressurized gas is introduced into the pressurizing chamber 35 through the pressurizing through hole 311, and the gas passes through fine pores inside the porous plate 32 and is injected from the upper surface of the porous plate 32. . Therefore, the plate-like workpiece 100 can be levitated.
  • a pressurizing device such as a compressor or a blower is connected to the pressurizing through hole 311 via a pipe.
  • a decompression chamber 36 which is a space surrounded by the base 31, the middle plate 33, and the adhesive layer 34d, is formed below the middle plate 33.
  • the pressurizing chamber 35 and the decompression chamber 36 are partitioned by the intermediate plate 33.
  • the pedestal 31 is formed with a decompression through-hole 313 passing through the upper surface and the lower surface at the center.
  • the gas in the decompression chamber 36 is exhausted through the decompression through hole 313.
  • the decompression through-hole 313 is connected to a decompression device such as a vacuum pump or an ejector via a pipe.
  • a large number of through holes 333 are formed in the intermediate plate 33 constituting the decompression chamber 36 over substantially the entire surface.
  • the porous plate 32 is also formed with a large number of through holes 323 over substantially the entire surface.
  • middle board 33 are formed in the corresponding position, and are connected by the cyclic
  • the levitation unit 30b according to the second embodiment sucks gas from the through-hole 323 of the porous plate 32 while injecting gas from the pores of the porous plate 32 to float the plate-like workpiece 100, and forms a plate shape.
  • the workpiece 100 is sucked.
  • the plate-like workpiece 100 can be levitated more accurately than the levitating unit 30b according to the first embodiment.
  • the plate-like workpiece 100 can be levitated more accurately at the focal position of the laser beam LB.
  • the plate-like workpiece 100 can be levitated with high accuracy at about 20 to 50 ⁇ m.
  • the gas from the through holes 323 it is preferable to suck the gas from the through holes 323 while injecting the gas from the pores uniformly over the entire surface of the porous plate 32. Since the pore diameter of the porous plate 32 is extremely fine, for example, about several ⁇ m, the resistance of the gas path is large, so that the pressure distribution in the pressurizing chamber 35 can be made uniform. As a result, gas can be uniformly injected over the entire surface of the porous plate 32.
  • the diameter of the suction path (the through hole 323 of the porous plate 32 and the through hole 333 of the intermediate plate 33) is reduced to increase the resistance of the gas path. There is a need to. Thereby, the pressure distribution in the decompression chamber 36 can be made uniform, and the gas can be sucked uniformly over the entire surface of the porous plate 32.
  • the pressure distribution in the decompression chamber 36 can be made uniform, so that the decompression through-hole 313 and the pipe connected thereto are provided with 1 (Singular). Therefore, compared with the case where a plurality of decompression through-holes 313 are provided, the structure is simplified, the manufacturing is facilitated, and the manufacturing cost can be reduced.
  • the pressure distribution in the decompression chamber 36 becomes non-uniform, and the gas cannot be sucked uniformly over the entire surface of the porous plate 32. Specifically, the amount of gas suction from the suction path near the decompression through hole 313 of the pedestal 31 increases, and the amount of gas suction from the suction path far from the pressure reduction through hole 313 of the pedestal 31 decreases. .
  • FIG. 17 is a cross-sectional view schematically showing the suction path (the through hole 323 of the porous plate 32 and the through hole 333 of the intermediate plate 33), the decompression chamber 36, and the decompression through hole 313.
  • the adhesive layer 34a and the pressurizing chamber 35 are omitted.
  • the gas flow rates Q1 to Q7 sucked from the through holes 323 of the porous plate 32 need to be equal. Therefore, if the diameters of the plurality of suction paths (the through hole 323 of the porous plate 32 and the through hole 333 of the intermediate plate 33) are the same, the pressure P1 at the opening end of the through hole 333 on the decompression chamber 36 side. It is necessary to make P7 equal.
  • the suction path (the through hole 323 of the porous plate 32 and the through hole 333 of the intermediate plate 33) is reduced in diameter to increase the resistance of the gas path.
  • the gas flow rate Qt exhausted from the decompression chamber 35 through the decompression through hole 313 is significantly larger than the total of the gas flow rates Q1 to Q7 sucked from the through hole 323 of the porous plate 32.
  • Qt >> Q1 + Q2 + Q3 + Q4 + Q5 + Q6 + Q7 holds. Therefore, the pressure distribution in the decompression chamber 36 becomes uniform, and the pressures P1 to P7 are equal to each other.
  • the gas flow rates Q1 to Q7 sucked from the through holes 323 of the porous plate 32 are also equal to each other.
  • the processing variation occurs in the diameters of the suction paths (the through hole 323 of the porous plate 32 and the through hole 333 of the intermediate plate 33), the gas flow rates Q1 to Q7 are not completely equal, and somewhat vary. Occurs.
  • the above-described suction path (the through hole 323 of the porous plate 32 and the through hole 333 of the intermediate plate 33) is not required to have a small diameter over the entire length of the suction path, and a part of the suction path is narrowed. It is enough to make it diameter.
  • the porous plate 32 is made of ceramics from the viewpoint of durability improvement and particle suppression. In that case, it is difficult to make the through hole 323 have a minute diameter (for example, 1 mm or less) due to the problem of workability.
  • the diameter of the through hole 333 of the metal intermediate plate 33 is set to a minute diameter, and the through hole 323 of the ceramic porous plate 32 is formed. It is smaller than the diameter. That is, the gas flow rates Q1 to Q7 described above are determined by the diameter of the through hole 333 of the intermediate plate 33 having a smaller diameter, and the processing variation in the diameter of the through hole 333 of the intermediate plate 33 affects the gas flow rates Q1 to Q7.
  • the diameter of the through hole 333 of the intermediate plate 33 is preferably 1 mm or less, and more preferably 0.5 mm or less.
  • the diameter of the through hole 323 of the ceramic porous plate 32 is preferably set to, for example, 1 mm or more in order to facilitate processing.
  • the rising portion 312 protruding upward is formed on the outer peripheral edge of the pedestal 31, and the rising portion of the pedestal 31 along the outer peripheral edge of the porous plate 32.
  • a notch 321 is formed to fit with 312.
  • An adhesive layer 34 a is formed on the inner side along the inner wall of the rising portion 312 fitted with the notch 321.
  • the notch portion 321 of the porous plate 32 and the rising portion 312 of the base 31 are in close contact with each other, the ultraviolet rays generated by the irradiation of the laser beam LB do not reach the adhesive layer 34a. Even if a gap is formed between the notch 321 and the rising portion 312, and even if ultraviolet rays enter through the gap, the adhesive layer 34 a formed inside the rising portion 312 fitted with the notch 321 is not covered. Hard to reach. Therefore, deterioration of the adhesive layer 34a can be effectively suppressed.
  • the intermediate plate 33 is accommodated in the pedestal 31. Therefore, an adhesive layer 34 d that bonds the intermediate plate 33 to the pedestal 31 is also accommodated in the pedestal 31. Therefore, deterioration of the adhesive layer 34d can be effectively suppressed. Furthermore, since the intermediate plate 33 is accommodated in the base 31, the thickness (height) of the levitation unit 30b is at least the thickness t2 of the intermediate plate 33, compared to the comparative example shown in FIG. Can be small.

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Abstract

一実施の形態に係るレーザ照射装置１では、第１及び第２の浮上ユニット３０ａ、３０ｂは、それぞれ、台座３１と、台座３１の上面に接着層３４により接合された多孔質板３２と、を有し、台座３１が、少なくとも間隙に面した外周縁に、上側に突出した立ち上がり部３１２を有すると共に、多孔質板３２が、立ち上がり部３１２と嵌合する切欠き部３２１を有し、接着層３４が、切欠き部３２１と嵌合した立ち上がり部３１２の内壁に沿って形成されている。

Description

レーザ照射装置
　本発明はレーザ照射装置に関し、例えば、板状のワークを浮上搬送しつつレーザビームを照射するレーザ照射装置に関する。
　板状のワークを浮上搬送しつつ、当該ワークに対してレーザビームを照射するレーザ照射装置が知られている。
　ところで、特許文献１、２には、水平に載置された多孔質板からガスを上向きに噴出させることにより、板状のワークを浮上させる技術が開示されている。ここで、多孔質板は、特許文献１、２に開示されているように、台座に対して接着剤により接合されている。
特開２００８－１１０８５２号公報 特許第５５１２０５２号公報
　発明者は、板状のワークを浮上搬送しつつレーザビームを照射するレーザ照射装置の開発に際し、様々な課題を見出した。
　その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
　一実施の形態に係るレーザ照射装置では、第１及び第２の浮上ユニットは、それぞれ、台座と、台座の上面に接着層により接合された多孔質板と、を有し、台座が、少なくとも間隙に面した外周縁に、上側に突出した立ち上がり部を有すると共に、多孔質板が、立ち上がり部と嵌合する切欠き部を有し、接着層が、切欠き部と嵌合した立ち上がり部の内壁に沿って形成されている。
　他の実施の形態に係るレーザ照射装置では、多孔質板に形成された複数の第１の貫通孔及び金属製の中板に形成された複数の第２の貫通孔を介してガスが吸引され、複数の第１の貫通孔の直径は複数の第２の貫通孔の直径より大きい。
　前記一実施の形態によれば、例えばレーザアニール装置等に好適であって、良質なレーザ照射装置を提供することができる。
実施の形態１に係るレーザ照射装置の概要を示す模式的断面図である。 浮上ユニット３０ａ、３０ｂと板状ワーク１００との位置関係を示す平面図である。 実施の形態１の比較例１に係る浮上ユニットの断面図であって、図２のＶ－Ｖ断面図に対応する図である。 実施の形態１の比較例２に係る浮上ユニットの断面図であって、図２のＶ－Ｖ断面図に対応する図である。 図２のＶ－Ｖ断面図である。 台座３１に形成された接着層３４を示す平面図である。 図５において一点鎖線で囲われた部分の拡大図である。 実施の形態１の変形例に係る浮上ユニットの断面図である。 台座３１に形成された接着層３４を示す平面図である。 実施の形態２の比較例に係る浮上ユニットの断面図であって、図２のＶ－Ｖ断面図に対応する図である。 実施の形態２に係る浮上ユニットの斜視図である。 実施の形態２に係る浮上ユニットの分解斜視図である。 実施の形態２に係る浮上ユニットの分解斜視図である。 図１１のＸＩＶ－ＸＩＶ断面図である。 台座３１に形成された接着層３４ａ、３４ｄを示す平面図である。 短尺多孔質板３２ａ、３２ｂの接合部の拡大図である。 吸引経路（多孔質板３２の貫通孔３２３及び中板３３の貫通孔３３３）、減圧室３６、及び減圧用貫通孔３１３を模式的に示した断面図である。
　以下、具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。ただし、以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜簡略化されている。
（実施の形態１）
＜レーザ照射装置の全体構成＞
　まず、図１を参照して、実施の形態１に係るレーザ照射装置の全体構成について説明する。図１は、実施の形態１に係るレーザ照射装置の概要を示す模式的断面図である。実施の形態１に係るレーザ照射装置は、ガラス基板上に形成されたアモルファスシリコン膜にレーザビームを照射して多結晶化するエキシマレーザアニール装置に好適である。あるいは、実施の形態１に係るレーザ照射装置は、ガラス基板上に形成された剥離層に基板側からレーザビームを照射して剥離層を剥離するレーザ剥離装置などに適用することもできる。
　図１に示すように、実施の形態１に係るレーザ照射装置１は、レーザ照射部１０、局所シール部２０、浮上ユニット３０ａ、３０ｂを備えている。実施の形態１に係るレーザ照射装置１は、例えばガラス基板などの板状ワーク１００を浮上搬送しつつレーザビームＬＢを照射する。
　なお、図１に示した右手系ｘｙｚ座標は、構成要素の位置関係を説明するための便宜的なものである。通常、ｘｙ平面が水平面であって、ｚ軸プラス向きが鉛直上向きとなる。
　レーザ照射部１０は、レーザ発振器１１、及び光学系モジュール１２を備えている。レーザ発振器１１は、レーザ光源であって、例えばエキシマレーザや固体レーザなどの紫外線レーザ発振器である。レーザ発振器１１において生成されたレーザ光が、レンズやミラーから構成された光学系モジュール１２に導入される。光学系モジュール１２から出射されたレーザビームＬＢは、浮上搬送されている板状ワーク１００上に集光される。なお、図２を参照して後述するように、レーザビームＬＢは、板状ワーク１００上において、ｙ軸方向を長手方向とするラインビームである。
　局所シール部２０は、光学系モジュール１２の下側において、レーザビームＬＢを囲うように設けられている。板状ワーク１００におけるレーザビームＬＢの照射領域に向けて、局所シール部２０から窒素ガスなどの不活性ガスが噴射される。そのため、例えば板状ワーク１００上においてレーザビームＬＢによりアニールされたシリコン膜の酸化を抑制することができる。なお、局所シール部２０は、必須ではない。
　浮上ユニット３０ａ、３０ｂは、水平に設置された板状の部材であって、上面から上向きにガスを噴射して板状ワーク１００を水平に浮上させる。例えば、板状ワーク１００を２００μｍ程度浮上させる。浮上ユニット３０ａ、３０ｂは、所定の間隔で板状ワーク１００の搬送方向（ｘ軸方向）に並んで配置されている。浮上ユニット（例えば、第１の浮上ユニット）３０ａと浮上ユニット（例えば、第２の浮上ユニット）３０ｂとの間の間隙において、レーザビームＬＢが照射される。
　浮上ユニット３０ａ、３０ｂは、それぞれ台座３１と多孔質板３２とを有している。板状の台座３１の上面に多孔質板３２が貼り付けられている。台座３１は、例えばアルミニウムやステンレスなどの金属製の板状部材である。台座３１に加圧されたガスが導入され、そのガスが多孔質板３２の内部の微細な気孔（すなわち細孔）を通過して多孔質板３２の上面から噴射される。
　多孔質板３２は、板状ワーク１００の搬送時に、板状ワーク１００と対向している。
　多孔質板３２は、例えば、多孔質セラミックス、多孔質カーボン、多孔質金属などからなる。カーボンは、使用時に板状ワーク１００との接触で削れてしまったり、レーザビームＬＢの照射領域でパーティクルが発生してしまう虞がある。また、多孔質カーボンは高価である。そのため、削れやパーティクルが発生し難く、安価なセラミックスを使用することが好ましい。例えば、気孔径０．１～５０μｍ（好ましくは１～１０μｍ）、気孔率１０～６０％（好ましくは３５～４５％）のアルミナセラミックスを使用することができる。
　ここで、図２を参照して、浮上ユニット３０ａ、３０ｂと板状ワーク１００との平面視における位置関係について説明する。図２は、浮上ユニット３０ａ、３０ｂと板状ワーク１００との位置関係を示す平面図である。さらに、図２には、板状ワーク１００上におけるレーザビームＬＢが二点鎖線で示されている。なお、図２に示した右手系ｘｙｚ座標は、図１と一致している。
　図２に示すように、浮上ユニット３０ａ、３０ｂは、それぞれ矩形状の平面形状を有している。図２の例では、板状ワーク１００の搬送方向（ｘ軸方向）が、浮上ユニット３０ａ、３０ｂの長手方向に一致しており、ｙ軸方向が、浮上ユニット３０ａ、３０ｂの幅方向に一致している。
　上述の通り、レーザビームＬＢは、ｙ軸方向を長手方向とするラインビームであって、浮上ユニット３０ａ、３０ｂの間隙に照射される。レーザビームＬＢのｙ軸方向の長さは、例えば、板状ワーク１００のｙ軸方向の長さ（すなわち板状ワーク１００の幅）と同程度もしくはそれ以下である。レーザビームＬＢの照射位置は固定されているが、板状ワーク１００がｘ軸プラス方向に搬送される。そのため、板状ワーク１００の表面全体にレーザビームＬＢを照射することができる。なお、１回の搬送で板状ワーク１００の表面全体にレーザビームＬＢを照射するのではなく、複数回の搬送に分割して板状ワーク１００の表面全体にレーザビームＬＢを照射してもよい。また、必ずしも板状ワーク１００の表面全体にレーザビームＬＢを照射する必要はない。
＜実施の形態１の比較例１に係る浮上ユニット＞
　次に、図３を参照して、発明者が事前に検討した実施の形態１の比較例１に係る浮上ユニットについて説明する。図３は、実施の形態１の比較例１に係る浮上ユニットの断面図であって、図２のＶ－Ｖ断面図に対応する図である。なお、図３に示した右手系ｘｙｚ座標は、図１と一致している。
　実施の形態１の比較例１に係る浮上ユニット３００ｂは、台座３１０と多孔質板３２０とを有している。ここで、台座３１０及び多孔質板３２０は、いずれも単純な板形状を有している。多孔質板３２０は、樹脂接着剤からなる接着層３４０により、板状の台座３１０の上面に貼り付けられている。接着層３４０は台座３１０の外周縁に沿って平面視で四角環状に形成されている。
　そのため、台座３１０、多孔質板３２０、接着層３４０に囲まれた空間である加圧室３５０が形成される。台座３１０には上面と下面とを貫通する加圧用貫通孔３１１が形成されている。加圧用貫通孔３１１を介して、加圧室３５０に加圧されたガスが導入され、そのガスが多孔質板３２０の内部の微細な気孔を通過して多孔質板３２０の上面から噴射される。そのため、板状ワーク１００を浮上させることができる。
　図３に示すように、実施の形態１の比較例１に係る浮上ユニット３００ｂでは、接着層３４０が台座３１０の外周縁に沿って形成されている。そのため、レーザビームＬＢの照射に伴って発生する紫外線が容易に接着層３４０に到達し、接着層３４０が劣化する。接着層３４０が劣化すると、加圧室３５０の気密性が低下し、多孔質板３２０の上面から噴射されるガスが減少する。そのため、板状ワーク１００を精度よく浮上させることができなくなる。また、接着層３４０が劣化する際に樹脂接着剤自体からガスが発生し、レーザビームＬＢの照射結果に悪影響を及ぼす。
＜実施の形態１の比較例２に係る浮上ユニット＞
　次に、図４を参照して、発明者等が事前に検討した実施の形態１の比較例２に係る浮上ユニットについて説明する。図４は、実施の形態１の比較例２に係る浮上ユニットの断面図であって、図２のＶ－Ｖ断面図に対応する図である。なお、図４に示した右手系ｘｙｚ座標は、図１と一致している。
　図３に示した比較例１では、台座３１０が単純な板形状を有していたのに対し、図４に示した比較例２では、台座３１０の外周縁に上側に突出した立ち上がり部３１２が形成されている。立ち上がり部３１２は台座３１０の外周縁に沿って平面視で四角環状に形成されている。
　また、図３に示した比較例１では、多孔質板３２０が台座３１０と同じ大きさであったのに対し、図４に示した比較例２では、多孔質板３２０が台座３１０よりも一回り小さく、立ち上がり部３１２の内側に配置されている。
　そして、図３に示した比較例１では、接着層３４０が台座３１０の外周縁に沿って形成されていたのに対し、図４に示した比較例２では、接着層３４０が立ち上がり部３１２の内壁に沿って形成されている。
　図４に示すように、実施の形態１の比較例２に係る浮上ユニット３００ｂでは、接着層３４０が立ち上がり部３１２の内壁に沿って内側に形成されている。そのため、レーザビームＬＢの照射に伴って発生する紫外線が、立ち上がり部３１２により遮られ、第１の比較例よりも接着層３４０の劣化を抑制することができる。しかしながら、台座３１０の立ち上がり部３１２と多孔質板３２０との間の隙間から侵入した紫外線が接着層３４０に到達し、接着層３４０が劣化する虞があった。
＜実施の形態１に係る浮上ユニット＞
　次に、図５、図６を参照して、実施の形態１に係る浮上ユニットの詳細について説明する。図５は、図２のＶ－Ｖ断面図である。図６は、台座３１に形成された接着層３４を示す平面図である。図７は、図５において一点鎖線で囲われた部分の拡大図である。なお、図５～図７に示した右手系ｘｙｚ座標は、図１と一致している。浮上ユニット３０ａ、３０ｂは、ｙｚ平面に関して鏡面対称の構成を有しており、同様であるため、浮上ユニット３０ｂの構成について説明する。
　実施の形態１に係る浮上ユニット３０ｂは、台座３１と多孔質板３２とを有している。
　図５に示すように、実施の形態１に係る台座３１は、図４に示した比較例２に係る台座３１０と同様に、外周縁に上側に突出した立ち上がり部３１２が形成された板状部材である。図６に示すように、立ち上がり部３１２は台座３１の外周縁に沿って平面視で四角環状に形成されている。
　また、台座３１には設置精度が要求されるため、台座３１の下面は研磨される。台座３１の下面を精度良く研磨するには、台座３１の厚さｔ１を例えば１０ｍｍ程度以上にすることが好ましい。
　実施の形態１に係る多孔質板３２は、図５に示すように、台座３１と同じ大きさである。また、図７に示すように、外周縁に沿って台座３１の立ち上がり部３１２と嵌合する切欠き部３２１が形成されている。切欠き部３２１は多孔質板３２の外周縁に沿って平面視で四角環状に形成されている。
　図５に示すように、多孔質板３２は、樹脂接着剤からなる接着層３４により、台座３１の上面に貼り付けられている。ここで、図７に示すように、接着層３４は、多孔質板３２の切欠き部３２１と嵌合した台座３１の立ち上がり部３１２の内壁に沿って形成されている。
　図６に示すように、接着層３４は台座３１の立ち上がり部３１２の内壁に沿って平面視で四角環状に形成されている。ここで、接着層３４は、立ち上がり部３１２の内壁に密着している必要はない。接着層３４を構成する樹脂接着剤としては、例えばエポキシ系接着剤を使用することができる。
　図５に示すように、台座３１、多孔質板３２、接着層３４に囲まれた空間である加圧室３５が形成される。台座３１には上面と下面とを貫通する加圧用貫通孔３１１が、ｘ軸方向プラス側の端部に形成されている。加圧用貫通孔３１１を介して、加圧室３５に加圧されたガスが導入され、そのガスが多孔質板３２の内部の微細な気孔を通過して多孔質板３２の上面から噴射される。そのため、板状ワーク１００を浮上させることができる。なお、図示しないが、加圧用貫通孔３１１には配管を介してコンプレッサやブロワなどの加圧装置が接続されている。
　上述の通り、実施の形態１に係る浮上ユニット３０ｂでは、台座３１の外周縁に上側に突出した立ち上がり部３１２が形成されている。また、多孔質板３２の外周縁に台座３１の立ち上がり部３１２と嵌合する切欠き部３２１が形成されている。そして、切欠き部３２１と嵌合した立ち上がり部３１２の内壁に沿って、接着層３４が形成されている。
　通常、多孔質板３２の切欠き部３２１と台座３１の立ち上がり部３１２とは密着しているため、レーザビームＬＢの照射に伴って発生する紫外線が、接着層３４に到達することはない。仮に、切欠き部３２１と立ち上がり部３１２との間に隙間が生じ、当該隙間から紫外線が侵入したとしても、切欠き部３２１と嵌合した立ち上がり部３１２の内側に形成された接着層３４までは到達し難い。従って、このような構成により、接着層３４の劣化を効果的に抑制することができる。
＜実施の形態１の変形例に係る浮上ユニット＞
　次に、図８、図９を参照して、実施の形態１の変形例に係る浮上ユニットの詳細について説明する。図８は、実施の形態１の変形例に係る浮上ユニットの断面図である。図８は、図５に対応している。図９は、台座３１に形成された接着層３４を示す平面図である。
　図６に示すように、実施の形態１に係る浮上ユニット３０ｂの台座３１は、外周縁全体に立ち上がり部３１２が形成されている。これに対し、図８、図９に示すように、実施の形態１の変形例に係る浮上ユニット３０ｂの台座３１は、レーザビームＬＢが照射される隙間に面した外周縁のみに立ち上がり部３１２が形成されている。その他の外周縁には、立ち上がり部３１２が形成されていない。すなわち、図９に示すように、立ち上がり部３１２が、ｘ軸方向マイナス側の外周縁に沿って、ｙ軸方向に直線状に形成されている。
　また、図８に示すように、実施の形態１の変形例に係る浮上ユニット３０ｂの多孔質板３２は、レーザビームＬＢが照射される隙間に面した外周縁のみに立ち上がり部３１２と嵌合する切欠き部３２１が形成されている。その他の外周縁には、切欠き部３２１が形成されていない。すなわち、切欠き部３２１が、ｘ軸方向マイナス側の外周縁に沿って、ｙ軸方向に直線状に形成されている。
　図８に示すように、多孔質板３２は、樹脂接着剤からなる接着層３４により、台座３１の上面に貼り付けられている。ここで、図８、図９に示すように、接着層３４は、多孔質板３２の切欠き部３２１と嵌合した台座３１の立ち上がり部３１２の内壁に沿って内側に形成されている。他方、図９に示すように、レーザビームＬＢが照射される隙間に面していない外周縁には立ち上がり部３１２は形成されておらず、当該外周縁に接着層３４が形成されている。そのため、接着層３４は、平面視で四角環状に形成されている。
　上述の通り、実施の形態１に係る浮上ユニット３０ｂでは、レーザビームＬＢが照射される隙間に面した台座３１の外周縁に上側に突出した立ち上がり部３１２が形成されている。また、レーザビームＬＢが照射される隙間に面した多孔質板３２の外周縁に立ち上がり部３１２と嵌合する切欠き部３２１が形成されている。そして、切欠き部３２１と嵌合した立ち上がり部３１２の内壁に沿って内側に、接着層３４が形成されている。
　通常、多孔質板３２の切欠き部３２１と台座３１の立ち上がり部３１２とは密着しているため、レーザビームＬＢの照射に伴って発生する紫外線が、接着層３４に到達することはない。仮に、切欠き部３２１と立ち上がり部３１２との間に隙間が生じ、当該隙間から紫外線が侵入したとしても、切欠き部３２１と嵌合した立ち上がり部３１２の内側に形成された接着層３４までは到達し難い。従って、接着層３４の劣化を効果的に抑制することができる。
　なお、実施の形態１の変形例に係る浮上ユニット３０ｂでは、レーザビームＬＢが照射される隙間に面していない外周縁には立ち上がり部３１２は形成されておらず、当該外周縁に接着層３４が形成されている。しかしながら、レーザビームＬＢが照射される隙間に面していないため、外周縁に接着層３４が形成されていても、接着層３４には紫外線がほとんど到達しない。
（実施の形態２）
　次に、実施の形態２に係るレーザ照射装置について説明する。実施の形態２に係るレーザ照射装置の全体構成は、図１、図２に示した実施の形態１に係るレーザ照射装置の全体構成と同様であるため、説明を省略する。実施の形態２に係るレーザ照射装置は、浮上ユニットの構成が実施の形態１に係るレーザ照射装置と異なる。
＜実施の形態２の比較例に係る浮上ユニット＞
　まず、図１０を参照して、発明者が事前検討した実施の形態２の比較例に係る浮上ユニットについて説明する。図１０は、実施の形態２の比較例に係る浮上ユニットの断面図であって、図２のＶ－Ｖ断面図に対応する図である。なお、図１０に示した右手系ｘｙｚ座標は、図１と一致している。
　図１０に示すように、実施の形態２の比較例に係る浮上ユニット３００ｂは、図３に示した実施の形態１の比較例１に係る台座３１０と多孔質板３２０に加え、両者の間に中板３３０を備えている。ここで、中板３３０は、台座３１０、多孔質板３２０と同様に、単純な板形状を有している。中板３３０は、台座３１０と同様に、例えばアルミニウムやステンレスなどの金属製の板状部材であって、台座３１０と同じ大きさである。中板３３０の厚さｔ２は、台座３１０の厚さｔ１よりも小さい。
　多孔質板３２０は、接着層３４０ａにより、板状の中板３３０の上面に貼り付けられている。接着層３４０ａは中板３３０の上面の外周縁に沿って平面視で四角環状に形成されている。
　中板３３０は、接着層３４０ｄにより、台座３１０の上面に貼り付けられている。接着層３４０ｄは台座３１０の上面の外周縁に沿って平面視で四角環状に形成されている。
　図１０に示すように、多孔質板３２０、中板３３０及び接着層３４０ａに囲まれた空間である加圧室３５０が形成される。台座３１０には上面と下面とを貫通する加圧用貫通孔３１１が、ｘ軸方向プラス側の端部に形成されている。中板３３０には、加圧用貫通孔３３４が形成されている。そして、台座３１０の加圧用貫通孔３１１と中板３３０の加圧用貫通孔３３４とは、対応した位置に形成されており、環状の接着層３４０ｅにより接続されている。また、接着層３４０ａにより、加圧室３５０と減圧室３６０とが仕切られ、それぞれの気密性が維持されている。
　台座３１０の加圧用貫通孔３１１、接着層３４０ｅ、及び中板３３０の加圧用貫通孔３３４を介して、加圧室３５０に加圧されたガスが導入され、そのガスが多孔質板３２０の内部の微細な気孔を通過して多孔質板３２０の上面から噴射される。そのため、板状ワーク１００を浮上させることができる。
　他方、図１０に示すように、台座３１０、中板３３０、接着層３４０ｄに囲まれた空間である減圧室３６０が形成される。台座３１０には上面と下面とを貫通する減圧用貫通孔３１３が、中心部に形成されている。減圧用貫通孔３１３を介して、減圧室３６０のガスが排気される。
　ここで、減圧室３６０を構成する中板３３０には、略全面に亘って、多数の貫通孔３３３が形成されている。また、多孔質板３２０にも、略全面に亘って、多数の貫通孔３２３が形成されている。そして、多孔質板３２０の貫通孔３２３と中板３３０の貫通孔３３３とは、対応した位置に形成されており、環状の接着層３４０ｂにより接続されている。従って、多孔質板３２０上のガスが、多孔質板３２０の貫通孔３２３、接着層３４０ｂ、及び中板３３０の貫通孔３３３を介して吸引される。そのため、板状ワーク１００を吸引することができる。また、接着層３４０ｂにより、加圧室３５０と減圧室３６０とが仕切られ、それぞれの気密性が維持されている。
　すなわち、実施の形態２の比較例に係る浮上ユニット３００ｂは、多孔質板３２０の気孔からガスを噴射して板状ワーク１００を浮上させつつ、多孔質板３２０の貫通孔３２３からガスを吸引して板状ワーク１００を吸引している。このように、ガスの加圧による浮上と、ガスの減圧による吸引とをバランスさせることにより、図３に示した実施の形態１の比較例１に係る浮上ユニット３００ｂより精度よく板状ワーク１００を浮上させることができる。具体的には、レーザビームＬＢの焦点位置に、より精度よく板状ワーク１００を浮上させることができる。
　図１０に示すように、実施の形態２の比較例に係る浮上ユニット３００ｂでは、接着層３４０ａが中板３３０の上面の外周縁に沿って形成されており、接着層３４０ｄが台座３１０の上面の外周縁に沿って形成されている。そのため、レーザビームＬＢの照射に伴って発生する紫外線が容易に接着層３４０ａ、３４０ｄに到達し、接着層３４０ａ、３４０ｄが劣化する。
　接着層３４０ａが劣化すると、加圧室３５０の気密性が低下し、多孔質板３２０の上面から噴射されるガスが減少する。他方、接着層３４０ｄが劣化すると、減圧室３６０の気密性が低下し、多孔質板３２０の貫通孔３２３から吸引されるガスが減少する。そのため、精度よく板状ワーク１００を浮上させることができなくなる。
＜実施の形態２に係る浮上ユニット＞
　次に、図１１～図１５を参照して、実施の形態２に係る浮上ユニットについて説明する。図１１は、実施の形態２に係る浮上ユニットの斜視図である。図１２、図１３は、実施の形態２に係る浮上ユニットの分解斜視図である。図１４は、図１１のＸＩＶ－ＸＩＶ断面図である。図１４は、図２のＶ－Ｖ断面図に対応している。図１５は、台座３１に形成された接着層３４ａ、３４ｄを示す平面図である。
　なお、図１１～図１５に示した右手系ｘｙｚ座標は、図１と一致している。
　図１１に示すように、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂも、外見上は、実施の形態１に係る浮上ユニット３０ｂと同様に、台座３１に多孔質板３２が接合された構成を有している。ここで、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂでは、多孔質板３２が長手方向（ｘ軸方向）の中央部において、２つに分割されている。すなわち、２枚の短尺多孔質板３２ａ、３２ｂが長手方向中央部で接合されることにより、長尺の多孔質板３２が構成されている。セラミックス製の場合、１枚の長尺の多孔質板よりも、２枚の短尺多孔質板を接合したものの方が、容易かつ安価に製造することができる。
　他方、図１２に示すように、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂは、台座３１と多孔質板３２に加え、中板３３を備えている。中板３３は、台座３１と同様に、例えばアルミニウムやステンレスなどの金属製の板状部材である。図１３に示すように、中板３３は台座３１よりも一回り小さく、台座３１に収容されている。
　図１２に示すように、実施の形態２に係る多孔質板３２には、略全面に亘って、多数の貫通孔（第１の貫通孔）３２３が長手方向（ｘ軸方向）及び幅方向（ｙ軸方向）に等間隔に配置されている。
　中板３３にも、略全面に亘って、多数の貫通孔（第２の貫通孔）３３３が長手方向（ｘ軸方向）及び幅方向（ｙ軸方向）に等間隔に配置されている。多孔質板３２の貫通孔３２３と中板３３の貫通孔３３３とは、対応した位置に設けられている。
　台座３１には、加圧用貫通孔３１１に加え、減圧用貫通孔３１３が形成されている。加圧用貫通孔３１１は、ｘ軸方向プラス側の端部中央に形成されている。減圧用貫通孔３１３は、中心部に形成されている。
　次に、図１４、図１５を参照して、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂの構成についてさらに説明する。
　図１４に示すように、実施の形態２に係る台座３１は、図５に示した実施の形態１に係る台座３１と同様に、外周縁に上側に突出した立ち上がり部３１２が形成された板状部材である。図１５に示すように、立ち上がり部３１２は台座３１の外周縁に沿って平面視で四角環状に形成されている。
　また、台座３１には設置精度が要求されるため、台座３１の下面は研磨される。台座３１の下面を精度良く研磨するには、台座３１の厚さｔ１を例えば１０ｍｍ程度以上にすることが好ましい。
　図１４に示すように、実施の形態２に係る多孔質板３２は、２枚の短尺多孔質板３２ａ、３２ｂが長手方向中央部で接着層３４ｃにより接合されたものである。接着層３４ｃにより加圧室３５の気密性が保たれている。ここで、図１６は、短尺多孔質板３２ａ、３２ｂの接合部の拡大図である。図１６に示すように、短尺多孔質板（第１の板）３２ａにおける短尺多孔質板（第２の板）３２ｂとの突き合わせ端面には、下側に凸部３２２ａが形成されている。また、短尺多孔質板３２ｂにおける短尺多孔質板３２ａとの突き合わせ端面には、上側に凸部３２２ｂが形成されている。そして、短尺多孔質板３２ａの凸部３２２ａと、短尺多孔質板３２ｂの凸部３２２ｂとの間に接着層３４ｃが形成されている。
　図１４に示すように、短尺多孔質板３２ａ、３２ｂの接合部は、レーザビームＬＢの照射位置から離れているため、レーザビームＬＢの照射に伴って発生する紫外線は当該接合部まで到達し難い。また、仮に、紫外線が当該接合部まで到達したとしても、図１６に示すように、短尺多孔質板３２ｂの凸部３２２ｂによって遮られ、接着層３４ｃの劣化を効果的に抑制することができる。
　図１４に示すように、多孔質板３２は、台座３１と同じ大きさである。また、外周縁に沿って台座３１の立ち上がり部３１２と嵌合する切欠き部３２１が形成されている。切欠き部３２１は多孔質板３２の外周縁に沿って平面視で四角環状に形成されている。多孔質板３２は、樹脂接着剤からなる接着層３４ａにより、台座３１の上面に貼り付けられている。ここで、接着層３４ａは、多孔質板３２の切欠き部３２１と嵌合した台座３１の立ち上がり部３１２の内壁に沿って形成されている。図１５に示すように、接着層３４ａは台座３１の立ち上がり部３１２の内壁に沿って平面視で四角環状に形成されている。
　また、図１４に示すように、実施の形態２に係る台座３１では、接着層３４ａによって囲まれた領域が下側に掘り込まれており、減圧室３６を構成する空洞が形成されている。この空洞の周縁にはザグリ溝３１４が設けられている。このザグリ溝３１４に中板３３が嵌め込まれると共に、ザグリ溝３１４上に形成された接着層３４ｄによって中板３３が台座３１に接着されている。ここで、中板３３の上面は、接着層３４ａが形成された台座３１の上面に一致している。すなわち、中板３３は、多孔質板３２の下方において多孔質板３２と平行に台座３１の内部に収容されている。当然のことながら、中板３３の厚さｔ２は、台座３１の厚さｔ１よりも小さい。
　図１５に示すように、接着層３４ｄは接着層３４ａの内側に沿って平面視で四角環状に形成されている。ここで、加圧用貫通孔３１１は、接着層３４ａの内側かつ接着層３４ｄの外側に位置している。
　なお、減圧室３６にザグリ溝３１４の底面と同じ高さの突起を複数設け、当該突起の上面に接着層３４ｄを形成することにより、台座３１と中板３３との接着面積を大きくしてもよい。
　図１４に示すように、中板３３の上側には、台座３１、多孔質板３２、中板３３及び接着層３４ａに囲まれた空間である加圧室３５が形成される。台座３１には上面と下面とを貫通する加圧用貫通孔３１１が、ｘ軸方向プラス側の端部に形成されている。加圧用貫通孔３１１を介して、加圧室３５に加圧されたガスが導入され、そのガスが多孔質板３２の内部の微細な気孔を通過して多孔質板３２の上面から噴射される。そのため、板状ワーク１００を浮上させることができる。なお、図示しないが、加圧用貫通孔３１１には配管を介してコンプレッサやブロワなどの加圧装置が接続されている。
　他方、図１４に示すように、中板３３の下側には、台座３１、中板３３、接着層３４ｄに囲まれた空間である減圧室３６が形成される。このように、中板３３により加圧室３５と減圧室３６とが仕切られている。台座３１には上面と下面とを貫通する減圧用貫通孔３１３が、中心部に形成されている。減圧用貫通孔３１３を介して、減圧室３６のガスが排気される。なお、図示しないが、減圧用貫通孔３１３には配管を介して真空ポンプやエジェクタなどの減圧装置が接続されている。
　ここで、減圧室３６を構成する中板３３には、略全面に亘って、多数の貫通孔３３３が形成されている。また、多孔質板３２にも、略全面に亘って、多数の貫通孔３２３が形成されている。そして、多孔質板３２の貫通孔３２３と中板３３の貫通孔３３３とは、対応した位置に形成されており、環状の接着層３４ｂにより接続されている。従って、多孔質板３２上のガスが、多孔質板３２の貫通孔３２３、接着層３４ｂ、及び中板３３の貫通孔３３３を介して減圧室３６に吸引される。そのため、板状ワーク１００を吸引することができる。
　すなわち、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂは、多孔質板３２の気孔からガスを噴射して板状ワーク１００を浮上させつつ、多孔質板３２の貫通孔３２３からガスを吸引して板状ワーク１００を吸引している。このように、ガスの加圧による浮上と、ガスの減圧による吸引とをバランスさせることにより、実施の形態１に係る浮上ユニット３０ｂより精度よく板状ワーク１００を浮上させることができる。具体的には、レーザビームＬＢの焦点位置に、より精度よく板状ワーク１００を浮上させることができる。例えば、板状ワーク１００を２０～５０μｍ程度において精度よく浮上させることができる。
　ここで、板状ワーク１００を精度良く浮上させるには、多孔質板３２の全面において均一に、気孔からガスを噴射しつつ、貫通孔３２３からガスを吸引することが好ましい。
　多孔質板３２の気孔径は例えば数μｍ程度と極めて微細であるから、ガス経路の抵抗が大きいため、加圧室３５内の圧力分布を均一にすることができる。その結果、多孔質板３２の全面において均一にガスを噴射することができる。
　他方、多孔質板３２の全面において均一にガスを吸引するには、吸引経路（多孔質板３２の貫通孔３２３及び中板３３の貫通孔３３３）の径を小さくし、ガス経路の抵抗を大きくする必要がある。これにより、減圧室３６内の圧力分布を均一にすることができ、多孔質板３２の全面において均一にガスを吸引することができる。
　実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂでは、吸引経路を細径化することにより、減圧室３６内の圧力分布を均一にすることができるため、減圧用貫通孔３１３及びこれに接続する配管を１つ（単数）にすることができる。そのため、減圧用貫通孔３１３を複数設ける場合に比べ、構造がシンプルになると共に、製造が容易になり、製造コストも削減することができる。
　反対に、吸引経路の径が大きいと、減圧室３６内の圧力分布が不均一になってしまい、多孔質板３２の全面において均一にガスを吸引することができない。具体的には、台座３１の減圧用貫通孔３１３に近い吸引経路からのガスの吸引量が多くなり、台座３１の減圧用貫通孔３１３から遠い吸引経路からのガスの吸引量が少なくなってしまう。
　図１７を参照して、多孔質板３２の全面において均一にガスを吸引可能なメカニズムについてさらに詳細に説明する。図１７は、吸引経路（多孔質板３２の貫通孔３２３及び中板３３の貫通孔３３３）、減圧室３６、及び減圧用貫通孔３１３を模式的に示した断面図である。図１７においては、接着層３４ａ及び加圧室３５は省略されている。
　多孔質板３２の全面において均一にガスを吸引するには、多孔質板３２の貫通孔３２３から吸引するガス流量Ｑ１～Ｑ７を等しくする必要がある。そのため、複数設けられた吸引経路（多孔質板３２の貫通孔３２３及び中板３３の貫通孔３３３）の径がいずれも同じであれば、貫通孔３３３の減圧室３６側の開口端における圧力Ｐ１～Ｐ７を等しくする必要がある。
　そこで、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂでは、吸引経路（多孔質板３２の貫通孔３２３及び中板３３の貫通孔３３３）を細径化し、ガス経路の抵抗を大きくする。このような構成により、多孔質板３２の貫通孔３２３から吸引するガス流量Ｑ１～Ｑ７の合計よりも、減圧用貫通孔３１３を介して減圧室３５から排気されるガス流量Ｑｔが著しく大きくなる。数式で表現すると、Ｑｔ＞＞Ｑ１＋Ｑ２＋Ｑ３＋Ｑ４＋Ｑ５＋Ｑ６＋Ｑ７が成立する。そのため、減圧室３６内の圧力分布が均一になり、圧力Ｐ１～Ｐ７が互いに等しくなる。その結果、多孔質板３２の貫通孔３２３から吸引するガス流量Ｑ１～Ｑ７も互いに等しくなる。なお、実際には、吸引経路（多孔質板３２の貫通孔３２３及び中板３３の貫通孔３３３）の径に加工ばらつきが生じるため、ガス流量Ｑ１～Ｑ７も完全には等しくならず、多少ばらつきが生じる。
　上述した吸引経路（多孔質板３２の貫通孔３２３及び中板３３の貫通孔３３３）の細径化は、吸引経路の全長に亘って細径化する必要はなく、吸引経路の一部を細径化すれば足りる。ここで、耐久性向上やパーティクル抑制の観点から多孔質板３２がセラミックス製であることが好ましい。その場合、加工性の問題から貫通孔３２３を微小径（例えば１ｍｍ以下）にすることが難しい。そのため、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂでは、吸引経路を細径化するに当たり、金属製の中板３３の貫通孔３３３の直径を微小径とし、セラミックス製の多孔質板３２の貫通孔３２３の直径よりも小さくしている。すなわち、上述のガス流量Ｑ１～Ｑ７は、より細い径を有する中板３３の貫通孔３３３の径によって定まり、中板３３の貫通孔３３３の径の加工ばらつきがガス流量Ｑ１～Ｑ７に影響する。
　多孔質板３２の全面において均一にガスを吸引するため、中板３３の貫通孔３３３の直径は、１ｍｍ以下であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがさらに好ましい。他方、セラミックス製の多孔質板３２の貫通孔３２３の直径は、加工を容易にするため、例えば１ｍｍ以上とすることが好ましい。
　上述の通り、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂでは、台座３１の外周縁に上側に突出した立ち上がり部３１２が形成されていると共に、多孔質板３２の外周縁に沿って台座３１の立ち上がり部３１２と嵌合する切欠き部３２１が形成されている。そして、切欠き部３２１と嵌合した立ち上がり部３１２の内壁に沿って内側に、接着層３４ａが形成されている。
　通常、多孔質板３２の切欠き部３２１と台座３１の立ち上がり部３１２とは密着しているため、レーザビームＬＢの照射に伴って発生する紫外線が、接着層３４ａに到達することはない。仮に、切欠き部３２１と立ち上がり部３１２との間に隙間が生じ、当該隙間から紫外線が侵入したとしても、切欠き部３２１と嵌合した立ち上がり部３１２の内側に形成された接着層３４ａまでは到達し難い。従って、接着層３４ａの劣化を効果的に抑制することができる。
　また、実施の形態２に係る浮上ユニット３０ｂでは、中板３３が台座３１の内部に収容されている。そのため、中板３３を台座３１に接着する接着層３４ｄも台座３１の内部に収容されている。従って、接着層３４ｄの劣化を効果的に抑制することができる。
　さらに、中板３３が台座３１の内部に収容されているため、図１０に示した比較例よりも、浮上ユニット３０ｂの厚さ（高さ）を、少なくとも中板３３の厚さｔ２分だけ、小さくすることができる。
　以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は既に述べた実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることはいうまでもない。
　この出願は、２０１６年８月２９日に出願された日本出願特願２０１６－１６６９６２を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
１　レーザ照射装置
１０　レーザ照射部
１１　レーザ発振器
１２　光学系モジュール
２０　局所シール部
３０ａ、３０ｂ　浮上ユニット
３１　台座
３２　多孔質板
３２ａ、３２ｂ　短尺多孔質板
３３　中板
３４、３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ　接着層
３５　加圧室
３６　減圧室
１００　板状ワーク
３１１　加圧用貫通孔
３１２　立ち上がり部
３１３　減圧用貫通孔
３１４　ザグリ溝
３２１　切欠き部
３２３　貫通孔
３２２ａ、３２２ｂ　凸部
３３３　貫通孔

Claims (14)

  1. 　それぞれがガスを上向きに噴射して板状のワークを浮上させると共に、所定の間隔で並べられた第１及び第２の浮上ユニットと、
    　前記第１の浮上ユニットと前記第２の浮上ユニットとの間の間隙において、前記第１の浮上ユニットから前記第２の浮上ユニットに向かって浮上搬送される前記ワークに対して上側からレーザビームを照射するレーザ照射部と、を備え、
    　前記第１及び第２の浮上ユニットは、それぞれ、
    　台座と、
    　前記台座の上面に接着層により接合された多孔質板と、を有し、
    　前記台座が、少なくとも前記間隙に面した外周縁に、上側に突出した立ち上がり部を有すると共に、前記多孔質板が、前記立ち上がり部と嵌合する切欠き部を有し、
    　前記接着層が、前記切欠き部と嵌合した前記立ち上がり部の内壁に沿って形成された、
    レーザ照射装置。
  2. 　前記立ち上がり部が、前記台座の外周縁全体に形成されている、
    請求項１に記載のレーザ照射装置。
  3. 　前記第１及び第２の浮上ユニットは、それぞれ、
    　前記多孔質板と平行に前記台座の内部に収容された中板をさらに備え、
    　前記中板には、前記多孔質板に形成された複数の第１の貫通孔のそれぞれに接続された複数の第２の貫通孔が形成されており、
    　前記多孔質板から噴射するガスを加圧する加圧室と、前記複数の第１及び第２の貫通孔を介してガスを吸引する減圧室とが、前記中板によって仕切られている、
    請求項１に記載のレーザ照射装置。
  4. 　前記減圧室を構成する空洞が前記台座に形成されており、
    　前記空洞の周縁にザグリ溝が形成されており、当該ザグリ溝に前記中板が嵌め込まれ、接着されている、
    請求項３に記載のレーザ照射装置。
  5. 　前記多孔質板がセラミックス製である、
    請求項３に記載のレーザ照射装置。
  6. 　前記中板が金属製であって、
    　前記第１の貫通孔の直径よりも前記第２の貫通孔の直径が小さい、
    請求項５に記載のレーザ照射装置。
  7. 　前記第１の貫通孔の直径が１ｍｍよりも大きく、
    　前記第２の貫通孔の直径が１ｍｍ以下である、
    請求項６に記載のレーザ照射装置。
  8. 　前記多孔質板が、長手方向において第１の板と第２の板とに分割されている、
    請求項５に記載のレーザ照射装置。
  9. 　前記第１の板における前記第２の板との突き合わせ端面の下側に凸部が形成されていると共に、前記第２の板における前記第１の板との突き合わせ端面の上側に凸部が形成されており、
    　前記第１の板の凸部と前記第２の板の凸部との間において、前記第１の板と前記第２の板とが接着されている、
    請求項８に記載のレーザ照射装置。
  10. 　前記ワークが、上面にアモルファスシリコン膜が形成された基板であって、
    　前記アモルファスシリコン膜に前記レーザビームを照射して多結晶化するエキシマレーザアニール装置である、
    請求項１に記載のレーザ照射装置。
  11. 　以下を有するレーザ照射装置：
    （ａ）板状のワークに照射するためのレーザビームを出射するレーザ発振器；及び
    （ｂ）以下を有する、ガスの噴射及び吸引によって前記ワークを浮上させる浮上ユニット：
    （ｂ１）加圧用貫通孔及び減圧用貫通孔が形成された台座；
    （ｂ２）前記台座の上面に位置し、複数の第１の貫通孔が形成された多孔質板；
    （ｂ３）前記多孔質板の下方であって前記台座の内部に収容された、複数の第２の貫通孔が形成された金属製の中板、
    　ここで、
    　前記多孔質板は前記ワークと対向するように配置され、
    　前記多孔質板と前記中板の間の空間に、ガスを加圧するための加圧室が構成され、
    　前記台座と前記中板の間の空間に、ガスを減圧するための減圧室が構成され、
    　前記加圧用貫通孔は前記加圧室に接続され、
    　前記複数の第１の貫通孔は前記複数の第２の貫通孔と接続され、
    　前記減圧用貫通孔及び前記第２の貫通孔は前記減圧室に接続され、
    　前記加圧用貫通孔及び前記多孔質板の気孔を介してガスが噴射され、
    　前記減圧用貫通孔、前記複数の第１及び第２の貫通孔を介してガスが吸引され、
    　前記複数の第１の貫通孔の直径は前記複数の第２の貫通孔の直径より大きい。
  12. 　前記多孔質板がセラミックス製である、
    請求項１１記載のレーザ照射装置。
  13. 　前記減圧室に接続される前記減圧用貫通孔は単数である、
    請求項１１記載のレーザ照射装置。
  14. 　前記ワークが、上面にアモルファスシリコン膜が形成された基板であって、
    　前記アモルファスシリコン膜に前記レーザビームを照射して多結晶化するエキシマレーザアニール装置である、
    請求項１１に記載のレーザ照射装置。
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