CN1631064A - 用于传输悬浮物品的系统和方法 - Google Patents

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CN1631064A CNA028275586A CN02827558A CN1631064A CN 1631064 A CN1631064 A CN 1631064A CN A028275586 A CNA028275586 A CN A028275586A CN 02827558 A CN02827558 A CN 02827558A CN 1631064 A CN1631064 A CN 1631064A
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Abstract

一种用于将大致平面状的基片，如印刷线路板、平板显示器和互连装置基片以悬浮状态传送到一个扫描或成像位置，并传送基片离开该位置的系统和方法，以及使用这种物品传送系统和方法的扫描和成像系统及方法，这种传送系统包括具有基片压平功能的气流传送装置和扫描/成像装置。

Description

用于传输悬浮物品的系统和方法
相关申请参考
本申请要求获得2001年12月27日提出的美国临时专利申请60/342374的优先权，其公开的全部内容在此被引作参考。
技术领域
本发明总体上涉及物品输送系统及方法，更具体地说，本发明涉及使用该输送系统的成像系统及方法。
技术背景
用于输送适用于激光直接记录系统和检查系统等成像系统的物品的系统及方法，其特征尤其在于具有高度精确和高度可重复的运输速度。而且，这种系统和方法被设置为保持物品相对于成像装置位于精确的预定方位，包括精确的距离，并被设置为将正在成像装置上被运输的物品受其它装载到系统或从系统卸载的物品的机械干扰降至最小。
发明内容
本发明总的方面涉及一种改进的物品输送系统及方法，该系统及方法使用一种在输送过程中悬浮物品的物品悬浮装置。一种压平装置被设置用于确保该物品的悬浮部分在处理过程中相对于处理器被精确保持在一个希望的方位。该压平装置优选以非接触方式工作。
这种输送系统可以被用来传送大致平面状的基片，尤其是在需要满足下列一条或多条要求的地方：运输速度上较高的一致性、基片方位相对于处理器(如图像获取系统或图像生成装置)高度精确、或避免在处理过程中例如因为在该输送系统上装载或卸载其它基片而引起的对基片的干扰。这种系统的典型应用包括平板显示器和电路如印刷线路板和半导体晶片的检查和测试，如自动光学检查、电气测试和功能测试，以及在光敏表面如内制平板显示器、电路、标线片及拍照工具上形成图像。其它典型应用包括用于传送平面薄片物质如金属薄片、平面塑料薄片和任何其它合适的薄片物质的系统。
于是，按照本发明的一个优选实施例，提供了一种与大致平面状的基片一起使用的成像系统，包括用于传送平面状基片到至少一个成像位置的气流传送装置，该气流传送装置至少在成像位置具有气流基片压平功能，还包括一种位于成像位置的成像装置，用于在该平面状基片由气流基片压平功能件压平时使该平面状基片成像。
另外，气流传送装置可以被用于传送平面状基片离开成像位置。
成像装置优选包括一个图像获取装置，如一个可以进行电气测试的自动光学检查装置、度量装置或任何其它合适的图像获取装置。作为替换或作为补充，该成像装置可以包括图像生成装置，如调制激光扫描器。
气流传送装置优选包括一个气流悬浮装置。作为替换或作为补充，该气流传送装置可以包括气流型抑制装置。作为替换或作为补充，该气流传送装置可以包括一个放置装置，用于将平面状基片朝向或/和远离成像位置放置。
气流基片压平功能件优选包括真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括一个气流抽吸装置或出口，用于释放平面状基片下聚集的空气。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。真空型抑制器或气流型抑制装置优选与气流悬浮装置结合使用，以保持基片与参考表面有一个精确的距离。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种与大致平面状的基片一起使用的双面成像系统，包括用于将平面状基片以悬浮状态传送到至少一个成像位置的气流传送装置，还包括位于成像位置的成像装置，用于在该平面状基片由气流传送装置悬浮时使其两相对面成像。
另外，气流传送装置可以被用于传送平面状基片离开成像位置。
成像装置优选包括图像获取装置，如自动光学检查装置。作为替换或作为补充，该成像装置可以包括图像生成装置。作为选择，该成像装置从平面状基片的第一面提供照明并从该基片的反面获取图像。
气流传送装置优选包括气流型抑制装置或真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流传送装置可以包括放置装置，用于将平面状基片朝向或/和远离成像位置放置。
气流基片压平功能件优选包括真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流抽吸装置。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。真空型抑制器或气流型抑制装置优选与气流悬浮装置结合使用，以保持基片与参考表面有一个精确的距离。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种气流传送系统，包括气流产生装置和用于传送平面状基片的气流悬浮传送装置。该气流传送装置优选包括用于放置平面状基片的放置装置和气流基片压平装置，该压平装置至少在悬浮传送装置的一个区域压平悬浮状态的平面状基片。
气流传送装置优选包括气流型抑制装置。
气流基片压平功能件优选包括真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流压平功能包括一个气流抽吸装置。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。真空型抑制器或气流型抑制装置优选与气流悬浮装置结合使用，以保持基片与参考表面有一个精确的距离。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种平板扫描器系统，包括气流传送装置和扫描器，气流传送装置用于把将被扫描的平面状基片传送到至少一个扫描位置，并且至少在扫描位置具有气流基片压平功能件，扫描器位于扫描位置，用于在平面状基片被气流基片压平功能件压平时扫描该平面状基片。
另外，气流传送装置可以被用于传送平面状基片离开成像位置。
扫描器优选部分包括图像获取装置。作为替换或补充，该扫描器可以部分包括图像生成装置。作为选择，该扫描器是使用旋转多面镜的激光扫描器。
平面状基片优选包括光敏层，这里，图像生成装置包括数据调制激光束装置，用于在该光敏层上曝光想要的图案。
气流传送装置优选包括气流悬浮装置。作为替换或作为补充，该气流传送装置可以包括气流型抑制装置或真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流传送装置可以包括放置装置，用于将平面状基片朝向或/和远离成像位置放置。
气流基片压平功能件优选包括真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流抽吸装置。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。真空型抑制器或气流型抑制装置优选与气流悬浮装置结合使用，以保持基片与参考表面有一个精确的距离。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种悬浮传送装置系统，包括悬浮装置和放置装置，悬浮装置用于相对于一个表面悬浮平面状基片，放置装置用于将平面状基片大致平行于该表面放置。该传送装置系统还包括基片压平装置，用于压平悬浮状态的平面状基片。
该悬浮装置优选包括气流悬浮装置。
基片压平装置优选包括正压力装置。作为替换或作为补充，该基片压平装置包括真空或抽吸压力装置，形成低于大气压的压力区域。该压平装置优选与悬浮装置结合使用，以保持基片与该表面有一个精确的距离。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种用于使大致平面状的基片成像的方法，包括：使用气流传送装置传送该平面状基片到至少一个成像位置，该气流传送装置至少在成像位置有气流基片压平功能件；并在该大致平面状的基片被气流基片压平功能件压平时，使用位于成像位置的成像装置使该大致平面状的基片成像。
该传送方法还可以包括传送平面状基片离开成像位置。
该成像方法优选包括图像获取。作为替换或作为补充，该成像方法可以包括图像生成。作为选择，成像方法包括从平面状基片的一面提供照明并从其反面获取图像。
气流传送装置优选包括气流悬浮装置。作为替换或作为补充，该气流传送装置可以包括气流型抑制装置。该气流传送装置优选还包括放置装置，用于将平面状基片朝向或/和远离成像位置放置。
气流基片压平功能件优选包括真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流抽吸装置。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。真空型抑制器或气流型抑制装置优选与气流悬浮装置结合使用，以保持基片与参考表面有一个精确的距离。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种用于使大致平面状的基片双面成像的方法，包括：使用气流传送装置以悬浮状态传送该平面状基片到至少一个成像位置；并在该平面状基片被气流传送装置悬浮时，使用位于成像位置的成像装置使该平面状基片双面成像。
该传送方法还可以包括传送平面状基片离开成像位置。
该成像方法优选包括图像获取。作为替换或作为补充，该成像方法可以包括图像生成。作为选择，成像方法包括从平面状基片的一面提供照明并从其反面获取图像。
气流传送装置优选至少在成像位置包括气流基片压平功能件。作为替换或补充，该气流基片压平功能件包括气流抽吸装置。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。真空型抑制器或气流型抑制装置优选与气流悬浮装置结合使用，以保持基片与参考表面有一个精确的距离。该气流传送装置优选还包括放置装置，用于将平面状基片朝向或/和远离成像位置放置。
该气流基片压平功能件优选包括真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种气流传送方法，包括：使用气流产生装置在大致平面状的基片下产生气垫；使用气流悬浮传送装置传送该平面状基片。该传送方法包括：使用放置装置放置该平面状基片；压平悬浮状态的平面状基片，该压平操作至少在悬浮传送装置的一个区域使用气流基片压平装置。压平操作将该基片的至少一部分以悬浮状态置于给定参考平面。
气流传送装置优选包括气流型抑制装置。气流基片压平功能件优选包括真空型抑制器。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流抽吸装置或出口，用于释放平面状基片下聚集的空气。作为替换或作为补充，该气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。真空型抑制器或气流型抑制装置优选与气流悬浮装置结合使用，以保持基片与参考表面有一个精确的距离。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种扫描大致平面状的基片的方法，包括：使用气流传送装置传送将被扫描的平面状基片到至少一个扫描位置，该气流传送装置至少在扫描位置具有气流基片压平功能件；在该平面状基片被气流基片压平功能件压平时，使用位于扫描位置的扫描装置扫描该平面状基片。
另外，传送方法也可以包括传送平面状基片离开成像位置。
扫描优选部分地包括图像获取。作为替换或作为补充，扫描部分地包括图像生成。
平面状基片优选包括光敏层。图像生成优选包括使用调制激光束装置在该光敏层上曝光想要的图案。
气流传送装置优选包括气流悬浮装置。作为替换或作为补充，该气流传送装置可以包括气流型抑制装置或真空型抑制器。作为替换或作为补充，气流基片压平功能件优选包括气流抽吸装置。真空型抑制器或气流型抑制装置优选与气流悬浮装置结合使用，以保持基片与参考表面有一个精确的距离。
气流传送装置优选还包括放置装置，用于将平面状基片朝向或/和远离成像位置放置。
气流基片压平功能件优选包括气流悬浮装置。作为替换或作为补充，气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。
按照本发明的一个优选实施例，还提供了一种传送大致平面状的基片的悬浮方法，包括：使用悬浮装置相对于一个表面悬浮平面状基片；使用放置装置将该平面状基片大致平行于该表面放置；使用基片压平装置压平悬浮状态的平面状基片。
在本发明的一个实施例中，悬浮包括真空悬浮。
基片压平装置优选包括正压力装置。作为替换或作为补充，该基片压平装置包括真空或抽吸装置，形成低于大气压的压力区域。
附图说明
结合附图阅读下面的详细说明，可以更完全地了解并认识本发明。
图1A是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮传送装置系统的一部分的简图；
图1B是按照本发明另一个优选实施例构成并运行的一种悬浮传送装置系统的一部分的简图；
图2A是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮传送装置系统的简图；
图2B是按照本发明另一个优选实施例构成并运行的一种悬浮传送装置系统的简图；
图3A是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮检查系统的一部分的简图；
图3B是按照本发明另一个优选实施例构成并运行的一种悬浮检查系统的一部分的简图；
图4A是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮成像系统的一部分的简图；
图4B是按照本发明另一个优选实施例构成并运行的一种悬浮成像系统的一部分的简图；
图5A是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮双面成像系统的一部分的简图；
图5B是按照本发明另一个优选实施例构成并运行的一种悬浮双面成像系统的一部分的简图；和
图6是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种电路检查系统简图。
具体实施方式
现在参考图1A，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮传送装置系统的一部分的简图。如图1A所示，大致平面状的基片100由一个来自于多个喷嘴102的压力垫，例如流体流，优选为气流所悬浮，喷嘴102通过歧管104被连接到一个正流体压力源106。
在这里使用的术语“流体流”或“气流”指至少在基片附近形成大于大气压力的压力区域。这样的压力区域可以通过，例如产生活动流体流而形成。作为选择，这样的压力区域可以不通过产生活动流体流而形成，或者可以通过产生少量的活动流体流而形成，例如使用已公开的PCT专利申请WO01/14782 A1、WO 01/14752 A1以及WO 01/19572 A1中说明的装置和方法。在这里使用的术语大致“平面状基片”指任何合适的、大致平面状的薄片物质，例如纸、纸板、金属片、玻璃、玻璃纤维片、明胶、胶片、硅片等。这类物质的使用包括用在平板显示器中支承象素阵列的平面状基片、使用在电路生产中的模板部件、支承部分电路图案的印刷线路板基片、半导体芯片和连接半导体芯片和印刷线路板的连接装置。大致平面状的基片包括已经在其上形成部分平板显示器或电路的平面薄片物质，还包括适用于在其上形成平板显示器部分或电路图案的平面薄片物质。大致平面状的基片可以有一个光敏表面，例如感光性树脂材料布置于其上。
可以知道，当大致平面状的基片100如图1A所示被悬浮时，大致平面状的基片100通常会被弯曲、或者平度不均匀，如附图标记108虚线所示。为了至少在一个给定部分压平该平面状基片100，按照本发明的一个优选实施例设置了优选来自多个喷嘴112的抽吸装置，如反向流体流，优选为空气，喷嘴112通过歧管114被连接到正流体压力源106。在图1A的实施例中，喷嘴112和歧管114与通过喷嘴102提供的压力垫位于平面状基片的相对面。
现在参考图1B，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮传送装置系统的一部分的简图。如图1B所示，大致平面状的基片150由来自于多个喷嘴152的压力垫，例如流体流，优选为气流所悬浮，喷嘴152通过歧管154被连接到正流体压力源156。
可以知道，在这种情况下，大致平面状的基片150通常会被弯曲、或者平度不均匀，如附图标记158虚线所示。为了至少在一个给定部分压平该平面状基片150，按照本发明的一个优选实施例设置了来自于多个喷嘴162的抽吸装置，喷嘴162通过歧管164被连接到正流体压力源166。在图1B的实施例中，喷嘴162和歧管164与通过喷嘴152提供的压力垫位于平面状基片的同一面。在2002年12月27日提出的PCT专利申请PCT/IL02/＿＿中大致说明了悬浮传送装置系统的一个特别实施方式的例子，该系统用于传送平面状基片并结合抽吸装置使用悬浮流体流，该专利申请属于Core Fluid Ltd，题目为“High Performance Non-Contact Support Platforms”(“高性能非接触支撑平台”)(代理人案号1203/20)。其全部公开内容在此被引作参考。
可以知道，作为选择，可以结合合适的物品使用任何其它合适类型的悬浮方式，如磁悬浮。
现在参考图2A，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮传送装置系统的简图。如图2A所示，悬浮传送装置系统优选包括静止悬浮平台200，该悬浮平台包括多个孔202。大致平面状的基片204由来自于多个喷嘴206的压力垫，例如流体流，优选为气流所悬浮，喷嘴206优选与对应的孔202相连，喷嘴206在歧管208中，而歧管208被连接到正流体压力源210。
可以知道，如果没有反向流体流，或其它合适的抑制力，悬浮平面状基片会发生弯曲，或者平度不均匀，如附图标记212和214所示。如图2A所示，在沿着悬浮平台200的一个位置216，即希望平面状基片被压平的地方，按照本发明的一个优选实施例提供了一种反向流体流，优选为气流，它优选来自于多个喷嘴222，并形成反向压力垫，喷嘴222通过歧管224被连接到正流体压力源210。在图2A的实施例中，喷嘴222和歧管224与通过喷嘴206提供的压力垫位于平面状基片204的相对面。
图2A的悬浮传送装置系统优选还包括至少一个放置装置226，用于沿着，优选平行于平台200移动悬浮平面状基片。该放置装置226优选包括平行于平台200设置的轨道228。运载装置230被沿着轨道228驱动，并优选包括夹持件232，该夹持件接合平面状基片204并使它被平行于轨道228放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。需要注意，如果悬浮基片204，例如通过一个压力垫悬浮，可以被容易地侧向放置，放置装置226就不需要支撑基片204的全部重量，并且，放置装置226只需要提供放置功能。
现在参考图2B，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮传送装置系统的简图。如图2B所示，悬浮传送装置系统优选包括静止悬浮平台250，该悬浮平台包括多个孔252。大致平面状的基片254由来自于多个喷嘴256的流体流，优选为气流所悬浮，喷嘴256优选与对应的孔252相连，喷嘴256在歧管258中，而歧管208被连接到正流体压力源260。
可以知道，如果没有反向流体流，或其它合适的抑制力，悬浮平面状基片会发生弯曲，或者平度不均匀，如附图标记262和264所示。如图2B所示，在沿着悬浮平台250的一个位置266，即希望平面状基片被压平的地方，按照本发明的一个优选实施例提供了反向流体流。该反向流可以仅仅由流体抽吸装置所提供，该流体抽吸装置提供出口用于抽吸聚集在平面状基片254和静止悬浮平台250之间的空气。反向流优选为真空流或抽吸，可用于保持平面状基片254的至少一部分位于与平台200的表面相距精确距离的一个平面内。反向流优选通过多个喷嘴272形成，喷嘴272通过歧管274被连接到正流体压力源276。在图2B的实施例中，喷嘴272和歧管274与压力垫位于平面状基片254的同一面，该压力垫通过喷嘴256与合适的孔252相连而形成。
图2B的悬浮传送装置系统还包括至少一个放置装置276，用于沿着，优选平行于平台250移动悬浮平面状基片。该放置装置276优选包括平行于平台250设置的轨道278。运载装置280被沿着轨道278驱动，并优选包括夹持件282，该夹持件接合平面状基片254并使它被平行于轨道278放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。
至少一些喷嘴256和272被连接到适应孔装置，在缺乏与流体流进行可操作性接合的悬浮平面的情况下，该装置可以限制经过喷嘴的流体流，这是图2B实施例的一个特殊的特征。该适应孔装置可以被方便地设置为与平台250中的孔252相连。在下列参考文献中说明了用于通过缩减气流提供压力垫，或抽吸装置的适应孔装置的优选实施例，其公布的全部内容在这里被引作参考：
已公开的PCT专利申请WO 01/14782 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/14752 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/19572 A1。
可以知道，任何其它合适的适应或非适应孔装置可以被使用。
现在参考图3A，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮检查系统的一部分的简图。如图3A所示，悬浮检查系统优选包括静止悬浮平台300，该悬浮平台包括多个孔302。大致平面状的基片304由来自于多个喷嘴306的压力垫，例如流体流，优选为气流所悬浮，喷嘴306优选与对应的孔302相连，并通过歧管308被连接到正流体压力源310。
可以知道，如果没有反向流体流，或其它合适的抑制力，悬浮平面状基片304会发生弯曲，或者平度不均匀，如附图标记312和314所示。如图3A所示，在沿着悬浮平台300的一个检查位置316，运行着检查装置318，如激光扫描器或其它合适的例如大致为白光的光学成像装置，在这里希望平面状基片304被压平或保持在相对于检查装置318的一个精确的给定方位。于是，在本发明的一个优选实施例中设置有反向流，优选为空气，形成反向压力垫，该反向流优选来自于多个喷嘴322，而喷嘴322通过歧管324被连接到正流体压力源310。在图3A的实施例中，喷嘴322和歧管324与通过喷嘴306提供的压力垫位于平面状基片304的相对面。
图3A的悬浮检查系统优选还包括至少一个放置装置326，用于沿着优选平行于平台300移动悬浮平面状基片。该放置装置326优选包括平行于平台300设置的轨道328。运载装置330被沿着轨道328驱动，并优选包括夹持件332，该夹持件接合平面状基片304并使它被平行于轨道328放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。需要注意，如果例如通过压力垫悬浮，基片304可以被容易地侧向放置，放置装置326就不需要支撑基片304的全部重量，并且，放置装置326只需要提供放置功能。
现在参考图3B，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮检查系统的一部分的简图。如图3B所示，悬浮传送系统优选包括静止悬浮平台350，该悬浮平台包括多个孔352。大致平面状的基片354由来自于多个喷嘴356的流体流，优选为气流所悬浮，喷嘴356优选与对应的孔352相连，并通过歧管358被连接到正流体压力源360。
可以知道，如果没有反向流体流，或其它合适的抑制力，悬浮平面状基片会发生弯曲，或者平度不均匀，如附图标记362和364所示。如图3B所示，在沿着悬浮平台350的一个检查位置366，运行着检查装置368，如激光扫描器或其它合适的例如大致为白光的光学成像装置，在这里希望平面状基片被压平或保持在相对于检查装置368的一个给定的方位，例如与检查装置368有精确距离。
于是，在本发明的一个优选实施例中设置有一种反向流。该反向流可以仅仅由流体抽吸装置所提供，该流体抽吸装置提供有出口用于抽吸聚集在平面状基片354和静止悬浮平台350之间的空气。反向流优选为真空流或抽吸，用于保持平面状基片354的至少一部分位于与平台300的表面，或任何其它合适的参考平面相距精确距离的一个平面内。反向流优选通过多个喷嘴372形成，喷嘴372通过歧管374被连接到抽吸源376。在图3B的实施例中，喷嘴372和歧管374与压力垫位于平面状基片354的同一面，该压力垫通过喷嘴356与合适的孔352相连而形成。
图3B的悬浮传送装置系统优选还包括至少一个放置装置376，用于沿着优选平行于平台350移动悬浮平面状基片。该放置装置376优选包括平行于平台350设置的轨道378。运载装置380被沿着轨道378驱动，并优选包括夹持件382，该夹持件接合平面状基片354并使它被平行于轨道378放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。
至少一些喷嘴356和372被连接到适应孔装置，在缺乏与流体流进行可操作性接合的悬浮平面的情况下，该装置可以限制经过喷嘴的流体流，这是图3B实施例的一个特殊的特征。该适应孔装置可以被方便地设置为与平台350中的孔352相连。在下列参考文献中说明了用于通过缩减气流提供压力垫，或抽吸装置的适应孔装置的优选实施例，其公布的全部内容在这里被引作参考：
已公开的PCT专利申请WO 01/14782 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/14752 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/19572 A1。
可以知道，任何其它合适的适应或非适应孔装置可以被使用。
现在参考图4A，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮成像系统的一部分的简图。图4A的成像系统可以是一种图像获取系统或/和图像记录系统。在所说明的实施例中显示了一种图像记录系统，可以理解，所说明的结构也适用于图像获取系统或图像获取与记录系统的组合以及相应的方法。
如图4A所示，悬浮成像系统优选包括静止悬浮平台400，该悬浮平台包括多个孔402。大致平面状的基片404由来自于多个喷嘴406的压力垫，例如流体流，优选为气流所悬浮，喷嘴406优选与对应的孔402相连，并通过歧管408被连接到正流体压力源410。
可以知道，如果没有反向流体流，或其它合适的抑制力，悬浮平面状基片404会发生弯曲，或者平度不均匀，如附图标记412和414所示。如图4A所示，在沿着悬浮平台400的一个成像位置416，设置有成像装置418，如平板绘图仪作为一种直接成像装置，在平面状基片404的表面形成图案，并优选结合具有光敏层的平面状基片。作为选择，成像装置418是激光扫描器，使用旋转多面镜(未示出)在平面状基片404表面扫描经数据调制的激光束。
在成像位置416，希望平面状基片在成像过程中被压平或保持在相对于成像装置418的给定方位。于是，在本发明的一个优选实施例中设置有反向流，优选为空气，形成反向压力垫，该反向流优选来自于多个喷嘴422，而喷嘴422通过歧管424被连接到正流体压力源410。在图4A的实施例中，喷嘴422和歧管424与通过喷嘴406提供的压力垫位于平面状基片404的相对面。
图4A的悬浮成像系统优选还包括至少一个放置装置426，用于沿着优选平行于平台400移动悬浮平面状基片。该放置装置426优选包括平行于平台400设置的轨道428。运载装置430被沿着轨道428驱动，并优选包括夹持件432，该夹持件接合平面状基片404并使它被平行于轨道428放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。需要注意，如果例如通过一个压力垫悬浮，基片404可以被容易地侧向放置，放置装置426就不需要支撑基片404的全部重量，并且放置装置426只需要提供放置功能。
现在参考图4B，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮成像系统的一部分的简图。图4B的成像系统可以是图像获取系统或/和图像记录系统。在所示实施例中显示了一种图像记录系统，可以理解，所示结构也适用于图像获取系统或图像获取与记录系统的组合以及相应的方法，或者任何其它需要基片的一部分与处理站相距非常精确距离的处理装置。
如图4B所示，悬浮成像系统优选包括静止悬浮平台450，该悬浮平台包括多个孔452。大致平面状的基片454由来自于多个喷嘴456的压力垫所悬浮，该压力垫由例如流体流，优选为气流提供，喷嘴456优选与对应的孔452相连，并通过歧管458被连接到正流体压力源460。
可以知道，如果没有反向流体流，或其它合适的抑制力，悬浮平面状基片会发生弯曲，或者平度不均匀，如附图标记462和464所示。如图4B所示，在沿着悬浮平台450的一个成像位置466，设置有成像装置468，如平板绘图仪作为直接成像装置，在平面状基片454的表面形成图案，并优选结合具有光敏层的平面状基片。作为选择，成像装置468是激光扫描器，使用旋转多面镜(未示出)在平面状基片454表面扫描经数据调制的激光束。
在成像位置466，希望平面状基片在成像过程中被压平或保持在相对于成像装置418给定的方位，例如距离成像装置精确距离。于是，在本发明的一个优选实施例中设置有反向流。该反向流可以仅仅由流体抽吸装置所提供，该流体抽吸装置提供有出口用于抽吸聚集在平面状基片454和静止悬浮平台450之间的空气。反向流优选为真空流或抽吸，用于保持平面状基片454的至少一部分位于与平台400的表面相距精确距离的一个平面内。反向流优选通过多个喷嘴472形成，喷嘴472通过歧管474被连接到抽吸源476。在图4B的实施例中，喷嘴472和歧管474与压力垫位于平面状基片454的相对面，该压力垫通过喷嘴456与合适的孔452相连而形成。
图4B的悬浮成像系统优选还包括至少一个放置装置476，用于沿着优选平行于平台450移动悬浮平面状基片。该放置装置476优选包括平行于平台450设置的轨道478。运载装置480被沿着轨道478驱动，并优选包括夹持件482，该夹持件夹持平面状基片454并使它被平行于轨道478放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。
至少一些喷嘴456和472被连接到一个适应孔装置，在缺乏与流体流进行可操作性接合的悬浮平面的情况下，该装置可以限制经过喷嘴的流体流，这是图4B实施例的一个特殊的特征。该适应孔装置可以被方便地设置为与平台450中的孔452相连。在下列参考文献中说明了用于通过缩减气流提供压力垫，或抽吸装置的适应孔装置的优选实施例，其公布的全部内容在这里被引作参考：
已公开的PCT专利申请WO 01/14782 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/14752 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/19572 A1。
可以知道，任何其它合适的适应或非适应孔装置可以被使用。
现在参考图5A，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮双面成像系统的一部分的简图。图5A的双面成像系统可以是一种如用于检查的图像获取系统或/和图像记录系统。在所说明的实施例中显示了一种检查系统，可以理解，所说明的大致结构也适用于任何其它的图像获取系统、图像记录系统、图像获取与记录系统的组合、或用于处理基片的系统以及相应的方法，在该系统中需要基片的一部分与处理平台相距非常精确的距离。
如图5A所示，悬浮双面成像系统优选包括静止悬浮平台500，该悬浮平台包括多个孔502。大致平面状的基片504由来自于多个喷嘴506的压力垫所悬浮，该压力垫由，如流体流，优选为气流提供，喷嘴506优选与对应的孔502相连，并通过歧管508被连接到正流体压力源510。
可以知道，如果没有反向流体流，或其它合适的抑制力，悬浮平面状基片会发生弯曲，或者平度不均匀，如附图标记512和514所示。如图5A所示，在沿着悬浮平台500的一个成像位置516，运行着双面成像装置518。
可以知道，该双面成像装置可以包括一对成像装置或一个集成的双面成像装置。设置用于使基片底面即面对平台500的一面成像的成像装置优选通过间隙或平台500的透明部分观看到平面状基片，该透明部分不受到悬浮和压平功能件的干扰。
在成像位置516，希望平面状基片504在成像过程中被压平或保持在相对于双面成像装置518的给定方位。于是，在本发明的一个优选实施例中设置有反向流，优选为空气，该反向流优选来自于多个喷嘴522，并形成反向压力垫，喷嘴522通过歧管524被连接到正流体压力源510。在图5A的实施例中，喷嘴522和歧管524与通过喷嘴506提供的压力垫位于平面状基片504的相对面。
图5A的悬浮双面成像系统优选还包括放置装置526，用于沿着优选平行于平台500移动悬浮平面状基片。该放置装置526优选包括平行于平台500设置的轨道528。运载装置530被沿着轨道528驱动，并优选包括夹持件532，该夹持件接合基片504并使它被平行于轨道528放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。需要注意，如果例如通过一个压力垫悬浮，基片504可以被容易地侧向放置，放置装置526就不需要支撑基片504的全部重量，并且放置装置526只需要提供放置功能。
现在参考图5B，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种悬浮双面成像系统的简图。图5B的双面成像系统可以是例如一种图像获取系统，如用于检查的或/和图像记录系统。在所说明的实施例中显示了一种检查系统，可以理解，所说明的大致结构也适用于任何其它图像获取系统、图像记录系统、图像获取与记录系统的组合、或用于处理基片的系统以及相应的方法，在该系统中需要基片的一部分与处理平台相距非常精确的距离。
如图5B所示，悬浮双面成像系统优选包括静止悬浮平台550，该悬浮平台包括多个孔552。大致平面状的基片554由来自于多个喷嘴556的压力垫所悬浮，该压力垫由例如流体流，优选为气流提供，喷嘴556优选与对应的孔552相连，并过歧管558被连接到正流体压力源560。
可以知道，如果没有反向流体流，或其它合适的抑制力，悬浮平面状基片554会发生弯曲，或者平度不均匀，如附图标记562和564所示。如图5B所示，在沿着悬浮平台550的一个成像位置566，提供有双面成像装置568。
可以知道，该双面成像装置可以包括一对成像装置或一个集成的双面成像装置、或者照明平面状基片554第一面的照明装置以及获取通过平面状基片的光线图像的成像装置。设置用于使基片底面即面对平台550的一面成像的成像装置优选通过间隙或平台550的透明部分观看到平面状基片，该透明部分不受到悬浮和压平功能件的干扰。
在成像位置566，希望平面状基片554在成像过程中被压平或保持在相对于双面成像装置568给定的方位，例如距离成像装置精确距离。相应地，在本发明的一个优选实施例中设置有反向流。该反向流可以仅仅由流体抽吸装置形成，该流体抽吸装置提供有出口用于抽吸聚集在平面状基片554和静止悬浮平台550之间的空气。反向流优选为真空流，用于保持平面状基片554的至少一部分位于与平台550的表面或任何其它的参考表面相距精确距离的一个平面内。反向流优选通过多个喷嘴572形成，喷嘴572通过歧管574被连接到抽吸源576。在图5B的实施例中，喷嘴572和歧管574与压力垫位于平面状基片554的相对面，该压力垫通过喷嘴556与合适的孔552相连而形成。
图5B的悬浮双面成像系统优选还包括放置装置576，用于沿着优选平行于平台550移动悬浮平面状基片。该放置装置576优选包括平行于平台550设置的轨道578。运载装置580被沿着轨道578驱动，并优选包括夹持件582，该夹持件接合平面状基片554并使它被平行于轨道578放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。
至少一些喷嘴556和572被连接到适应孔装置，在缺乏与流体流进行可操作性接合的悬浮平面的情况下，该装置可以限制经过喷嘴的流体流，这是图5B实施例的一个特殊的特征。该适应孔装置可以被方便地设置为与平台550中的孔552相连。在下列参考文献中说明了用于通过缩减气流提供压力垫，或抽吸装置的适应孔装置的优选实施例，其公布的全部内容在这里被引作参考：
已公开的PCT专利申请WO 01/14782 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/14752 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/19572 A1。
可以知道，任何其它合适的适应或非适应孔装置可以被使用。
现在参考图6，它是按照本发明一个优选实施例构成并运行的一种检查系统的简图，该检查系统特别被用于检查内制平板显示器。如图6所示，静止悬浮平台600被安装在底座602上。平台600优选形成有多个纵向延伸的槽604。布置在槽604内的是两组可选择升高的辊子，用于接收并传送大致平面状的基片606，如内制平板显示器或印刷线路板。
这两组可选择升高的辊子优选包括一个输入组608和一个输出组610，前者接收并传送将要被检查的大致平面状的基片606，后者接收并传送检查后从检查平台612过来的大致平面状的基片606。可以知道，该检查平台可以包括任何合适的光学检查传感器、或用于感测大致平面状的基片606一个想要的物理属性的其它任何合适装置。
设置在槽604内的是多个悬浮喷嘴614，这些喷嘴被用于进行可选择地悬浮大致平面状的基片606。喷嘴614优选通过歧管(未示出)被连接到正流体压力源。
至少一些喷嘴614被连接到适应孔装置，在缺乏与流体流进行可操作性接合的悬浮平面的情况下，该装置可以限制经过喷嘴的流体流，这是图6的实施例的一个特殊的特征。在下列参考文献中说明了适应孔装置的优选实施例，其公布的全部内容在这里被引作参考：
已公开的PCT专利申请WO 01/14782 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/14752 A1
已公开的PCT专利申请WO 01/19572 A1。
在检查站612，希望大致平面状的基片606在运输经过时被压平或保持在相对于平台600(或成像装置，如照相机628)相距精确距离的给定方位。于是，在本发明的一个优选实施例中除了悬浮喷嘴614之外，还设置有反向流体流，优选为抽吸或真空流，该反向流优选来自于多个反向力喷嘴616，这些喷嘴通过歧管(未示出)被连接到抽吸源。在图6的实施例中，反向力喷嘴616位于检查站612的附近，与受到来自于悬浮喷嘴614的流体流冲击的平面电路606一面位于同一面。
图6的检查系统优选还包括放置装置620，用于在可选择升高的辊子被收回槽604中时，沿着优选平行于平台600移动悬浮的大致平面状的基片606。该放置装置620优选包括平行于平台600设置的轨道622。运载装置624被沿着轨道622驱动，并优选包括夹持件626，该夹持件接合平面电路606并使它被平行于轨道622放置。可以知道，作为选择，任何其它合适类型的接触或非接触放置装置，如推动装置、拉动装置，可以被使用。需要注意，如果悬浮基片606例如通过压力垫悬浮，可以被容易地侧向放置，放置装置620就不需要支撑平面状基片606的全部重量，并且放置装置620只需要提供放置功能。
检查站612优选包括多个静止照相机628，它们优选被安装在跨过平台600的第一桥630上，并被连接到图像处理计算机(未示出)。检查站612优选还包括可移动的摄像机632，它优选安装在位于第一桥630下游、横跨平台600的第二桥634上，并被连接到图像后处理计算机(未示出)。可移动的摄像机632优选被用于响应从图像处理计算机接受的输入信号，用于可选择地观察被怀疑有缺陷的大致平面状的基片606的部分。
本领域的技术人员可以知道，本发明并不限于上面特别显示和说明的内容。而且，本发明的范围包括上述各种特征的组合和子组合，还包括本领域技术人员阅读本说明书后作出的不属于现有技术的变化和修改。

Claims (201)

1.一种用于与大致平面状的基片一起使用的成像系统，包括：
气流传送装置，该气流传送装置用于将平面状基片至少传送到一个成像位置，所述平面状基片选自下述的基片组：印刷线路板、平板显示器和互连装置基片，所述气流传送装置至少在所述成像位置有气流基片压平功能件；
图像获取装置，该图像获取装置位于所述成像位置，用于在所述平面状基片由所述气流基片压平功能件压平时对所述平面状基片成像。
2.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括气垫悬浮装置。
3.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括抑制用气垫。
4.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括气垫。
5.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用抽吸装置。
6.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述气流传送装置也被用于传送所述平面状基片离开所述成像位置。
7.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
8.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
9.一种与大致平面状的基片一起使用的双面成像系统，包括：
气流传送装置，该气流传送装置用于以悬浮状态将大致平面状的基片至少传送到一个成像位置，所述平面状基片选自基片组：印刷线路板、平板显示器和互连装置基片；
图像获取装置，该图像获取装置位于所述成像位置，用于在所述平面状基片由所述气流传送装置悬浮时使所述平面状基片双面成像。
10.根据权利要求9所述的成像系统，其中所述气流传送装置至少在所述成像位置包括气流基片压平功能件。
11.根据权利要求9所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括抑制用抽吸装置。
12.根据权利要求10所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用气垫。
13.根据权利要求10所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用抽吸装置。
14.根据权利要求9所述的成像系统，其中所述气流传送装置也被用于传送所述平面状基片离开所述成像位置。
15.根据权利要求9所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
16.根据权利要求9所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
17.一种用于使大致平面状的基片成像的方法，包括：
使用气流传送装置传送平面状基片到至少一个成像位置，所述平面状基片选自基片组：印刷线路板、平板显示器和互连装置基片；
使用气流基片压平装置至少在所述图像获取位置压平所述平面状基片；
在所述平面状基片被所述气流基片压平装置压平时，使用位于所述图像获取位置的成像装置获取所述平面状基片的图像。
18.根据权利要求17所述的方法，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
19.根据权利要求17所述的方法，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
20.根据权利要求17所述的方法，其中所述气流基片压平功能件利用气垫压平。
21.根据权利要求17所述的方法，其中所述气流基片压平功能件利用抽吸装置压平。
22.根据权利要求17所述的方法，其中所述传送包括传送所述平面状基片离开所述图像获取位置。
23.根据权利要求17所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述平面状基片至少朝向所述图像获取位置放置。
24.根据权利要求17所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述平面状基片远离所述图像获取位置放置。
25.一种用于使大致平面状的基片双面成像的方法，包括：
以悬浮状态传送平面状基片到至少一个图像获取位置，所述平面状基片选自基片组：印刷线路板、平板显示器和互连装置基片；和
在所述平面状基片位于所述悬浮状态时，获取所述平面状基片两相对面的图像。
26.根据权利要求25所述的方法，其中传送包括使用气流压平装置至少在所述图像获取位置压平所述平面状基片。
27.根据权利要求25所述的方法，其中所述传送包括利用抑制用垫抑制所述平面状基片。
28.根据权利要求25所述的方法，其中所述压平包括利用抽吸装置压平。
29.根据权利要求25所述的方法，其中所述压平包括利用气垫压平。
30.根据权利要求25所述的方法，其中所述传送还包括传送所述平面状基片离开所述成像位置。
31.根据权利要求25所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
32.根据权利要求25所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
33.一种用于扫描大致平面状的基片的方法，包括：
使用气流传送装置传送要被扫描的、大致平面状的基片到至少一个扫描位置，所述平面状基片选自基片组：印刷线路板、平板显示器和互连装置基片；
使用气流基片压平装置至少在所述扫描位置压平所述平面状基片；和
在所述平面状基片被所述气流基片压平装置压平时，使用位于所述扫描位置的扫描器扫描所述平面状基片，以获取图像。
34.根据权利要求33所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
35.根据权利要求33所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
36.根据权利要求33所述的扫描方法，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用抽吸装置。
37.根据权利要求33所述的扫描方法，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用气垫。
38.根据权利要求33所述的扫描方法，其中所述传送还包括传送所述平面状基片离开所述成像位置。
39.根据权利要求33所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
40.根据权利要求33所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
41.一种悬浮方法，适用于传送印刷线路板、平板显示器和互连装置基片，包括：
使用悬浮装置相对于一个表面悬浮平面状基片，所述平面状基片选自基片组：印刷线路板、平板显示器和互连装置基片；
使用放置装置将所述平面状基片大致平行于所述表面放置；
使用基片压平装置压平悬浮状态的所述平面状基片。
42.根据权利要求41所述的悬浮方法，其中所述使用悬浮装置悬浮包括使用气垫悬浮装置。
43.根据权利要求41所述的悬浮方法，其中所述使用基片压平装置压平包括使用正压力装置压平。
44.根据权利要求41所述的悬浮方法，其中所述使用基片压平装置压平包括使用抽吸装置压平。
45.一种用于制造印刷线路板的方法，包括：
使用气流传送装置传送光敏印刷线路板基片到至少一个成像位置；
使用气流基片压平装置至少在所述成像位置压平所述光敏印刷线路板基片；
在所述印刷线路板基片被所述气流基片压平装置压平时，使用位于所述成像位置的成像装置在所述印刷线路板基片上形成一部分电路的图像。
46.根据权利要求45所述的方法，其中所述传送包括使用气流传送装置传送。
47.根据权利要求45所述的方法，其中所述传送包括使用抑制用垫抑制所述基片。
48.根据权利要求45所述的方法，其中所述压平包括利用气垫压平。
49.根据权利要求45所述的方法，其中所述压平包括利用抽吸压平。
50.根据权利要求45所述的方法，其中所述传送还包括传送所述基片离开所述成像位置。
51.根据权利要求45所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述基片至少朝向所述成像位置放置。
52.根据权利要求45所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述基片远离所述成像位置放置。
53.根据权利要求45所述的方法，其中所述形成图像包括使用调制的激光束装置在所述光敏印刷线路板基片上曝光想要的图案。
54.一种用于制造电路的方法，包括：
在基片上形成一部分电路图案，所述基片选自基片组：印刷线路板、平板显示器和互连装置基片；
使用气流传送装置传送所述基片到至少一个成像位置
当所述基片被气流基片压平装置压平时，获取所述图案的图像；和
分析所述图像以检测电路图案所述部分的缺陷。
55.根据权利要求54所述的方法，其中所述传送包括使用气流传送装置传送。
56.根据权利要求55所述的方法，其中所述获取图像包括当所述基片被压垫至少部分压平时传送所述基片。
57.根据权利要求55所述的方法，其中所述获取图像包括当所述基片通过抽吸至少被部分压平时传送所述基片。
58.根据权利要求54所述的方法，其中所述传送还包括传送所述基片离开所述成像位置。
59.根据权利要求54所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述基片至少朝向所述成像位置放置。
60.根据权利要求54所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述基片远离所述成像位置放置。
61.根据权利要求54所述的方法，其中所述形成图像包括操作光学检查传感器。
62.根据权利要求61所述的方法，其中所述光学检查传感器包括至少一个凝视阵列摄像机。
63.根据权利要求60所述的方法，其中所述光学检查传感器包括扫描摄像机。
64.根据权利要求47所述的方法，其中所述分析包括感测所述基片的想要的物理属性。
65.根据权利要求47所述的方法，其中所述分析包括传输所述图像到图像处理计算机。
66.根据权利要求47所述的方法，其中所述分析包括获取怀疑有缺陷的所述图案的区域的至少一个额外的图像。
67.一种用于与大致平面状的基片一起使用的成像系统，包括：
气流传送装置，该气流传送装置用于传送印刷线路板基片至少到一个成像位置，所述气流传送装置至少在所述成像位置有气流基片压平功能件；和
图像生成装置，该图像生成装置位于所述成像位置，用于在所述平面状基片由所述气流基片压平功能件压平时使所述平面状基片成像。
68.根据权利要求67所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括气垫悬浮装置。
69.根据权利要求67所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括抑制用气垫。
70.根据权利要求67所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括气垫。
71.根据权利要求67所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用抽吸装置。
72.根据权利要求67所述的成像系统，其中所述气流传送装置也被用于传送所述平面状基片离开所述成像位置。
73.根据权利要求67所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
74.根据权利要求67所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
75.一种与大致平面状的基片一起使用的双面成像系统，包括：
气流传送装置，该气流传送装置用于以悬浮状态将印刷线路板基片至少传送到一个成像位置；和
图像生成装置，该图像生成装置位于所述成像位置，用于在所述平面状基片由所述气流传送装置悬浮时使所述平面状基片双面成像。
76.根据权利要求75所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置至少在所述成像位置包括气流基片压平功能件。
77.根据权利要求75所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括抑制用抽吸装置。
78.根据权利要求76所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用气垫。
79.根据权利要求76所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用抽吸装置。
80.根据权利要求75所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置也被用于传送所述平面状基片离开所述成像位置。
81.根据权利要求75所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
82.根据权利要求75所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
83.一种平板扫描器系统，包括：
气流传送装置，该气流传送装置用于传送要被扫描的印刷线路板基片到至少一个扫描位置，所述气流传送装置至少在扫描位置具有气流基片压平功能件；和
扫描器，该扫描器位于扫描位置，用于在所述印刷线路板基片被气流基片压平功能件压平时扫描该基片。
84.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述扫描器形成图像获取装置的一部分。
85.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述扫描器形成图像生成装置的一部分。
86.根据权利要求85所述的成像系统，其中所述平面状基片包括光敏层。
87.根据权利要求86所述的成像系统，其中所述图像生成装置包括调制的激光束装置，用于在所述光敏层上曝光想要的图案。
88.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
89.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
90.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述气流基片压平功能件包括气垫。
91.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用抽吸装置。
92.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置也可以被用于传送所述平面状基片远离所述成像位置。
93.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
94.根据权利要求83所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
95.一种用于使大致平面状的基片成像的方法，包括：
使用气流传送装置传送印刷线路板基片到至少一个图像生成位置；
使用气流基片压平装置至少在所述图像生成位置压平所述印刷线路板基片；
在所述印刷线路板基片被所述气流基片压平装置压平时，使用位于所述图像获取位置的成像装置在所述印刷线路板基片上生成一部分电路的图像。
96.根据权利要求95所述的方法，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
97.根据权利要求95所述的方法，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
98.根据权利要求95所述的方法，其中所述气流基片压平功能件利用气垫压平。
99.根据权利要求95所述的方法，其中所述气流基片压平功能件利用抽吸装置压平。
100.根据权利要求95所述的方法，其中所述传送包括传送所述印刷线路板基片离开所述图像生成位置。
101.根据权利要求95所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述印刷线路板基片至少朝向所述图像生成位置放置。
102.根据权利要求95所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述印刷线路板基片远离所述图像生成位置放置。
103.一种用于使大致平面状的基片双面成像的方法，包括：
以悬浮状态传送印刷线路板基片到至少一个图像生成位置；
在所述印刷线路板基片位于所述悬浮状态时，在所述印刷线路板基片两相对面的生成图像。
104.根据权利要求103所述的方法，其中传送包括使用气流基片压平装置至少在所述图像生成位置压平所述印刷线路板基片。
105.根据权利要求103所述的方法，其中所述传送包括利用抑制用垫抑制所述印刷线路板基片。
106.根据权利要求103所述的方法，其中所述压平包括利用抽吸压平。
107.根据权利要求103所述的方法，其中所述压平包括利用气垫压平。
108.根据权利要求103所述的方法，其中所述传送还包括传送所述印刷线路板基片离开所述成像位置。
109.根据权利要求103所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述印刷线路板基片至少朝向所述成像位置放置。
110.根据权利要求103所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述印刷线路板基片远离所述成像位置放置。
111.一种用于扫描印刷线路板基片的方法，包括：
使用气流传送装置传送要被扫描的印刷线路板基片到至少一个扫描位置；
使用气流基片压平装置至少在所述扫描位置压平所述印刷线路板基片；
在所述平面状基片被所述气流基片压平装置压平时，使用位于所述扫描位置的扫描器扫描所述平面状基片，以生成一部分电路的图像。
112.根据权利要求111所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
113.根据权利要求111所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
114.根据权利要求111所述的扫描方法，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用抽吸装置。
115.根据权利要求111所述的扫描方法，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用气垫。
116.根据权利要求111所述的扫描方法，其中所述传送还包括传送所述印刷线路板基片离开所述成像位置。
117.根据权利要求111所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述印刷线路板基片至少朝向所述成像位置放置。
118.根据权利要求111所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述印刷线路板基片远离所述成像位置放置。
119.一种用于与大致平面状的基片一起使用的成像系统，包括：
气流传送装置，该气流传送装置用于传送平面状基片至少到一个成像位置，所述气流传送装置至少在所述成像位置有气流基片压平功能件；和
成像装置，该成像装置位于所述成像位置，用于在所述平面状基片由所述气流基片压平功能件压平时使所述平面状基片成像。
120.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述成像装置为图像获取装置。
121.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述成像装置为图像生成装置。
122.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
123.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
124.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括气流悬浮装置。
125.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。
126.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述气流传送装置也被用于传送所述平面状基片离开所述成像位置。
127.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
128.根据权利要求119所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
129.一种与大致平面状的基片一起使用的双面成像系统，包括：
气流传送装置，该气流传送装置用于以悬浮状态将大致平面状的基片至少传送到一个成像位置；
成像装置，该成像装置位于所述成像位置，用于在所述平面状基片由所述气流传送装置悬浮时使所述平面状基片双面成像。
130.根据权利要求129所述的成像系统，其中所述成像装置为图像获取装置。
131.根据权利要求129所述的成像系统，其中所述成像装置为种图像生成装置。
132.根据权利要求129所述的成像系统，其中所述气流传送装置至少在所述成像位置包括气流基片压平功能件。
133.根据权利要求129所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
134.根据权利要求132所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括气流悬浮装置。
135.根据权利要求132所述的成像系统，其中所述气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。
136.根据权利要求129所述的成像系统，其中所述气流传送装置也被用于传送所述平面状基片离开所述成像位置。
137.根据权利要求129所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
138.根据权利要求129所述的成像系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
139.一种平板扫描器系统，包括：
气流传送装置，该气流传送装置用于传送要被扫描的平面状基片到至少一个扫描位置，所述气流传送装置至少在扫描位置具有气流基片压平功能件；
扫描器，该扫描器位于所述扫描位置，用于在所述平面状基片被气流基片压平功能件压平时扫描该基片。
140.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述扫描器形成图像获取装置的一部分。
141.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述扫描器形成图像生成装置的一部分。
142.根据权利要求141所述的成像系统，其中所述平面状基片包括光敏层。
143.根据权利要求142所述的成像系统，其中所述图像生成装置包括调制的激光束装置，用于在所述光敏层上曝光想要的图案。
144.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
145.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
146.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述气流基片压平功能件包括气流悬浮装置。
147.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。
148.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置也可以被用于传送所述平面状基片远离所述成像位置。
149.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
150.根据权利要求139所述的平板扫描器系统，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
151.一种用于使大致平面状的基片成像的方法，包括：
使用气流传送装置传送所述平面状基片到至少一个成像位置；
使用气流基片压平装置至少在所述成像位置压平所述平面状基片；
在所述平面状基片被所述气流基片压平装置压平时，使用位于所述成像位置的成像装置生成所述平面状基片的图像。
152.根据权利要求151所述的方法，其中所述成像包括获取图像。
153.根据权利要求151所述的方法，其中所述成像包括生成图像。
154.根据权利要求151所述的方法，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
155.根据权利要求151所述的方法，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
156.根据权利要求151所述的方法，其中所述气流基片压平功能件包括气流悬浮装置。
157.根据权利要求151所述的方法，其中所述气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。
158.根据权利要求151所述的方法，其中所述传送包括传送所述平面状基片离开所述成像位置。
159.根据权利要求151所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
160.根据权利要求151所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
161.一种用于使大致平面状的基片双面成像的方法，包括：
以悬浮状态传送所述平面状基片到至少一个成像位置；
在所述平面状基片位于所述悬浮状态时，对所述平面状基片两相对面成像。
162.根据权利要求161所述的方法，其中所述成像包括图像获取。
163.根据权利要求161所述的方法，其中所述成像包括图像生成。
164.根据权利要求161所述的方法，其中所述传送包括使用气流基片压平装置至少在所述成像位置压平所述平面状基片。
165.根据权利要求161所述的方法，其中所述传送包括利用气流型抑制装置抑制所述平面状基片。
166.根据权利要求161所述的方法，其中所述压平包括利用气流悬浮装置压平。
167.根据权利要求161所述的方法，其中所述空气压平包括利用气流型抑制装置压平。
168.根据权利要求161所述的方法，其中所述传送还包括传送所述平面状基片离开所述成像位置。
169.根据权利要求161所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
170.根据权利要求161所述的方法，其中所述传送包括以悬浮状态将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
171.一种用于扫描大致平面状的基片的方法，包括：
使用气流传送装置传送要被扫描的平面状基片到至少一个扫描位置；
使用气流基片压平装置至少在所述扫描位置压平所述平面状基片；
在所述平面状基片被所述气流基片压平装置压平时，使用位于所述扫描位置的扫描器扫描所述平面状基片。
172.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述扫描部分部分地包括图像获取。
173.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述扫描部分部分地包括图像生成。
174.根据权利要求173所述的扫描方法，其中所述平面状基片包括光敏层。
175.根据权利要求174所述的扫描方法，其中所述图像生成包括使用调制的激光束装置在所述光敏层上曝光想要的图案。
176.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括气流悬浮装置。
177.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括气流型抑制装置。
178.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述气流基片压平功能件包括气流悬浮装置。
179.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述气流基片压平功能件包括气流型抑制装置。
180.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述传送还包括传送所述平面状基片离开所述成像位置。
181.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片至少朝向所述成像位置放置。
182.根据权利要求171所述的扫描方法，其中所述气流传送装置包括放置装置，用于将所述平面状基片远离所述成像位置放置。
183.一种悬浮方法，适用于传送大致平面状的基片，包括：
使用悬浮装置相对于一个表面悬浮平面状基片；
使用放置装置将所述平面状基片大致平行于所述表面放置；
使用基片压平装置压平悬浮状态的所述平面状基片。
184.根据权利要求183所述的悬浮方法，其中所述使用悬浮装置悬浮包括使用真空悬浮装置。
185.根据权利要求183所述的悬浮方法，其中所述使用基片压平装置压平包括使用正压力装置压平。
186.根据权利要求183所述的悬浮方法，其中所述使用基片压平装置压平包括使用抽吸装置压平。
187.一种气流传送装置系统，包括：气流产生装置；和气流悬浮装置，该气流悬浮装置用于以悬浮状态传送平面状基片，所述气流悬浮装置包括：
气流平台，该气流平台使用气垫功能件来悬浮所述平面基体；
放置装置，该放置装置用于放置所述平面基体；
气流基片压平装置，该装置用于至少在所述悬浮传送装置的一个区域压平悬浮状态的平面状基片。
188.根据权利要求187所述的气流传送装置系统，其中所述气流传送装置包括抑制用气垫。
189.根据权利要求187所述的气流传送装置系统，其中所述气流基片压平功能件包括抑制用气垫。
190.根据权利要求187所述的气流传送装置系统，其中所述气流基片压平装置包括抑制用抽吸装置。
191.根据权利要求190所述的气流传送装置，其中所述抑制用抽吸装置被设置在所述基片的与所述气流平台相同的一侧。
192.一种悬浮传送装置系统，包括：
悬浮装置，该装置用于相对于一个表面悬浮平面状基片；
放置装置，该装置用于将悬浮状态的所述平面状基片大致平行于所述表面放置；
基片压平装置，该装置用于压平悬浮状态的所述平面状基片。
193.根据权利要求192所述的悬浮传送装置系统，其中所述悬浮装置包括气垫产生装置。
194.根据权利要求192所述的悬浮传送装置系统，其中所述基片压平装置包括正压力装置。
195.根据权利要求193所述的悬浮传送装置系统，其中所述基片压平装置包括正压力装置。
196.根据权利要求192所述的悬浮传送装置系统，其中所述基片压平装置包括抑制用抽吸装置。
197.根据权利要求193所述的悬浮传送装置系统，其中所述基片压平装置包括抑制用抽吸装置。
198.一种气流传送方法，包括：使用气流产生装置产生气流；和使用气流悬浮传送装置传送平面状基片，所述传送包括：
通过使用气浮功能件的气流平台悬浮所述平面状基片；
使用放置装置放置所述平面基体；和
使用气流基片压平装置至少在所述悬浮传送装置的一个区域压平悬浮状态的平面状基片。
199.根据权利要求198所述的方法，其中所述传送包括在所述平面状基片由抑制用气垫抑制时传送所述平面状基片。
200.根据权利要求198所述的方法，其中所述压平包括使用抽吸压平装置压平。
201.根据权利要求198所述的方法，其中所述压平包括使用抑制用气垫压平。
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