JP2004284698A - ワーク搬送装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】搬送、表裏反転時にワーク落下や破損、割れ欠け等を発生させることなく確実にワークを反転させることができ、メカニカル部品を最小限に抑えてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図り、かつ静電気によるワークやプロセスへの悪影響を確実に防止することができるワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】上下一対の第1及び第2搬送ステージ14,15間でガスの噴出と吸引との同時動作により浮上させたワークWの周囲を複数の昇降ピン16により保持した状態で、各搬送ステージを上下反転させ、上側の第1搬送ステージの各昇降ピンの下降に伴って該第1搬送ステージ上から下側の第2搬送ステージ上にワークをガスの噴出と吸引との同時動作により浮上させた状態で受け渡す。
【選択図】 図6

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体、液晶表示素子やELやPDPをはじめとするフラットパネルディスプレイや、太陽電池パネル等を製造する際にガラス基板や半導体ウエハなどのワークを搬送するワーク搬送装置に関し、特に、ワークの裏面処理、或いは両面処理を行うためにワークを円滑に表裏反転させる対策に係わる。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽電池等の製造現場では、ガラス基板や半導体ウエハ(以下、まとめてワークと称する)の洗浄やフォトなどの工程において、ワークの表裏を反転させる必要性が生じた場合には、メカチャック、真空チャック、静電チャックなどのチャック機構を用いてワークの端部を支持したり、ワークの裏面を吸着したりした状態で、ワークを反転させていた。
【0003】
このようなワーク搬送装置としては、図20および図21に示すように、ワークaを4つの搬送位置P1〜P4(搬送位置P1は塗布液塗布後の位置、P2はワーク側面洗浄処理位置、P3は待機位置、P4は後工程位置)に搬送し、搬送位置P1からP2への搬送時にワークaを表裏反転させて搬送するようにしたものがある(例えば、特許文献1参照)。そして、ワークaの表裏反転は、ワークaの周囲を複数個のメカチャック手段b,…のチャックコマcにより所定位置でチャックした状態で、メカチャック手段bの駆動部dを構成している図示しないモータを駆動源として、矢印e方向へ回転駆動することにより行われる。この各チャック手段bのチャックコマによるワークaのチャック動作は、エアシリンダfによる直接駆動によってスライド動作するスライドシャフトgを介して行われる。この場合、ワークの各搬送位置P1〜P4間の受け渡しは、図示しない別のロボットにより行われる。
【0004】
【特許文献1】
特開平10−264071号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来のワーク搬送装置では、ワークaが複数個のメカチャック手段b,…のチャックコマcによりチャックされているため、ワークの大型化に伴いワークに反りが発生すると、チャックの信頼性が低いものとなる。そのため、搬送、表裏反転時のワーク落下や破損、割れ欠け等の問題が発生し易い。しかも、最初からワークに反りがあると、チャックが益々困難となる。
【0006】
また、チャック動作がスライドシャフトgを介して行われるため、スライドシャフトや摺動部、回転駆動部からのパーティクル発生が懸念される。しかも、メカニカル部品が多く装置構成が複雑であるため、故障し易くメンテナンス時の労力も大きい上、装置サイズが大きなものとなる。
【0007】
更に、メカチャックの代わりに真空チャックや静電チャックを用いた場合においても、静電気の発生によってワークやプロセスに影響を与えるおそれもある。
【0008】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、搬送、表裏反転時にワーク落下や破損、割れ欠け等を発生させることなく確実にワークを反転させることができ、メカニカル部品を最小限に抑えてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図り、かつ静電気によるワークやプロセスへの悪影響を確実に防止することができるワーク搬送装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明では、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する一対の搬送ステージを互いに上下方向に対向させて配置し、上記一対の搬送ステージのうちの少なくとも一方の搬送ステージ上にワークの周囲を保持する昇降自在な複数の昇降ピンを設けるとともに、上記一対の搬送ステージを上下反転可能に回転させる回転機構を設ける。そして、上記回転機構により上下反転された上側の搬送ステージでの上記各昇降ピンの下降に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上にワークを受け渡すようにしている。
【0010】
この特定事項により、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により一方の搬送ステージ上に浮上しているワークは、昇降ピンを上昇させることにより周囲が保持された状態で、回転機構により回転させて一対の搬送ステージを上下反転させてから各昇降ピンを下降させると、その下降に伴って、上側にある一方の搬送ステージ上から下側にある他方の搬送ステージ上に該他方の搬送ステージでの流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークの大型化に伴いワークに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により一方の搬送ステージ上に浮上しているワークの周囲が昇降ピンの上昇により保持された状態で円滑に表裏反転されてから上側の搬送ステージでの各昇降ピンの下降に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することが可能となる。
【0011】
また、ワークのチャック動作が昇降ピンによるシンプルな昇降動作のみにより行われ、その周囲からのパーティクル発生が最小限に抑えられる。しかも、メカニカル部品を減らして、故障もし難くメンテナンス時の労力も軽減される上、装置サイズも非常にコンパクトなものとなる。
【0012】
更に、真空チャックや静電チャックを用いたもののように、静電気の発生によってワークやプロセスに悪影響を与えることもない。
【0013】
また、その他の手法としては、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する搬送ステージをワークの搬送方向に互いに対向させるように配置し、上記各搬送ステージ上に、ワークの周囲を保持する昇降自在な複数の昇降ピンを設けるとともに、この各昇降ピンのうちのワーク搬送方向上流側の搬送ステージのワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピンおよびワーク搬送方向下流側の搬送ステージのワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピンを、他の昇降ピンとは別個に昇降動作させるように制御しており、上記ワーク搬送方向上流側の搬送ステージを上下反転方向に180度未満の傾斜角度まで回転させる第1回転機構と、この第1回転機構により回転されたワーク搬送方向上流側の搬送ステージに対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度までワーク搬送方向下流側の搬送ステージを回転させる第2回転機構とを備えている。そして、上記第1回転機構により上下反転方向に回転されたワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピンおよび上記第2回転機構により回転されたワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンの下降動作に伴って、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上にワークを自重により滑らせて受け渡すようにしている。
【0014】
この特定事項により、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上に浮上しているワークは、昇降ピンを上昇させることにより周囲が保持された状態で、第1回転機構により上下反転方向に180度未満の角度まで回転させてワーク搬送方向上流側の搬送ステージを傾斜させてから、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピンおよびワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンを下降させると、その下降に伴って、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上に該ワーク搬送方向下流側の搬送ステージでの流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で自重により滑らせて受け渡される。これにより、ワークの大型化に伴いワークに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上に浮上しているワークの周囲が昇降ピンの上昇により保持された状態で円滑に表裏反転されてから、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピンおよびワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンの下降に伴ってワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上にワークを浮上させた状態で滑らせて受け渡され、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することが可能となる。
【0015】
また、ワークのチャック動作が昇降ピンによるシンプルな昇降動作のみにより行われ、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることが可能となり、メカニカル部品を最小限に抑えて故障も少なくメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることも可能となる。
【0016】
更に、静電気の発生によるワークやプロセスへの悪影響を確実に防止することが可能となる。
【0017】
ここで、各昇降ピンを、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材または防振材により被覆している場合には、ワークを表裏反転させる際にワークの周囲が昇降ピンによってより確実に保持されることになり、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等をより確実に防止することが可能となる。しかも、各昇降ピンによってワークの周囲を保持した際の接触によるワークの損傷を防止することも可能となる。
【0018】
更に、その他の手法としては、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する一対の搬送ステージを互いに上下方向に対向して配置し、この一対の搬送ステージのうちの少なくとも一方の搬送ステージに対しワークを流体の吸引により吸着させた状態で、上記一対の搬送ステージを上下反転可能に回転させる回転機構を備える。そして、上記回転機構により上下反転された上側の搬送ステージ上から流体の吸引解除に伴って下側の搬送ステージ上にワークを受け渡すようにしている。
【0019】
この特定事項により、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により一方の搬送ステージ上に浮上しているワークは、この一方の搬送ステージに対しワークを流体の吸引により吸着させた状態で、回転機構により回転させて一対の搬送ステージを上下反転させてから、上側となった一方の搬送ステージ上から流体の吸引解除させると、その吸引解除に伴って、上側にある一方の搬送ステージ上から下側にある他方の搬送ステージ上に該他方の搬送ステージでの流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークの大型化に伴いワークに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作により一方の搬送ステージ上に浮上しているワークがその一方の搬送ステージ上に流体の吸引により吸着された状態で円滑に表裏反転されてから上側となった一方の搬送ステージでの流体の吸引解除に伴って一方の搬送ステージ上から下側となる他方の搬送ステージ上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することが可能となる。
【0020】
また、ワークのチャック動作が流体の吸引のみにより行われ、メカニカル部品によるワークのチャック動作が不要となってパーティクル発生を可及的に抑えることが可能となり、メカニカル部品をなくしてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることも可能となる。
【0021】
そして、各搬送ステージを上下方向および左右方向に移動可能に支持している場合には、ワークを表裏反転させる際に回転する搬送ステージが付近の部材と干渉することが確実に防止されることになり、ワークの表裏反転を円滑に行うことが可能となる。
【0022】
【発明の実施の形態】
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0023】
<第1の実施の形態>
図1ないし図3は、本発明の第1の実施形態に係わるワーク搬送装置Xを示し、1はワークWを表裏反転させるワーク回転部、2はワーク回転部1にワークWを搬入するワーク搬入部、3はワーク回転部1からワークWを搬出するワーク搬出部である。上記ワーク回転部1、ワーク搬入部2およびワーク搬出部3は、ベース台Xa上に一列に並んで配置されている。この場合、ワークWとしては、半導体、液晶表示素子やELやPDPをはじめとするフラットパネルディスプレイや、太陽電池パネル等を製造する場合のガラス基板や半導体ウエハなどの略矩形状のものが適用される。
【0024】
上記ワーク回転部1は、ベース台Xa上に設置された左右一対の支持脚11(図1ないし図3では紙面手前側のみ示す)と、この支持脚11に対し上下方向に伸縮動する伸縮軸12と、この伸縮軸12の先端に回転軸13を介して回転可能に支持された上下一対の第1および第2搬送ステージ14,15とを備えている。この回転軸13と、図示しないモータとによって、上下一対の第1および第2搬送ステージ14,15を回転させる回転機構が構成されている。そして、上記第1および第2搬送ステージ14,15は、互いに上下方向に対向して配置されている。この第1および第2搬送ステージ14,15の平面視で略矩形状を呈する互いの対向面14a,15aの中央付近には、図示しないガス供給用タンク或いはボンベから供給されるガスを供給通路14b,15b(図4ないし図7に表れる)を介して噴出させる複数のガス噴出口14c,15cと、この各ガス噴出口14c,15cから噴出したガスを吸引する複数のガス吸引口14d,15dとが互いに相隣ならないように交互に設けられている。また、図4ないし図7に示すように、上記各ガス噴出口14c,15cから噴出したガスは、ワークWに衝突したのち各ガス吸引口14d,15dに吸引され、吸引通路14e,15eを介して図示しない排気用ポンプ或いはブロアにより装置外へと排出される。この場合、各ガス噴出口14c,15cから噴出したガスがワークWに衝突することによってワークWに浮上力を作用させ、ワークWが浮上するようになっている。また、図4に示すように、下側に位置する第1搬送ステージ14(対向面14a)の各ガス噴出口14cから噴出したガスのみがワークWに衝突したり、図7に示すように、下側に位置する第2搬送ステージ15(対向面15a)の各ガス噴出口15cから噴出したガスのみがワークWに衝突しても、ワークWに浮上力が作用し、ワークWが浮上する。
【0025】
そして、図8および図9にも示すように、上記第1搬送ステージ14の対向面14aの中央付近の周り、つまり各ガス噴出口14cおよび各ガス吸引口14dの周囲には、その周方向所定間隔置きに複数の昇降自在な昇降ピン16,…が設けられている。この各昇降ピン16は、図示しないアクチュエータによって昇降動し、第1搬送ステージ14上にて浮上しているワークWの周囲を上昇時に保持するようになされている。上記各昇降ピン16の周面は、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材17により被覆されている。また、上記第2搬送ステージ15の対向面15aの中央付近の周り、つまり各ガス噴出口15cおよび各ガス吸引口15dの周囲には、上記各昇降ピン16の先端を嵌入する嵌入穴(図示せず)が該各昇降ピン16に対応して凹設されている。
【0026】
また、図1ないし図3に示すように、上記ワーク搬入部2は、ベース台Xa上に設置された左右一対の支持脚21(図1ないし図3では紙面手前側のみ示す)と、この各支持脚21の先端に固定された搬入ステージ22とを備えている。一方、上記ワーク搬出部3は、ベース台Xa上に設置された左右一対の支持脚31(図1ないし図3では紙面手前側のみ示す)と、この各支持脚31の先端に固定された搬出ステージ32とを備えている。上記搬入ステージ22および搬出ステージ32にも、図示しないガス供給用タンク或いはボンベから供給されるガスを供給通路(図示せず)を介して噴出させる複数のガス噴出口(図示せず)と、この各ガス噴出口から噴出したガスを吸引する複数のガス吸引口(図示せず)とが互いに相隣ならないように交互に設けられている。そして、上記各ガス噴出口から噴出したガスは、ワークWに衝突したのち各ガス吸引口に吸引され、吸引通路(図示せず)を介して図示しない排気用ポンプ或いはブロアにより装置外へと排出される。この場合においても、各ガス噴出口から噴出したガスがワークWに衝突することによってワークWに浮上力を作用させ、ワークWが浮上するようになっている。なお、搬入ステージ22および搬出ステージ32の各ガス噴出口から噴出したガスのみをワークWに衝突させることによって、ワークWに浮上力を作用させてワークWを浮上させるようにしてもよい。
【0027】
次に、搬入ステージ22から搬入されたワークWを表裏反転させてから搬出ステージ32に搬送する手順について説明する。
【0028】
まず、図1および図4に示すように、搬入部2の搬入ステージ22において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬入ステージ22上に浮上させていたワークWがワーク回転部1の下側の第1搬送ステージ14に搬入されると、この第1搬送ステージ14(対向面14a)において、供給通路14bを介して各ガス噴出口14cから噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口14dから吸引通路14eを介して吸引させることによって、第1搬送ステージ14にてワークWが浮上した状態で受け渡される。
【0029】
次いで、図5に示すように、上側の第2搬送ステージ15(対向面15a)において、各供給通路15bを介してガス噴出口15cから噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口15dから吸引通路15eを介して吸引させることによって、ワークWを第1搬送ステージ14と第2搬送ステージ15との間の中立位置に浮遊させてから、第1搬送ステージ14より各昇降ピン16を上昇させ、図6に示すように、各昇降ピン16の先端を第2搬送ステージ15の嵌入穴にそれぞれ嵌入させる。このとき、ワークWは、第1搬送ステージ14と第2搬送ステージ15との間の中立位置に浮上した状態で、各昇降ピン16の周面(緩衝材17)との接触により保持される。
【0030】
その後、図2にも示すように、回転軸13を支点にして第1および第2搬送ステージ14,15を図6の紙面時計回りに180度回転させる。このとき、回転軸13を支点として回転する第1および第2搬送ステージ14,15が、搬入ステージ22または搬出ステージ32と干渉するおそれがある場合には、伸縮軸12を伸長させることで、容易に干渉回避できることになる。
【0031】
それから、図7に示すように、第1搬送ステージ14の各昇降ピン16を下降させるとともに、第1搬送ステージ14における供給通路14bを介した各ガス噴出口14cからのガスの噴出および各ガス吸引口14dからの吸引通路14eを介したガスの吸引を停止することによって、下側となった第2搬送ステージ15での各供給通路15bを介したガス噴出口15cからのガスの噴出および各ガス吸引口15dからの吸引通路15eを介したガスの吸引により該第2搬送ステージ15上にワークWを受け渡す。
【0032】
しかる後、第2搬送ステージ15上に浮上させていたワークWを、搬出部3の搬出ステージ32上に搬送し、この搬出ステージ32上において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬出ステージ32にてワークWが浮上した状態で受け渡される。
【0033】
このとき、第2搬送ステージ15が下側に、第1搬送ステージ14が上側にそれぞれ位置しているが、ワーク搬入部2の搬入ステージ22からの次のワークWは、第2搬送ステージ15上に搬入され、同様の手順でワークWが表裏反転されて第2搬送ステージ15から第1搬送ステージ14に受け渡されると、この第1搬送ステージ14から搬出部3の搬出ステージ32にワークWが搬送されることになる。
【0034】
このように、ガスの噴出と吸引との同時動作により第1搬送ステージ14上に浮上しているワークWは、各昇降ピン16を上昇させることにより周囲が保持された状態で、回転軸13を支点にして紙面時計回りに回転させて一対の第1および第2搬送ステージ14,15を上下反転させてから各昇降ピン16を下降させると、その下降に伴って、上側にある第1搬送ステージ14上から下側にある第2搬送ステージ15上に該第2搬送ステージ15でのガスの噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークWの大型化に伴いワークWに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、ガスの噴出と吸引との同時動作により第1搬送ステージ14上に浮上しているワークWの周囲が各昇降ピン16の上昇により保持された状態で円滑に表裏反転されたのち、上側の第1搬送ステージ14での各昇降ピン16の下降に伴って該第1搬送ステージ14上から下側の第2搬送ステージ15上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークWの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。
【0035】
また、ワークWのチャック動作が各昇降ピン16によるシンプルな昇降動作のみにより行われ、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることができる。しかも、メカニカル部品を減らして、故障もし難くメンテナンス時の労力も軽減できる上、装置サイズも非常にコンパクトなものにすることができる。
【0036】
更に、真空チャックや静電チャックを用いたもののように、静電気の発生によってワークWやプロセスに悪影響を与えることもなく、静電気によるワークWやプロセスへの悪影響を確実に防止することができる。
【0037】
<第2の実施の形態>
次に、本発明の第2の実施形態を図10ないし図13に基づいて説明する。
【0038】
この実施形態では、第1および第2搬送ステージの構成を変更している。なお、第1および第2搬送ステージを除くその他の構成は、上記第1の実施形態の場合と同じであり、同じ部分については同一の符号を付して、その詳細な説明は省略する。
【0039】
すなわち、本実施形態では、図10ないし図13に示すように、ワーク回転部4の第1および第2搬送ステージ41,42の対向面41a,42aの中央付近には、複数の供給通路41b,42bを介してガスを噴出させるガス噴出口41c,42cと、複数の吸引通路41e,42eを介してガスを吸引するガス吸引口41d,42dとが互いに相隣ならないように交互に設けられている。そして、上記第1搬送ステージ41の対向面41aの中央付近の周り、つまり各ガス噴出口41cおよび各ガス吸引口41dの周囲には、昇降ピンが存在しない構成となっている。
【0040】
次に、搬入ステージ22から搬入されたワークWを表裏反転させてから搬出ステージ32に搬送する手順について説明する。
【0041】
まず、図10に示すように、搬入部2の搬入ステージ22上に浮上させていたワークWがワーク回転部1の下側の第1搬送ステージ41に搬入されると、この第1搬送ステージ41(対向面41a)において、供給通路41bを介して各ガス噴出口41cから噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口41dから吸引通路41eを介して吸引させることによって、第1搬送ステージ41にてワークWが浮上した状態で受け渡される。
【0042】
次いで、図11に示すように、各供給通路41bを介したガス噴出口41cからのガスの噴出を停止し、各ガス吸引口41dから吸引通路41eを介してガスを吸引する。
【0043】
その後、図12に示すように、各ガス吸引口41dから吸引通路41eを介したガスの吸引によって、ワークWを第1搬送ステージ41の対向面41a上に吸着させておき、この状態で、回転軸13を支点にして第1および第2搬送ステージ41,42を図12の紙面時計回りに180度回転させる。このとき、回転軸13を支点として回転する第1および第2搬送ステージ41,42が、搬入ステージ22または搬出ステージ32と干渉するおそれがある場合には、伸縮軸12を伸長させることで、容易に干渉回避できることになる。
【0044】
それから、図13に示すように、上側の第1搬送ステージ41での第1各ガス吸引口41dからの吸引通路41eを介したガスの吸引を停止させて、ワークWを自重により落下させるとともに、第2搬送ステージ42において供給通路42bを介して各ガス噴出口42cから噴出したガスをワークWに衝突させつつ各ガス吸引口42dから吸引通路42eを介して吸引させることによって、第2搬送ステージ42上にワークWが浮上した状態で受け渡される。
【0045】
しかる後、第2搬送ステージ15上に浮上させていたワークWを、搬出部3の搬出ステージ32上に搬送し、この搬出ステージ32上において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬出ステージ32にてワークWが浮上した状態で受け渡される。
【0046】
このとき、第2搬送ステージ42が下側に、第1搬送ステージ41が上側にそれぞれ位置しているが、ワーク搬入部2の搬入ステージ22からの次のワークWは、第2搬送ステージ42上に搬入され、同様の手順でワークWが表裏反転されて第2搬送ステージ42から第1搬送ステージ41に受け渡されると、この第1搬送ステージ41から搬出部3の搬出ステージ32にワークWが搬送されることになる。
【0047】
このように、ガスの噴出と吸引との同時動作により下側の第1搬送ステージ41上に浮上しているワークWは、この第1搬送ステージ41に対しワークWをガスの吸引により吸着させた状態で、回転軸13を支点にして紙面時計回りに回転させて一対の第1および第2搬送ステージ41,42を上下反転させてから、上側となった第1搬送ステージ41上でのガスの吸引を停止させると、その吸引停止に伴い自重によって落下し、上側にある第1搬送ステージ41上から下側にある第2搬送ステージ42上に該第2搬送ステージ42でのガスの噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークWの大型化に伴いワークWに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、ガスの噴出と吸引との同時動作により第1搬送ステージ41上に浮上しているワークWがその第1搬送ステージ41の対向面41a上にガスの吸引により吸着された状態で円滑に表裏反転されてから上側となった第1搬送ステージ41でのガスの吸引停止に伴い自重によって第1搬送ステージ41上から下側となる第2搬送ステージ42上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークWの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。
【0048】
また、ワークWのチャック動作が流体の吸引のみにより行われ、メカニカル部品によるワークのチャック動作が不要となってパーティクル発生を可及的に抑えることができ、メカニカル部品をなくしてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることもできる。
【0049】
<第3の実施の形態>
次に、本発明の第3の実施形態を図14ないし図19に基づいて説明する。
【0050】
この実施形態では、ワーク回転部の構成を変更している。なお、ワーク回転部を除くその他の構成は、上記第1の実施形態の場合と同じであり、同じ部分については同一の符号を付して、その詳細な説明は省略する。
【0051】
すなわち、本実施形態では、図14および図15に示すように、ワーク搬入部2とワーク搬出部3との間には、ワーク搬送方向上流側の上流側ワーク回転部5と、ワーク搬送方向下流側の下流側ワーク回転部6とが設けられ、この上流側ワーク回転部5および下流側ワーク回転部6、ワーク搬入部2並びにワーク搬出部3は、ベース台Xa上に一列に並んで配置されている。
【0052】
上記上流側ワーク回転部5は、ベース台Xa上に設置されたワーク搬送方向に延びる左右一対のレール49(図14および図15では紙面手前側のみ示す)のワーク搬送方向上流側(図14および図15では右側)に摺動自在に支持されたスライダ51と、このスライダ51に固着された支持脚52と、この支持脚52に対し上下方向に伸縮動する伸縮軸53と、この伸縮軸53の先端に回転軸54を介して回転可能に支持されたワーク搬送方向上流側の上流側搬送ステージ55とを備えている。この回転軸54と、図示しないモータとによって、上流側搬送ステージ55を回転軸54を支点にして上下反転方向に135°以上180°未満の傾斜角度となるまで図15に示す反時計回りで回転させる第1回転機構が構成されている。また、上記上流側搬送ステージ55は、レール49に沿ってワーク搬送方向(図14および図15では左右方向)に摺動自在に、かつ伸縮軸53によって上下方向に昇降自在に支持されている。
【0053】
一方、上記下流側ワーク回転部6は、ベース台Xa上に設置されたワーク搬送方向に延びる左右一対のレール49のワーク搬送方向下流側(図14および図15では左側)に摺動自在に支持されたスライダ61と、このスライダ61に固着された支持脚62と、この支持脚62に対し上下方向に伸縮動する伸縮軸63と、この伸縮軸63の先端に回転軸64を介して回転可能に支持されたワーク搬送方向上流側の上流側搬送ステージ65とを備えている。この回転軸64と、図示しないモータとによって、第1回転機構により回転された上流側搬送ステージ55に対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度(上流側搬送ステージ55と平行となる傾斜角度)まで下流側搬送ステージ65を回転軸64を支点にして図15に示す反時計回りに回転させる第2回転機構が構成されている。また、上記下流側搬送ステージ65は、レール49に沿ってワーク搬送方向(図14および図15では左右方向)に摺動自在に、かつ伸縮軸63によって上下方向に昇降自在に支持されている。
【0054】
上記上流側および下流側搬送ステージ55,65は平面視で略矩形状を呈し、その中央付近には、図示しないガス供給用タンク或いはボンベから供給されるガスを供給通路55b,65b(図16ないし図19に表れる)を介して噴出させる複数のガス噴出口55c,65cと、この各ガス噴出口55c,65cから噴出したガスを吸引する複数のガス吸引口55d,65dとが互いに相隣ならないように交互に設けられている。また、図16ないし図19に示すように、上記各ガス噴出口55c,65cから噴出したガスは、ワークWに衝突したのち各ガス吸引口55d,65dに吸引され、吸引通路55e,65eを介して図示しない排気用ポンプ或いはブロアにより装置外へと排出される。この場合、各ガス噴出口55c,65cから噴出したガスがワークWに衝突することによってワークWに浮上力を作用させ、ワークWが浮上するようになっている。
【0055】
そして、図8および図9にも示すように、上記上流側および下流側搬送ステージ55,65の中央付近の周り、つまり各ガス噴出口55c,65cおよび各ガス吸引口55d,65dの周囲には、その周方向所定間隔置きに複数の昇降自在な昇降ピン71,…が設けられている。この各昇降ピン71は、図示しないアクチュエータによって昇降動し、上流側搬送ステージ55上にて浮上しているワークWの周囲を上昇時に保持するようになされている。上記各昇降ピン71の周面は、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材72により被覆されている。また、上記各昇降ピン71のうちの上流側搬送ステージ55のワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピン71および下流側搬送ステージ65のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン71は、他の昇降ピン71とは別個に昇降動作するように制御されており、各昇降ピン71を全て上昇させた状態で、上流側搬送ステージ55のワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピン71および下流側搬送ステージ65のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン71のみを下降させることによって、上流側搬送ステージ55上にて浮上しているワークWを下流側搬送ステージ65上に受け渡せるように開放する両搬送ステージ55,65間の搬送経路が構成されるようになっている。そして、上記下流側搬送ステージ65のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン71を除くその他の昇降ピン71は、上流側搬送ステージ55上から下流側搬送ステージ65上に受け渡される際に受け止められるように上昇している。
【0056】
次に、搬入ステージ22から搬入されたワークWを表裏反転させてから搬出ステージ32に搬送する手順について説明する。
【0057】
まず、図14および図16に示すように、搬入部2の搬入ステージ22において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬入ステージ22上に浮上させていたワークWが上流側ワーク回転部5の上流側搬送ステージ55に搬入されると、この上流側搬送ステージ55において、供給通路55bを介して各ガス噴出口55cから噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口55dから吸引通路55eを介して吸引させることによって、上流側搬送ステージ55にてワークWが浮上した状態で受け渡される。
【0058】
次いで、図17に示すように、上流側搬送ステージ55より各昇降ピン71を全て上昇させる。このとき、ワークWは、上流側搬送ステージ55上に浮上した状態で、各昇降ピン71の周面(緩衝材72)との接触により保持される。
【0059】
その後、図18にも示すように、回転軸53を支点にして上流側搬送ステージ55を図18の紙面時計回りに135°〜180°未満の傾斜角度となるまで回転させるとともに、この回転された上流側搬送ステージ55に対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度(上流側搬送ステージ55と平行となる傾斜角度)まで下流側搬送ステージ65を回転軸64を支点にして図18に示す反時計回りに回転させる。このとき、回転軸53を支点として回転する上流側搬送ステージ55および回転軸63を支点として回転する下流側搬送ステージ65が、互いの干渉、もしくは搬入ステージ22または搬出ステージ32と干渉するおそれがある場合には、伸縮軸52,62を伸長させたり、レール49上をスライダ51,61を介して搬送方向に摺動させることで、容易に干渉回避できることになる。
【0060】
それから、図19に示すように、下流側搬送ステージ65のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン71を除くその他の昇降ピン71を上昇させた後、上流側搬送ステージ55のワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピン71のみを下降させて、両搬送ステージ55,65間に搬送経路を構成すると、ワークWは、自身の自重によって、上流側搬送ステージ55のワーク搬送方向下流側から下流側搬送ステージ65上にそのワーク搬送方向上流側を経て滑り込み、下流側搬送ステージ65での各供給通路65bを介したガス噴出口65cからのガスの噴出および各ガス吸引口65dからの吸引通路65eを介したガスの吸引により該下流側搬送ステージ65上にワークWを受け渡す。
【0061】
しかる後、上流側ワーク回転部5の回転軸53を支点にして上流側搬送ステージ55を図18の紙面反時計回りに回転させるとともに、下流側ワーク回転部6の回転軸63を支点にして下流側搬送ステージ65を時計回りに回転させて、図14および図16に示す状態に戻す。このときも、回転軸53を支点として回転する上流側搬送ステージ55および回転軸63を支点として回転する下流側搬送ステージ65が、互いの干渉、もしくは搬入ステージ22または搬出ステージ32と干渉するおそれがある場合には、伸縮軸52,62を伸長させたり、レール49上をスライダ51,61を介して搬送方向に摺動させることで、容易に干渉回避できることになる。
【0062】
その後、上流側搬送ステージ55および下流側搬送ステージ65の各昇降ピン71を全て下降させ、下流側搬送ステージ65上に浮上させていたワークWを、搬出部3の搬出ステージ32上に搬送し、この搬出ステージ32上において、各ガス噴出口から噴出したガスをワークWに衝突させたのち各ガス吸引口に吸引させることによって、搬出ステージ32にてワークWが浮上した状態で受け渡される。
【0063】
このように、ガスの噴出と吸引との同時動作により上流側搬送ステージ55上に浮上しているワークWは、各昇降ピン71を上昇させることにより周囲が保持された状態で、回転軸53を支点にして上流側搬送ステージ55を図18の紙面時計回りに135°〜180°未満の傾斜角度となるまで回転させるとともに、この回転された上流側搬送ステージ55に対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度(上流側搬送ステージ55と平行となる傾斜角度)まで下流側搬送ステージ65を回転軸64を支点にして図18に示す反時計回りに回転させてから、下流側搬送ステージ65のワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピン71を除くその他の昇降ピン71を上昇させた後、上流側搬送ステージ55のワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピン71のみを下降させて両搬送ステージ55,65間に搬送経路を構成すると、自身の自重によって、上流側搬送ステージ55のワーク搬送方向下流側から下流側搬送ステージ65上にそのワーク搬送方向上流側を経て滑り込み、該下流側搬送ステージ65でのガスの噴出と吸引との同時動作により浮上した状態で受け渡される。これにより、ワークWの大型化に伴いワークWに反りが発生していたり最初から反りが発生していても、ガスの噴出と吸引との同時動作により上流側搬送ステージ55上に浮上しているワークWの周囲が各昇降ピン71の上昇により保持された状態で円滑に表裏反転されたのち、両搬送ステージ55,65間での搬送経路の構成に伴って上流側搬送ステージ55上から下流側搬送ステージ65上に浮上した状態で受け渡され、搬送、表裏反転時のワークWの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。
【0064】
また、ワークWのチャック動作が各昇降ピン71によるシンプルな昇降動作のみにより行われ、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることができる。しかも、メカニカル部品を減らして、故障もし難くメンテナンス時の労力も軽減できる上、装置サイズも非常にコンパクトなものにすることができる。
【0065】
更に、真空チャックや静電チャックを用いたもののように、静電気の発生によってワークWやプロセスに悪影響を与えることもなく、静電気によるワークWやプロセスへの悪影響を確実に防止することができる。
【0066】
<他の実施の形態>
本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、その他種々の変形例を包含している。例えば、上記各実施形態では、ワーク回転部1または上流側ワーク回転部5に対するワーク搬入部2でのワークWの搬入、もしくはワーク回転部1または下流側ワーク回転部6からのワーク搬出部2でのワークWの搬出をガスの噴出またはガスの噴出と同時吸引によりワークWを浮上させた状態で行ったが、ワークの導入、排出方法はこれに限定されるものではなく、コロ搬送や、ワークを浮上させないステージ搬送であってもよい。
【0067】
また、上記各実施形態では、ガスの噴出またはガスの噴出と同時吸引によりワークWを浮上させたが、液体の噴出または液体の噴出と同時吸引によりワークを浮上させるようにしてもよく、この場合には、ワークやプロセスに対し液体が悪影響を与えない場合に限られる。
【0068】
そして、上記各実施形態では、略矩形状のワークWを搬送する場合について述べたが、円形状のワークにも適用できるのはもちろんであり、その場合には、昇降ピンの配置を円形状のワークに則して変更すればよい。
【0069】
更に、上記第1実施形態では、第1搬送ステージ14上に複数の昇降ピン16を設けたが、第2搬送ステージ上にのみまたは両搬送ステージ上に複数の昇降ピンが設けられていてもよい。また、複数の昇降ピン16,71によりワークWの周囲を保持したが、開閉式のガイド枠などによってワークの周囲が保持されるようにしてもよい。
【0070】
【発明の効果】
以上、説明したように、各昇降ピンによりワークの周囲を保持した状態で上下一対の搬送ステージを上下反転させ、上側の搬送ステージの各昇降ピンの下降に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上にワークを流体の噴出または噴出と吸引との同時動作により浮上させた状態で受け渡すことで、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。しかも、ワークのチャック動作を昇降ピンによるシンプルな昇降動作のみにより行え、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることができ、メカニカル部品を減らしてメンテナンス時の労力も軽減できる上、装置サイズも非常にコンパクトなものにすることができ、更に、静電気によるワークやプロセスへの悪影響も防止することができる。
【0071】
また、各昇降ピンによりワークの周囲を保持した状態で上下反転方向に回転させたワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピン、およびワーク搬送方向上流側の搬送ステージに対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度まで回転させたワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンの下降動作に伴って、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上にワークを自重により滑らせて浮上させた状態で受け渡すことで、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。また、ワークのチャック動作を昇降ピンによるシンプルな昇降動作のみにより行え、その周囲からのパーティクル発生を最小限に抑えることができ、メカニカル部品を最小限に抑えてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることもでき、更に、静電気の発生によるワークやプロセスへの悪影響を確実に防止することができる。
【0072】
そして、各昇降ピンを、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材または防振材により被覆することで、ワークの周囲を昇降ピンによってより確実に保持して、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等をより確実に防止することができる上、各昇降ピンの接触によるワークの損傷を防止することもできる。
【0073】
また、ワークを下側の搬送ステージに吸着した状態で上下一対の搬送ステージを上下反転させ、上側の搬送ステージ上から流体の吸引解除に伴って下側の搬送ステージ上にワークを浮上した状態で受け渡すことで、搬送、表裏反転時のワークの落下や破損、割れ欠け等を確実に防止することができる。しかも、ワークのチャック動作を流体の吸引のみにより行え、メカニカル部品によるワークのチャック動作を不要にしてパーティクル発生を可及的に抑えることができる上、メカニカル部品をなくしてメンテナンスの簡単化および装置のコンパクト化を図ることもできる。
【0074】
そして、各搬送ステージを上下方向および左右方向に移動可能に支持することで、ワークを表裏反転させる際に回転する搬送ステージと付近の部材との干渉を確実に防止し、ワークの表裏反転を円滑に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係わるワーク回転部にワーク搬入部からワークを搬入する状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図2】同じくワーク回転部においてワークを表裏反転させる状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図3】同じくワーク回転部からワーク搬出部にワークを搬出する状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図4】同じくワーク搬入部から搬入したワークを浮上させている状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図5】同じく第1および第2搬送ステージ間においてワークを浮上させた状態で昇降ピンにより周囲を保持している状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図6】同じく昇降ピンにより周囲を保持したワークを表裏反転させる状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図7】同じく表裏反転させたワークを第2搬送ステージ上にて浮上させている状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図8】同じく第1搬送ステージを対向面側から見た平面図である。
【図9】同じく第1搬送ステージを対向面の斜め上方から見た斜視図である。
【図10】本発明の第2の実施形態に係わるワーク搬入部から搬入したワークを浮上させている状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図11】同じく第1および第2ワーク搬送ステージ間において浮上させていたワークに対し第1搬送ステージでの吸引動作を開始した状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図12】同じく第1搬送ステージ上に吸着させたワークを表裏反転させる状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図13】同じく表裏反転させたワークの吸着を解除して第1および第2搬送ステージ間にてワークを浮上させている状態を示すワーク回転部の側面図である。
【図14】本発明の第3の実施形態に係わる上流側ワーク回転部にワーク搬入部からワークを搬入する状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図15】同じく上流側ワーク回転部から下流側ワーク回転部にワークを受け渡す状態を示すワーク搬送装置の側面図である。
【図16】同じくワーク搬入部から搬入したワークを浮上させている状態を示す上流側ワーク回転部の側面図である。
【図17】同じくワークを浮上させた状態で昇降ピンにより周囲を保持している状態を示す上流側ワーク回転部の側面図である。
【図18】同じく昇降ピンにより周囲を保持したワークを表裏反転させる状態を示す上流側ワーク回転部の側面図である。
【図19】同じく上流側搬送ステージから下流側搬送ステージにワークを受け渡す状態を示す上流側ワーク回転部から下流側ワーク回転部の側面図である。
【図20】従来例に係わるワーク搬送装置の斜視図である。
【図21】同じくメカチャック手段の詳細を示す斜視図である。
【符号の説明】
14 第1搬送ステージ(搬送ステージ)
15 第2搬送ステージ(搬送ステージ)
16 昇降ピン
17 緩衝材
41 第1搬送ステージ(搬送ステージ)
42 第2搬送ステージ(搬送ステージ)
55 上流側搬送ステージ(搬送ステージ)
65 下流側搬送ステージ(搬送ステージ)
71 昇降ピン
72 緩衝材
W ワーク
X ワーク搬送装置

Claims (5)

  1. 流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する一対の搬送ステージが互いに上下方向に対向して配置され、
    上記一対の搬送ステージのうちの少なくとも一方の搬送ステージ上には、ワークの周囲を保持する昇降自在な複数の昇降ピンが設けられており、
    上記一対の搬送ステージを上下反転可能に回転させる回転機構を備えていて、
    上記回転機構により上下反転された上側の搬送ステージでの上記各昇降ピンの下降に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上にワークを受け渡すようになされていることを特徴とするワーク搬送装置。
  2. 流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する搬送ステージがワークの搬送方向に互いに対向するように配置され、
    上記各搬送ステージ上には、ワークの周囲を保持する昇降自在な複数の昇降ピンが設けられているとともに、この各昇降ピンのうちのワーク搬送方向上流側の搬送ステージのワーク搬送方向下流側に対応する昇降ピンおよびワーク搬送方向下流側の搬送ステージのワーク搬送方向上流側に対応する昇降ピンは、他の昇降ピンとは別個に昇降動作するように制御されており、
    上記ワーク搬送方向上流側の搬送ステージを上下反転方向に180度未満の傾斜角度まで回転させる第1回転機構と、この第1回転機構により回転されたワーク搬送方向上流側の搬送ステージに対しワーク搬送方向に対向する傾斜角度までワーク搬送方向下流側の搬送ステージを回転させる第2回転機構とを備えていて、
    上記第1回転機構により上下反転方向に回転されたワーク搬送方向上流側の搬送ステージでのワーク搬送方向下流側の昇降ピンおよび上記第2回転機構により回転されたワーク搬送方向下流側の搬送ステージでのワーク搬送方向上流側の昇降ピンの下降に伴って、ワーク搬送方向上流側の搬送ステージ上からワーク搬送方向下流側の搬送ステージ上にワークを自重により滑らせて受け渡すようになされていることを特徴とするワーク搬送装置。
  3. 請求項1または請求項2に記載のワーク搬送装置において、各昇降ピンは、ゴム、ゲル、樹脂を主原料とする緩衝材または防振材により被覆されていることを特徴とするワーク搬送装置。
  4. 流体の噴出もしくは噴出と吸引との同時動作によりワークを浮上させて搬送する一対の搬送ステージが互いに上下方向に対向して配置され、
    この一対の搬送ステージのうちの少なくとも一方の搬送ステージに対しワークを流体の吸引により吸着させた状態で、上記一対の搬送ステージを上下反転可能に回転させる回転機構を備えていて、
    上記回転機構により上下反転された上側の搬送ステージでの流体の吸引解除に伴って上側の搬送ステージ上から下側の搬送ステージ上にワークを受け渡すようになされていることを特徴とするワーク搬送装置。
  5. 請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載のワーク搬送装置において、
    各搬送ステージは、上下方向および左右方向に移動可能に支持されていることを特徴とするワーク搬送装置。
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