TWI222423B - System and methods for conveying and transporting levitated articles - Google Patents

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TWI222423B
TWI222423B TW091101132A TW91101132A TWI222423B TW I222423 B TWI222423 B TW I222423B TW 091101132 A TW091101132 A TW 091101132A TW 91101132 A TW91101132 A TW 91101132A TW I222423 B TWI222423 B TW I222423B
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TW091101132A
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Raanan Adin
Yuval Yassour
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Orbotech Ltd
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1222423 A7 B7 五、發明説明（ 發明範疇 本發明一般而言與物體輸送、運送系統及方法有關，與 使用此輸送、運送系統之成像系統及方法尤其有關。 發明背景 運送及輸送物體之系統及方法，適用於成像系統，如雷 射直接寫入系統與檢視系統，尤以運輸之高精確率與高可 重複率為其特徵。此外，該系統及方法被安裝，以將物體 精確地維持在既定的位置，包含相對於成像機之精確距 離，並且當物體在成像機上運送時，該系統及方法被安 裝，以將其它物體裝載至系統或由系統卸下對該物體所產 生之機械干擾減至最少。 發明概要： 本發明之通用態樣與改良之物體輸送、運送系統及方法 有關，泫系統及方法使用一物體漂浮器，使物體在輸送及 運送的過程中能夠漂浮起來。平坦器用來確保物體之漂浮 部分在處理過程中能精確地保持在吾人所希望，相對於處 理器的位置。平坦器係較佳地以非接觸的方式操作。 該輸送及運送系統一般而言可用於輸送及傳送平面基 板，尤其可滿足下列之一或多項要求：在輸送速率上有相 當高的一敖性，基板相對於處理器（如影像擷取系統或影像 生成器）的位置具有高度精確性，或是在處理過程中（例如 將其它基板裝載至輸送、運送系統或由該系統卸下）避免對 基板所產生的干擾。此類系統之典型應用包含對於平面顯 不器與電路（如印刷電路板及半導體晶圓）的檢視及試驗， -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公羡) 1222423
發明説明（ 如自動化光學檢視、雷名4i 電虱试驗、及功能試驗，以及在感光 性表面（如平面顯示器逮嫌％ 貝丁态遷構物、電路、網面、及攝影用具 ^之影像生成。其它典型應用包含運送平面薄板（如金屬 、泊' 平面塑膠薄板、及其它合適的薄板材料)之系統。 圖式簡單說明 本發明可透過以下之詳細描述並結合圖式，而有更完整 的了解，其中·· 圖1A為』不出部分漂浮輸送帶系、統之簡化圖，該系統依 本發明之一較佳實例建構及操作； 圖1B為”、’S tf出部分漂浮輸送帶系統之簡化圖，該系統依 本發明之另一較佳實例建構及操作； 圖2A為漂浮輪详黑冬μ ^ 叛送f糸統之間化圖，該系統依本發明之一 幸乂佳貫例建構及操作； 圖2B為漂浮給#册么 输^ f系統之簡化圖，該系統依本發明之另 一較佳實例建構及操作； 义圖3A為顯示出部分漂浮檢視系統之簡化圖 电明之一較佳實例建構及操作； 圖38為顯示出部分漂浮檢視系統之簡化圖 明之另—較佳實例建構及操作； 顯示㈣分漂浮成像系統之簡化圖 發明之一較佳實例建構及操作； ^ 4B為顯不出部分漂浮成像系統之簡化圖 之另—較佳實例建構及操作； 圖5A為顯示出部分漂浮雙面成像系統之簡化圖，該系統 该糸統依本 該系統依本 該系統依本 这糸統依本 裝 訂 &張尺度適用 -5- 10X297公釐） 1222423 A7 ---—______B7 五、發明^ ( 3 ) ---- 依本發明之一較佳實例建構及操作； 圖5B為顯不出部分漂浮雙面成像系統之簡化圖，該系統 依本發明之另一較佳實例建構及操作；及 圖6為電路檢視系統之簡化圖，該系統依本發明之一較佳 實例建構及操作。 較佳具體實例詳述 請參考圖1A，為顯示出部分漂浮輸送帶系統之簡化圖， 該系統依本發明之一較佳實例建構及操作。如圖1A中所 示，一塊大致為平面的基板1〇〇由於一股流體（最好為空氣） 從經由歧管104連接至正向流體壓力源ι〇6之複數噴嘴1〇2噴 出而漂浮。 本文所提到的大致為「平面的基板」可用來指任何合適 的、大致為平面的薄板材料，例如紙、硬紙板、金屬薄 板、玻璃、玻璃纖維、明膠、薄膜膠片' 矽晶圓等類似 物。此類材料的使用包含使用在平面顯示器中，具有像素 陣列之平面基板，使用在電路製作中之遮罩作業，具有部 分電路圖樣之印刷電路板，以及半導體晶片。大致為平面 的基板包含了已形成上文所提及之一部分平面顯示器或電 路的平面金屬薄板，也包含適合形成上文所提及之一部分 平面顯示器或電路圖樣的平面金屬薄板。 吾人應了解，當大致為平面的基板100如圖1A所示呈漂浮 狀態時，通常該平面基板100會被弄彎，或是呈現不均勾的 平坦狀態，如參考標號108之虛線所示。為了使平面基板 100被整平（至少使圖中所示之部分被整平），依照本發明之 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1222423
較佳實例提供了 一股反向流動的流體（最好為空氣），係較 佳地從經由歧管Π4連接至正向流體壓力源106之複數噴嘴 112喷出。在圖ία之實例中，噴嘴112與歧管114位於平面基 板100的一面，與受到噴嘴1 〇2沖擊的面相反。 請參考圖1B，為顯示出部分漂浮輸送帶系統之簡化圖， 該系統依本發明之另一較佳實例建構及操作。如圖1B中所 示，一塊大致為平面的基板150由於一股流體（最好為空氣） 從、纟i由歧管1 5 4連接至正向流體壓力源15 6之複數喷嘴1 $ 2噴 出而漂浮。 ' 吾人應了解，在這樣的情況下，通常平面基板i 5〇會被弄 彎，或是呈現不均勻的平坦狀態，如參考標號158之虛線所 示。為了使平面基板150被整平（至少使圖中所示之部分被 整平），依照本發明之較佳實例提供了 一股反向流動的流體 (最好為空氣），係較佳地從經由歧管164連接至逆向流體壓 力源166之複數嘴嘴162抽吸。在圖1B之實例中，噴嘴162與 歧管164位於平面基板15〇的一面，與受到喷嘴I〗〕沖擊的面 同側。 吾人應了解，任何其它型式的漂浮均係可替代地與合適 的物體配合使用，例如磁力式漂浮。 請參考圖2A，為漂浮輸送帶系統之簡化圖，該系統依本 發明之一較佳實例建構及操作。如圖2 A中所示，該漂浮輸 送帶系統包含一靜止的漂浮檯2〇〇，該漂浮檯包含複數個孔 洞202 塊大致為平面的基板204由於一股流體（最好為空 氣）從連接至正向流體壓力源21〇之歧管2〇8中的複數噴嘴 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS) A4規格(210X297公爱)
裝
1222423 A7 —一______ B7 五、發明説明（7 ) -已發表之專利合作合約（PCT)專利申請案第W〇 〇1/14782八丨號 -已發表之專利合作合約（PCT)專利申請案第W〇 〇1/14752八丨號 -已發表之專利合作合約（PCT)專利申請案第wo 01/19572 A1號 以上該案之全文以引用的方式併入本文中。 吾人應了解’任何其它合適的適應性或非適應性裝置均 可以使用。 請參考圖3A，為顯示出部分漂浮檢視系統之簡化圖，該 系統依本發明之一較佳實例建構及操作。如圖3 A中所示， 該漂浮檢視系統最好.包含一靜止的漂浮檯3 〇〇，該漂浮檯包 含複數個孔洞302。一塊大致為平面的基板3〇4由於一股流 體（最好為空氣）從經由歧管3〇8連接至正向流體壓力源31〇 之複數噴嘴306噴出而漂浮，噴嘴係較佳地與相關的孔洞 302連通。 吾人應了解，若沒有反向流動的流體，或其它合適的下 拉力存在’漂浮的平面基板304可能會被弄彎，或是呈現不 均勻的平坦狀態，如參考標號312及3 14所示。如圖3A中所 示’沿著漂浮檯300之檢視位置3 16，於檢視裝置3 1 8 (例如 雷射掃描器，或其它如大致為白色的燈光、光學影像生成 器等合適的裝置）運作處，平面基板3〇4應該要被整平，或 是相對於檢視裝置3 1 8要能精確地保持在既定位置。依照本 發明之較佳實例，提供了 一股反向流動的流體（最好為空 氣），係較佳地從經由歧管324連接至正向流體壓力源31〇之 複數噴嘴322喷出。在圖3 A之實例中，噴嘴322與歧管324位 於平面基板3 04的一面，與受到噴嘴3 〇6沖擊的面反向。 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1222423
圖3A之漂浮檢視系統係較佳地包含至少一個移位器326， 使漂浮的平面基板（最好為平行地）沿著漂浮檯3〇〇移動。移 位器326係較佳地包含一滑執328與漂浮檯3〇〇平行而置。一 個滑動件330沿著滑執328驅動，並且係較佳地包含了握夾 332，可夾住平面基板3〇4並使其沿著滑執328平行移動。吾 人應了解，任何其它合適型式的接觸式或非接觸式移位器 均係可替代地使用，例如推進器或曳引器。 請參考圖3B ,為顯示出部分漂浮檢視系統之簡化圖，該 系統依本發明之一較佳實例建構及操作。如圖3B中所示， 該漂浮檢視系統包含一靜止的漂浮檯35〇，該漂浮檯包含複 數個孔洞352。一塊大致為平面的基板354由於一股流體（最 好為空氣）從經由歧管358連接至正向流體壓力源36〇之複數 噴嘴356噴出而漂浮，噴嘴係較佳地與相關的孔洞352連 通。 吾人應了解，若沒有反向流動的流體，或其它合適的 拉力存在，漂浮的平面基板可能會被弄彎，或是呈現不 勻的平坦狀態，如參考標號362及364所示。如圖3B中 :，沿著漂浮檯350之檢視位置366，於檢視裝置368 (例 2射掃描器，或其它如大致為白色的燈光、光學影像生 益等合適的裝置）運作處，平面基板應該要被整平，或是 對於檢視裝置368要能保持在既定位置（例如與檢視裝置 持一段精確的距離）。 :依照本發明之較佳實例，提供了一股反向流動的流體 該反向流動可單純地成為流體排出器，將累積在平面基
裝
k -11- 1222423 A7
可以使用。 系!顯示_漂浮成像系統之簡化圖，該 :二X t較佳實例建構及操作。圖4Α所示之成像 ^可以是影㈣取系統或影像“系統，或兩者皆是 :::所繪之實例圖顯示的是影像寫入系统， 結構當然也適用於影像揭取系、统，或是結令影 像擷取與寫入之糸統、及其對應之方式。 s如圖4A中所示，該漂浮成像系統最好包含-靜止的漂浮 & 400’該漂料包含複數個孔润術…塊大致為平面的 基板404由於一股流體（最好為空氣）從經由歧管4〇8連接至 正向流體壓力源41G之複數噴嘴彻噴出而漂浮，㈣係較 佳地與相關的孔洞402連通。 吾人應了解，若沒有反向流動的流體，或其它合適的下 拉力存在，漂浮的平面基板4〇4可能會被弄彎，或是呈現不 均勻的平坦狀態，如參考標號412及414所示。如圖4A中所 示，沿著漂浮檯4〇0<成像位置416,有_成像裝置418，例 如平面式繪圖機，可作為在平面基板4〇4表面產生圖樣之直 接影像生成器，該平面基板最好具有感光層。成像裝置418 係可選擇地為使用一多邊形（圖中未晝出）來掃描越過平面 基板404表®之資料調變雷射光束的雷射掃描器。 在成像位置416處，平面基板在成像時應該要被整平，或 是相對於成像裝置41 8要能保持在既定位置。依照本發明之 較佳實例’提供了 一股反向流動的流體（最好為空氣），係 較佳地從經由歧管424連接至正向流體壓力源41〇之複數嘴 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 1222423 五、發明説明（11 嘴422喷出。在圖4A之實例中， 基板404的-面，與受到喷嘴4〇6沖擊2面歧管似位於平面 圖4A之漂浮成像系統係較 反：。 使漂浮的平面基板（最好為平) 一個移位器426, 位哭49 6孫浐# α — 丁 沿著漂浮檯400移動。移 位以26係权佳地包含—滑軌4 ㈣秒 個滑動件430沿著滑軌428驅動，並;^彻平行而置。一 432，可夾住平面基板綱並使其且地包含了握爽 1 0 T JHr 1 八 β執428平行移動。吾 人應了解，任何其它合適型式的 ^ ^ ^ ^ ^ . Λ的接觸式或非接觸式移位器 勾係可#代地使用，例如推進器或曳引器。 裝 么請參考圖4Β，為顯示出部分漂浮成像"系統之簡化圖，該 :統依本發明之一較佳實例建構及操作。圖4Β所示之成像 糸統可以是影像擷取系統或影像寫入系統，或兩者皆是。 本發明所繪之實例圖顯示的是影像寫入系統，然而在本文 中所描述的結構當然也適用於影像擷取系统，或是結合影 像擷取與寫入之系統、及其對應之方式。 、 如圖4Β中所示，該漂浮成像系統包含—靜止的漂浮檯 450，該漂浮檯包含複數個孔洞452…塊大致為平面的基 板454由於一股流體（最好為空氣）從經由歧管458連接至正 向流體壓力源460之複數喷嘴456噴出而漂浮，噴嘴係較佳 地與相關的孔洞452連通。 吾人應了解，若沒有反向流動的流體，或其它合適的下 拉力存在，漂浮的平面基板可能會被弄彎，或是呈現不均 勻的平坦狀態，如參考標號462及464所示。如圖4Β中所 示’沿著漂浮檯450之成像位置466，有一成像裝置468，例 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 1222423
效夾合時，對流經該處之流體產生限制。適應性孔洞裝置 可便利地位於與漂浮檯450之孔洞452連通之位置。適應性 孔洞裝置之較佳實例已描述於以下之參考專利案中： -已發表之專利合作合約（PCT)專利中請案第w〇 Qi/i4782紹虎 -已發表之專利合作合約（PCT)專利申請案第w〇 〇ι/ΐ4752 ai號 -已發表之專利合作合約（PCT)專射請案第w〇 Gi/i9572 ^號 以上該案之全文以引用的方式併入本文中。
裝 吾人應了解，任何其它合適的適應性或非適應性裝置均 可以使用。 訂
請參考圖5A，為顯示出部分漂浮雙面成像系統之簡化 圖，遠系統依本發明之一較佳實例建構及操作。圖5 A所示 之雙面成像系統可以是影像擷取系統（例如有助於檢視之鱟 像擷取系統）或影像寫入系統，或兩者皆是。本發明所繪^ 實例圖顯示的是檢視系統，然而在本文中所描述的一^結 構當然也適用於任何其它的影像擷取系統、影像寫入系 統，或是結合影像擷取與寫入之系統、及其對應之方式。/' 如圖5A中所示，該漂浮雙面成像系統最好包含一靜止的 漂浮檯500 ’該漂浮檯包含複數個孔洞5〇2。一塊大致為平 面的基板504由於一股流體（最好為空氣）從經由歧管5⑽連 接至正向流體壓力源51 〇之複數噴嘴5〇6噴出而漂浮，噴嘴 係較佳地與相關的孔洞502連通。 胃 吾人應了解，若沒有反向流動的流體，或其它合適的下 拉力存在，漂浮的平面基板可能會被弄彎，或是呈現玉二 勻的平坦狀態，如參考標號512及5 14所示。如圖5A中所 -16-
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不’沿著漂浮檯500之成像位置516，有-雙面成像裝置 518 〇 吾人應了解，雙面成像裝置可包含一對成像裝置或一組 王合的雙面成像裝置。使平面基板在下方（即朝向漂浮檯 的面）成像之成像裝置，係較佳地透過一縫隙或漂浮檯 500之透明部分來觀察平面基板，不受漂浮或整平功能《干 擾。 在成像位置516處，平面基板在成像時應該要被整平，或 是相對於雙面成像裝置518要能保持在既^ 裝 明之較佳實例，提供了 一股反向流動的流體(最好= 孔）’係杈佳地從經由歧管524連接至正向流體壓力源51〇之 複數噴嘴522喷出。在圖5A之實例中，喷嘴⑵與歧管似位 於平面基板504的一面，與受到噴嘴5〇6沖擊的面反向。 線 圖5A之漂浮雙面成像系統係較佳地包含一個移位器， 使，浮的平面基板（最好為平行地）沿著漂浮樓5〇〇移動」移 位器526係較佳地包含—滑軌528與漂浮檯綱平行而置。一 個滑動件530沿著滑轨528驅動，並且係較佳地包含了 532,可夾住平面基板5〇4並使其沿著滑轨似平行移動。五 人應了解，任何其它合適型式的接觸式或非接觸式移位哭 均係可替代地使用，例如推進器或曳引器。 °° 請參考圖5B，為顯示出部分漂浮雙面成像系統之簡化 圖，該系統依本發明之一較佳實例建構及操作。圖 之雙面成像系統可以是影像擷取系統(例如有助： 像棟取系統)或影像寫入系統，或兩者皆是 ： -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇X 297公爱） 1222423 A7 B7 五、發明説明（15 ) 實例圖顯示的是檢視系統，然而在本文中所描述的結構當 然也適用於任何其它的影像擷取系統、影像寫入系統，或 是結合影像擷取與寫入之系統 '及其對應之方式。 如圖5B中所示，該漂浮雙面成像系統最好包含一靜止的 漂浮檯550，該漂浮檯包含複數個孔洞552。一塊大致為平 面的基板554由於一股流體（最好為空氣）從經由歧管連 接至正向流體壓力源560之複數喷嘴556喷出而漂浮，噴嘴 係較佳地與相關的孔洞552連通。 吾人應了解’若沒有反向流動的流體，或其它合適的下 拉力存在，漂浮的平面基板554可能會被弄彎，或是呈現不 均勻的平坦狀悲’如參考標號5 6 2及5 6 4所示。如圖5 Β中所 示’沿著漂浮檯55〇之成像位置566，有一雙面成像裝置 568 〇 ^ 吾人應了解，雙面成像裝置可包含一對成像裝置或一組 整合的雙面成像裝置，或一個照亮平面基板554的第一面的 …、明器，以及一個擷取通過平面基板554之光線的影像生成 器。使平面基板在下方（即朝向漂浮檯55〇的面）成像之成像 裝置，係較佳地透過一縫隙或漂浮檯55〇之透明部分來觀察 平面基板，不受漂浮或整平功能之干擾。 $ 在成像位置566·處，平面基板554在成像時應該要被整 平’或是相對於雙面成像裝置568要能保持在既定 ： 如與成雙©像裝置保持_段精確的距離）。依 =例、:提供了 一股反向流動的流體。該反向流J = 為机體排出益，將累積在平面基板554與靜止漂浮棱 -18- 五、發明説明（17 ) 可以使用。 =圖6’為電路檢視系統之簡化圖，該系統 助 ::面顯示器建構物之檢視，且該系統 構及操作。如圖6中所示靜止的漂浮擾二 :牍Π2上。漂夺檯600最好具有縱向延伸的狹縫604。 :狹縫604中放置了兩組可選擇性抬起的滾輪，用以接收及 運运-塊大致為平面的基板6〇6，如平面顯或印
刷電路板。 冉观名I 兩組：選擇性抬起的滾軸最好包含一輸入組608，用以接 收及運送即將被檢視、大致為平面.的基板606，以及一輸出 組610，用以接收及運送由檢視站612檢視完畢之大致為平 面的基板606。吾人應了解，檢視站可包含任何合適的.光學 檢視感測器，《其它可用來感㈣大致為平面的基板6〇6之某 種物理屬性的合適裝置。 在狹縫604中放置了複數個漂浮噴嘴614，可使大致為平 面的基板606產生選擇性的漂浮。噴嘴614係較佳地經由一 歧官（圖中未畫出）與正向流體壓力源（圖中未晝出）耦合。 圖6所示實例之特色為，至少有一些喷嘴614和適應性孔 洞裝置耦合，該裝置會在沒有漂浮平面基板與之有效夾合 時’對流經該處之流體產生限制。適應性孔洞裝置之較佳 實例已描述於以下之參考專利案中·· -已發表之專利合作合約（PCT)專利申請案第W〇〇1/14782 A1號 -已發表之專利合作合約（PCT)專利申請案第W〇 01/14752 A1號 -已發表之專利合作合約（PC 丁）專利申請案第w〇〇1/19572 Ai號 以上該案之全文以引用的方式併入本文中。 -20- 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS) A4規格(210X297公袭)

Claims (1)

  1. 第091101132號專利申請案
    中文申請專利範圍替換本(93年5 六、甲請專利範圍 種用於大致為平面的基板之成像系統 1. 個氣流式輸㈣，將-平面基板至少料至-成像 位置’該平面基板係選自由下列平面基板所組成之群 :於印：電路板、平面顯示器及建構裝置基板，該氣流 式輸送π至少在該成像位置具有氣流式基板整平功能； 及 -個成像器’位於該成像位置’在平面基板被該氣流 式基板整平功能整平時，可以在該基板上成像。 2. =申請專利範圍第i項之成像系統，其中該氣流式輪送 帶包含一氣墊式漂浮器。 3. ^申請專利範圍第i項之成像系統，其中該氣流式輸送 T包含一氣墊式下拉器。 4. 如申請專利範圍第！項之成像系統，其中該氣流式基板 整平功能包含一氣塾。 5. 如申請專利範圍第！項之成像系統，其中該氣流式基板 整平功能包含一抽吸式下拉器。 6. =申請專利範圍第！項之成像系統，其中該氣流式輸送 ΊΤ也可以用來將該平面基板送離該成像位置。 7. :申請專利範圍第1項之成像系統，其中該氣流式輸送 Τ包3個移位器，使該平面基板至少朝著該成像位置 移動。 ^ ^申#專利粑圍第1項之成像系統，其中該氣流式輸送 W包3個移位器，使該平面基板離開該成像位置。 9· -種用於大致為平面的基板之雙面成像系統，包含： 本紙張尺度適用巾_家標準(CNS) A4規格--- 1222423 A8 B8 C8
    一個氣流式輸送帶，將呈漂浮狀態之-平面基板至少 運ϋ至成像位置，該平面基板係選自由下列平面基板 所、、且成之群、、且·印刷電路板、平面顯示器及建構裝置基 板；及 個成像為，位於該成像位置，在該氣流式輸送帶使 該平面基板漂浮時，可以在該基板的兩面成像。 10·如申請專利範圍第9項之成像系統，其中該氣流式輸送 帶至少在該成像位置包含氣流式基板整平功能。 11·如申明專利耗圍第9項之成像系、统，其中該氣流式輸送 帶包含一抽吸式下拉器。 12·如申請專利範圍第1〇項之成像系統，其中該氣流式基板 整平功能包含一氣墊式下拉器。 13.如申請專利範圍第1〇項之成像系統，其中該氣流式基板 整平功能包含一抽吸式下拉器。 14·:申請專利範圍第9項之成像系統，其中該氣流式輸送 π也可以用來將该平面基板送離該成像位置。 =申請專利範圍第9項之成像“，其中該氣流式輸送 f包含一個移位器，柿兮虫 甘 ^便3千面基板至少朝著該成像位置 移動。 =申請專利範圍第9項之成像系統’其中該氣流式輸送 π包含-個移位器’使該平面基板離開該成像位置。 Π. 一種使大致為平面的基板成像之方法，包含： 利用一氣流式輸送帶，將-平面基板至少運送至-成 像位置’該平面基板係選自由下列平面基板所組成之群 -2- 1222423 A8 B8 C8 申請專利範圍 組·印刷電路板、平面顯示器及建構裝置基板； 利用一氣流式基板整平器，將至少位於該成像位置之 平面基板整平；及 利用位於該成像位置之一成像器，使該平面基板在被 該氣流式基板整平器整平時生成該平面基板上之一影 像。 18·如申請專利範圍第1 7項之方法，其中該氣流式輸送帶包 含一氣流式漂浮器。 19·如申請專利範圍第1 7項之方法，其中該氣流式輸送帶包 含一氣流式下拉器。 2〇·如申請專利範圍第1 7項之方法，其中該氣流式基板整平 功能包含由一氣墊整平。 21.如申請專利範圍第17項之方法，其中該氣流式基板整平 功能包含由一抽吸式下拉器整平。 22·如申請專利範圍第1 7項之方法，其中該運送之步驟包含 將該平面基板送離該成像位置。 23. 如申請專利範圍第1 7項之方法，其中該運送包含使呈漂 浮狀態之該平面基板至少朝著該成像位置移動。 24. 如申請專利範圍第1 7項之方法，其中該運送包含使呈漂 浮狀態之該平面基板離開該成像位置。 25. —種使大致為平面的基板雙面成像之方法，包含·· 將呈漂浮狀態之一印刷電路板至少運送至一成像位 置，該平面基板係選自由下列平面基板所組成之群組： 印刷電路板、平面顯示器及建構裝置基板；及 -3 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 1222423 A8 B8 C8
    在該平面基板呈漂浮狀態時使其雙面成像。 26.如申請專利範圍第2 5項之方法，其中運送之步驟包含利 用一氣流式整平器，至少將位於該成像位置之平面基板 整平。 ^ 27·如申請專利範圍第25項之方法，其中運送之步驟包含利 用一氣墊式下拉器，將該平面基板往下拉。 28. 如申請專利範圍第25項之方法，其中整平之步驟包含利 用一吸嘴來整平。 29. 如申請專利範圍第25項之方法，其中該整平之步驟包含 利用一氣墊來整平。 30. 如申請專利範圍第25項之方法，其中該運送之步驟亦包 含將該平面基板送離該成像位置。 31·如申請專利範圍第2 5項之方法，其中該運送之步驟包含 使呈漂浮狀態之該平面基板至少朝著該成像位置移動。 32.如申請專利範圍第2 5項之方法，其中該運送之步驟包含 使呈漂浮狀態之該平面基板離開該成像位置。 33· —種掃描印刷電路板基板之方法，包含： 利用一氣流式輸送帶將欲掃描之平面基板至少運送至 掃描位置，該平面基板係選自由下列平面基板所組成之 群組··印刷電路板、平面顯示器及建構裝置基板； 利用一氣流式基板整平器，至少將位於該掃描位置之 平面基板整平；及 利用位於§亥知描位置之掃描器，掃描被該氣流式基板 整平器整平之該平面基板以生成一影像。 -4 1222423 、申請專利範圍 其中該氣流式輸送帶包 其中該氣流式輸送帶包 其中該氣流式基板整平 其中該氣流式基板整平 其中該運送之步驟也包 34.如申請專利範圍第3 3項之方法 含一氣流式漂浮器。 35·如申請專利範圍第3 3項之方法 含一氣流式下拉器。 36·如申請專利範圍第3 3項之方法 功能包含一抽吸式下拉器。 37.如申請專利範圍第3 3項之方法 功能包含一氣墊式下拉器。 38·如申請專利範圍第3 3項之方法 含將該平面基板送離該成像位置。 39·如申請專利範圍第33項之方法，其中該運送之步驟包含 利用一移位器使該平面基板至少朝著該成像位置移動。 40·如申請專利範圍第33項之方法，其中該運送之步驟包含 利用一移位器使該平面基板離開該成像位置。 41. 一種適於運送印刷電路板、平面顯示器及建構裝置基板 之漂浮方法，包含： 利用一漂浮盗，使平面基板相對於一表面漂浮，該平 面基板係選自由下列之基板所組成之群組：印刷電= 板、平面顯示器及建構裝置基板； 利用一移位器，使該平面基板對於該表面產生大 行的移動；及 利用-基板整平器，當該平面基板呈漂浮狀 以將其整平。 π 42.如申請專利範圍第41項之方法，其中該漂浮之㈣則 -5 本紙張尺度適财®國家標準(CNS) Α4規格(210X297公ίΓ 1222423
    之漂浮器包含使用一氣墊式漂浮器。 43·如申請專利範圍第4 1項之方法，其中整平之步驟包含利 用一正向壓力裝置來整平。 44·如申請專利範圍第4 1項之方法，其中該整平之步驟包含 利用一抽吸式裝置來整平。 45·——種製造一印刷電路板之方法，包含： 利用一氣流式輸送帶，將一感光式印刷電路板基板至 少運送至一成像位置； 利用一氣流式基板整平器，將至少位於該成像位置之 感光式印刷電路板基板整平；及 利用位於該成像位置之一成像器，使該印刷電路板基 板在被該氣流式基板整平器整平時生成該印刷電路板基 板上之一部分電路的影像。 46.如申請專利範圍第4 5項之方法，其中運送之步驟包含利 用一氣流式整平器，至少將位於該成像位置之平面基板 整平。 47·如申請專利範圍第4 5項之方法，其中運送之步驟包含利 用一氣塾式下拉器，將該平面基板往下拉。 48·如申請專利範圍第45項之方法，其中該整平之步驟包含 利用一氣塾來整平。 49如申請專利範圍第45項之方法，其中整平之步驟包含利 用一吸嘴來整平。 50.如申請專利^圍第45項之方法，其中該運送之步驟亦包 含將該基板送離該成像位置。 -6- t紙張尺度適用中國國家標準Bs) A4規格------------------ 1222423 A8 B8 C8
    儿如申請專利範圍第45項之方法，其中該運送之步驟包含 使呈标斤狀態之該基板至少朝著該成像位置移動。 52. 如申請專利範圍第45項之方法，其中該運送之步驟包含 使呈漂浮狀態之該平面基板離開該成像位置。 53. 如申請專利範„45項之方法，其中該生成影像之步驟 包含利用—調變雷射光束裝4，用以在該感光•印刷電路 板基板上曝光出想要之圖樣。 54. —種製造電路之方法，包含·· 曰在基板上形成一電路圖樣之一部分，該平面基板係 選自由下列之基板所組成之群組：印刷電路板、平面顯 示益及建構裝置基板； 、 利用一氣流式輸送帶，將大致該基板至少運送至一成 像位置； 當該基板在被一氣流式基板整平器整平時，生成該圖 樣之一影像；及 分析该影像以檢視一電路圖樣之該部分内的缺陷。 55·如申請專利範圍第5 4項之方法，其中運送之步驟包含利 用一氣流式整平器，至少將位於該成像位置之平面基板 整平。 56·如申請專利範圍第55項之方法，其中該生成一影像之步 驟包含正利用一氣墊部分地整平該基板時，運送該基 板。 57·如申請專利範圍第5 5項之方法，其中該生成一影像之步 驟包含正利用一吸嘴部分地整平該基板時，運送該基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐) 1222423 A8 B8 C8 -----— —_ D8 六、申請專利範圍 板。 58.如申請專利範圍第5 4項之方法，其中該運送之步驟亦包 含將該基板送離該成像位置。 59·如申睛專利範圍第5 4項之方法，其中該運送之步驟包含 使呈漂浮狀態之該基板至少朝著該成像位置移動。 60·如申请專利範圍第5 4項之方法，其中該運送之步驟包含 使呈漂浮狀態之該平面基板離開該成像位置。 61·如申請專利範圍第5 4項之方法，其中該生成一影像之步 驟包含操作一光學檢視感測器。 62·如申請專利範圍第61項之方法，其中該光學檢視感測器 包含至少一靜止陣列攝影機。 63. 如申請專利範圍第6 1項之方法，其中該光學檢視感測器 包含至少一掃描式攝影機。 64. 如申請專利範圍第5 4項之方法，其中該分析之步驟包含 感測該基板之某種物理屬性。 65. 如申請專利範圍第5 4項之方法，其中該分析之步驟包含 將該影像傳輸至一影像處理電腦。 66. 如申請專利範圍第45項之方法，其中該分析之步驟包含 生成該圖樣被懷疑具有一缺陷之區域的另一影像之步 驟。 67· —種用於大致為平面的基板之成像系統，包含： 一個氣流式輸送帶，至少運送一印刷電路板基板至一 成像位置，該氣流式輸送帶至少在該成像位置具有氣流 式基板整平功能；及 -8 -
    1222423 A8 B8 C8 申請專利範圍 一個成像器，位於該成像位置，在平面基板被該氣流 式基板整平功能整平時，可以在該基板上成像。 68·=申請專利範圍第67項之成像系統，其中該氣流式輸送 帶包含一氣墊式漂浮器。 6=申請專利範圍第67項之成像系統，其中該氣流式輸送 帶包含一氣墊式下拉器。 70·如申請專利範圍第67項之成像系統，其中該氣流式基板 整平功能包含一氣墊。 71.如申請專利範圍第67項之成像系統，其中該氣流式基板 整平功能包含一抽吸式下拉器。 72·=申請專利範圍第叨項之成像系統，其中該氣流式輸送 帶也可以用來將該平面基板送離該成像位置。 73·如申請專利範圍第67項之成像系統，其中該氣流式輸送 τ包含一個移位器，使該平面基板至少朝著該成像位置 移動。 74. 如申清專利範圍第6 7項之成像系統，其中該氣流式輸送 帶包含一個移位器，使該平面基板離開該成像位置。 75. —種用於大致為平面的基板之雙面成像系統，包含： 一個氣流式輸送帶，將呈漂浮狀態之一平面印刷電路 板至少運送至一成像位置；及 一個成像器’位於該成像位置，在該氣流式輸送帶使 該平面基板漂浮時，可以在該基板的兩面成像。 76·如申請專利範圍第75項之成像系統，其中該氣流式輸送 帶至少在該成像位置包含氣流式基板整平功能。 -9 -
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    77. :申請專利範圍第75項之成像系統，其中該氣流式輸送 帶包含一抽吸式下拉器。 78. 如申請專利範圍第76項之成像系統，其中該氣流式基板 整平功能包含一氣墊式下拉器。 79·如申5青專利車色圍第7 6項之成像系統，其中該氣流式基板 整平功能包含一抽吸式下拉器。 8〇·:申請專利範圍第75項之成像系統，其中該氣流式輸送 f也可以用來將該平面基板送離該成像位置。 81.如申明專利辜巳圍第7 5項之成像系、统，其中該t流式輸送 帶包含-個移位器、，使該平面基板至少朝著該成像位置 移動。 =申請專利範圍第75項之成像系、统，其中該氣流式輸送 τ包含-個移位H，使該平面基板離開該成像位置。 83. —種平台式掃描器系統，包含·· 運=流=輸送帶，將欲掃描之—印刷電路板基板至 置具有氣流式基板整平功至少在該掃描位 一個掃描器，位於該掃描位置， 式基，功能整平時，可以對基= 板被氣流 84:::!利耗圍第83項之平台式掃描器系統，1中” 描态構成一部分之影像擷取器。 /、中4 # 其中該I 85_如申請專利範圍第”項之平台式掃描 描器構成一部分之影像生成器。 ’、、、、 其中該耳 紙如申請專利範圍第85項之平：式掃插器系統 -10-
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    面基板包含一感 87_如申請專利範圍 像生成器包含一 曝光出想要之圖 88. 如申請專利範圍 流式輸送帶包含 89. 如申請專利範圍 流式輸送帶包含 90. 如申請專利範圍 流式基板整平功 91·如申請專利範圍 流式基板整平功 92·如申請專利範圍 流式輸送帶也可 93·如申請專利範圍 流式輪送帶包含 成像位置移動。 94·如申請專利範圍 流式輸送帶包含 位置。 光層。 苐8 6項之平台式播 6 飞輙插器系統，其中該影 调變雷射光束裝署 域 置，用以在該感光層上 樣。 第83項之平台式掃描器系統，其中該氣 一氣流式漂浮器。 第83項之平台式掃描器系統，其中該氣 一氣流式下拉器。 第83項之平台式掃描器系統，其中該氣 能包含一氣塾。 第83項之平台式掃描器系統，其中該氣 能包含一抽吸式下拉器。 第83項之平台式掃描器系統，其中該氣 以用來將該平面基板送離該成像位置。 第8 3項之平台式掃描器系統，其中該氣 一個移位器，使該平面基板至少朝著該 第8 3項之平台式掃描器系統，其中該氣 一個移位器，使該平面基板離開該成像 95. —種使大致為平面的基板成像之方法，包含·· 利用一氣流式輸送帶，將一印刷電路板基板至少運送 至一成像位置； 利用一氣流式基板整平器，將至少位於該成像位置之 -11 -
    1222423 A8 B8 C8 D8 申請專利範園 印刷電路板基板整平；及 利用位於該成像位置之—成像器，使該印刷電路板基 板在被該氣流式基板整平器整平時生成該印刷電路板基 板上之一部分電路的影像。 其中該氣流式輸送帶包 其中該氣流式輸送帶包 其中該氣流式基板整平 其中該氣流式基板整平 96.如申請專利範圍第9 5項之方法 含一氣流式漂浮器。 9X如申請專利範圍第9 5項之方法 含一氣流式下拉器。 98·如申請專利範圍第9 5項之方法 功能包含由一氣墊整平。 "·如申請專利範圍第9 5項之方法 功能包含由一抽吸式下拉器整平。 100. 如申印專利範圍第9 5項之方法，其中該運送之步驟包含 將該印刷電路板基板送離該成像位置。 101. 如申凊專利範圍第9 5項之方法，其中該運送包含使呈漂 /于狀悲之該印刷電路板基板至少朝著該成像位置移動。 1〇2·、如申請專利範圍第41至49項任一項中之方法，其中該運 送包含使呈漂浮狀態之該印刷電路板基板離開該成像位 置。 103·種使大致為平面的基板雙面成像之方法，包含·· 將呈漂洋狀態之一印刷電路板至少運送至一成像位 置；及 在該印刷電路板基板呈漂浮狀態時使其雙面成像。 1〇4·如申凊專利範圍第1 0 3項之方法，其中運送之步驟包含 -12-
    1222423 六、申請專利範圍 利用一氣流式整平器，至少將位於該成像位置之印刷電 路板基板整平。 1〇5·如申請專利範圍第1 0 3項之方法，其中運送之步驟包含 利用一氣墊式下拉器，將該平面基板往下拉。 106·如申請專利範圍第} 〇3項之方法，其中整平之步驟包含 利用一吸嘴來整平。 107·如申請專利範圍第1〇3項之方法，其中該整平之步驟包 含利用一氣墊來整平。 1〇8.如申請專利範圍第103項之方法，其中該運送之步驟亦 包含將该印刷電路板基板送離該成像位置。 109·如申請專利範圍第103項之方法，其中該運送之步驟包 含使呈漂浮狀態之該印刷電路板基板至少朝著該成像位 置移動。 11〇·如申請專利範圍第103項之方法，其中該運送之步驟包 含使呈漂浮狀態之該印刷電路板基板離開該成像位置。 111 · 一種知描印刷電路板基板之方法，包含： 利用一氣流式輸送帶將欲掃描之印刷電路板基板至少 運送至掃描位置； 利用一氣流式基板整平器，至少將位於該掃描位置之 印刷電路板基板整平；及 利用位於該掃描位置之掃描器，掃描被該氣流式基板 整平為整平之該印刷電路板基板以生成一部分電路之影 像。 ’、 112.如申請專利範圍第i i丨項之方法，其中該氣流式輸送帶 -13 _ 本紙張尺度適用目g_CNS) A4規格(21G>T^^y 、申請專利範圍 包含一氣流式漂浮器。 其中該氣流式輸送帶 其中5亥氣流式基板整 其中該氣流式基板整 113_如申請專利範圍第1 1 1項之方法， 包含一氣流式下拉器。 114·如申請專利範圍第1 1 1項之方法， 平功能包含一抽吸式、下拉器。 115·如申請專利範圍第1 1 1項之方法 平功能包含一氣墊式下拉器。 他如申請專利範圍第lu項之方法，其中該運送之步驟也 包含將該印刷電路板基板送離該成像位置。 1Π·如申請專利範圍第U1項之方法，纟中該運送之步驟包 含利用-移位n使該印刷電路板基板至少朝著該成像位 置移動。 118·如申請專利範圍第112項之方法，其中該運送之步驟包 3利用一移位裔使該印刷電路板基板離開該成像位置。 119·一種用於大致為平面的基板之成像系統，包含： 一個氣流式輸送帶，將平面基板至少運送至一成像位 置，該氣流式輸送帶至少在該成像位置具有氣流式基板 整平功能；及 一個成像器’位於該成像位置，在平面基板被該氣流 式基板整平功能整平時，可以在該基板上成像。 120·如申請專利範圍第i i 9項之成像系統，其中該成像器為 一影像擷取器。 121.如申請專利範圍第i丨9項之成像系統，其中該成像器為 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇 X 297公釐）
    、申請專利範 〜影像生成器。 12=申料利範圍第119項之成像系統，其中該氣流式輪 12 包含一氣墊式漂浮器。 123=申，專利範圍第119項之成像系統，其中該氣流式輸 1迗可包含—氣流式下拉器。 124tl請專利範圍第119項之成像系統，其中該氣流式基 ^板整平功能包含一氣流式漂浮器。 申β專利fe圍第i i 9項之成像系統，其中該氣流式基 1反整平功能包含一氣流式下拉器。 126·、如:請專利範圍第119項之成像系統，其中該氣流式輸 12迗帶也可以用來將該平面基板送離該成像位置。 A如Γ請專利範圍第119項之成像系統，其中該氣流式輸 送T包含一個移位器，使該平面基板至少朝著該成像位 置移動。 128·如申請專利範圍第119項之成像系統，其中該氣流式輸 送帶包含一個移位器，使該平面基板離開該成像位置。 129·—種用於大致為平面的基板之雙面成像系統，包含： 一個氣流式輸送帶，將呈漂浮狀態之平面基板至少運 送至一成像位置；及 一個成像器，位於該成像位置，在該氣流式輸送帶使 該平面基板漂浮時，可以在該基板的兩面成像。 130·如申請專利範圍第1 2 9項之成像系統，其中該成像器為 一影像擷取器。 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐）. 1222423 A8 B8 C8 —-—~- —_ D8 六、申ϊϋϋ- 131·如申請專利範圍第1 2 9項之成像系統，其中該成像器為 一影像生成器。 132.如申請專利範圍第1 2 9項之成像系統，其中該氣流式輸 $帶至少在該成像位置包含氣流式基板整平功能。 133·如申請專利範圍第1 2 9項之成像系統，其中該氣流式輸 送帶包含一氣流式下拉器。 134.如申請專利範圍第1 3 2項之成像系統，其中該氣流式基 板整平功能包含一氣流式漂浮器。 135·如申請專利範圍第丨3 2項之成像系統，其中該氣流式基 板整平功能包含一氣流式下拉器。 136.、如2請專利範圍第129項之成像系統，其中該氣流式輸 送W也可以用來將該平面基板送離該成像位置。 137·如申請專利範圍第129項之成像系統，其中該氣流式輸 送帶包含一個移位器，使該平面基板至少朝著該成像位 置移動。 138·如申請專利範圍第129項之成像系統，其中該氣流式輸 送帶包含-個移位n ’使該平面基板離開該成像位置。 139·—種平台式掃描器系統，包含： 一個氣流式輸送帶，將欲掃描之平面基板至少運送至 -掃描位置’該氣流式輸送帶至少在該掃描位置具有氣 流式基板整平功能；及 、-個掃描器，位於該掃描位置，在該平面基板被氣流 式基板整平功能整平時，可以對基㈣I 140·如申請專利範圍第1 3 9項之平a 只卞口式拎描器系統，其中該 -16-
    1222423 A8 B8
    掃描器構成一部分之影像擷取器。 141. 如申請專利範圍第139項之平台式奸 掃描益構成—部分之影像生成器。 ° '、、’充，其中s| 142. 如申請專利範圍第141項之平:式 平面基板包含一感光層。 田时糸統，其中該 &如申請專利範圍第142項之平 影像生成器包含-調變雷射光束袭置中該 上曝光出想要之圖樣。 在该感光層 M4.如中請專利範圍第139項之平台式掃插 氣流式輸送帶包含一氣流式漂浮器。^ ⑷.如申請專利範圍第i 3 9項之平台式掃描 氣流式輸送帶包含一氣流式下拉器。W ”统 146.如申請專㈣圍第i 3 9項之平台式掃描 氣流式基板整平功能包含一氣流式漂浮哭。、、、’ ㈣=利範圍第139項之平台式；描二統 虱/瓜式基板整平功能包含一氣流式下拉器。 148·= =利範圍第139項之平台式掃“系統，其中 =式輸送帶也可以用來將該平面基板送離該成像位 其中ί 其中 其中 其中 149·如申请專利範圍第ί 3 9項之平台 氣λπι»式輸送帶包含《個移位器， 該成像位置移動。 式掃描器系統，其中該 使該平面基板至少朝著 150·如申請專利範圍第1 3 9項之平台 氣流式輸送帶包含一個移位器， 式掃描器系統，其中該 使該平面基板離開該成 -17 -
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    像位置。 151·—種使大致為平面的基板成像之方法，包含： 利用氣流式輸送帶’將該平面基板至少運送至-成像 位置； 利用-氣流式基板整平器’將至少位於該成像位置之 平面基板整平；及 利用位於該成像位置之成像器，使該平面基板在被該 氣流式基板整平器整平時成像。 152. 如申請專利範圍第151項之方法，丨中該成像之步驟包 含擷取一影像。 153. 如申請專利範圍第151項之方法，其中該成像之步驟包 含產生一影像。 154·如申請專利範圍第i 5丨之方法，其中該氣流式輸送帶包 含一氣流式漂浮器。 155.如申請專利範圍第i 5丨項之方法，其中該氣流式輸送帶 包含一氣流式下拉器。 156·如申請專利範圍第151項方法，其中該氣流式基板整平 功能包含一氣流式漂浮器。 157.如申請專利範圍第151項之方法，其中該氣流式基板整 平功能包含一氣流式下拉器。 158·如申請專利範圍第1 5 1項之方法，其中該運送包含將該 平面基板送離該成像位置。 159·如申請專利範圍第1 5丨項之方法，其中該運送包含使呈 漂浮狀態之該平面基板至少朝著該成像位置移動。 -18- 1222423
    160. 如申請專利範圍第} 5丨項之方法，其中該運送包含使呈 漂浮狀態之該平面基板離開該成像位置。 161. 種使大致為平面的基板雙面成像之方法，包含： 將呈漂浮狀態之該平面基板至少運送至一成像位置； 及 在該平面基板呈漂浮狀態時使其雙面成像。 162·如申請專利範圍第161項之方法，其中該成像之步驟包 含影像之擷取。 163·如申請專利範圍第！ 6 !項之方法，其中該成像之步驟包 含影像之產生。 164·如申請專利範圍第1 6 1項之方法，其中運送包含利用一 氣流式整平器，至少將位於該成像位置之平面基板整 平。 165·如申請專利範圍第1 6 1項之方法，其中運送包含利用一 氣流式下拉器，將該平面基板往下拉。 166.如申請專利範圍第} 6丨項之方法，其中整平包含利用一 氣流式漂浮器來整平。 167·如申請專利範圍第！ 6〗項之方法，其中該氣流式整平包 含利用一氣流式下拉器來整平。 168·如申請專利範圍第161項之方法，其中該運送包含將該 平面基板送離該成像位置。 169·如申請專利範圍第1 6 1項之方法，其中該運送包含使呈 漂洋狀態之該平面基板至少朝著該成像位置移動。 170·如申請專利範圍第丄6丨項之方法，其中該運送包含使呈 -19-
    1222423
    漂浮狀態之該平面基板離開該成像位置。 Π1.—種掃描大致為平面的基板之方法，包含： 利用一氣流式輸送帶將欲掃描之平面基板至少運送至 掃描位置； 利用一氣流式基板整平器，至少將位於該掃描位置之 平面基板整平；及 掃描被該氣流式基板 其中該掃描在某種程 利用位於該掃描位置之掃描器 整平器整平之該平面基板。 172·如申請專利範圍第1 7 1項之方法 度上包含影像之擷取。 173·如申請專利範圍第i 7丨項之方法，其中該掃描在某種程 度上包含影像之產生。 174·如申請專利範圍第173項之方法，其中該掃描包含使形 成於該平面基板上之一感光層曝光。 175.如申請專利範圍第174項之方法，其中該影像之產生包 含利用調變雷射光束裝置，將想要之圖樣曝光在感光層 上。 176·如申請專利範圍第！ 7丨項之方法，其中該運送包含利用 氣式漂浮器來運送。 17'如申請專利範圍第171項之方法，其中運送包含利用一 氣流式下拉器，將平面基板往下拉。 178.如了請專利範圍第171項之方法，纟中該整平包含利用 氣hlL式漂浮器來整平。 Π9.如申請專利範圍第171項之方法，丨中該整平包含利用 -20- 本紙張尺度適财S ®家縣(CNS) Μ規格㈣χ挪公羡) 1222423
    一氣流式下拉器來整平。 180. 如申請專利範圍第171項之方法，其中該運送也包含將 該平面基板送離該成像位置。 181. 如申請專利範圍第171項之方法，其中該運送包含利用 一移位器使該平面基板至少朝著該成像位置移動。 182. 如申請專利範圍第ι71項之方法’其中該運送包含利用 一移位器使該平面基板離開該成像位置。 183· —種適於運送大致平面之基板之漂浮方法，包含： 利用一漂浮器，使平面基板相對於一表面漂浮； 利用一移位器，使該平面基板對於該表面產生大致平 行的移動；及 利用一基板整平器，當該平面基板呈漂浮狀態時，用 以將其整平。 ，其中該漂浮之步驟包 ’其中整平包含利用一 184.如申請專利範圍第1 8 3項之方法 含利用一真空漂浮器來漂浮。 185·如申請專利範圍第1 8 3項之方法 正向壓力裝置來整平。 186.如申請專利範圍第183項中之方法，其中該整平包含利 用一吸嘴來整平。 187· —種氣流式輸送帶系統，包含： 一個氣流產生器；及 一個氣流式漂浮輸送帶，用來運送平面基板，該氣流 式輸送帶包含： 一個氣流式工作台，使用一氣墊式功能使該平面基 丨 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公ϋ 1222423 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 板漂浮； 一個移位器，用以移動該平面基板；及 一個氣流式基板整平器，係在該漂浮輸送帶的至少 一個區域操作，當該平面基板呈漂浮狀態時，用以將其 整平。 188. 如申請專利範圍第1 8 7項之氣流式輸送帶系統，其中該 氣流式輸送帶包含一氣墊式下拉器。 189. 如申請專利範圍第1 8 7項之氣流式輸送帶系統，其中該 氣流式基板整平功能包含一氣墊式下拉器。 190. 如申請專利範圍第1 8 7項之氣流式輸送帶系統，其中該 氣流式基板整平功能包含一抽吸式下拉器。 191. 如申請專利範圍第1 9 0項之氣流式輸送帶系統，其中該 一抽吸式下拉器與該氣流式工作台係設在該平面基板之 同一側。 192. —種漂浮輸送帶系統，包含： 一個漂浮器，使平面基板相對於一表面漂浮； 一個移位器，當該平面基板呈漂浮狀態時，使該平面 基板對於該表面產生大致平行的移動；及 一個基板整平器，當該平面基板呈漂浮狀態時，用以 將其整平。 193. 如申請專利範圍第1 9 2項之漂浮輸送帶系統，其中該漂 浮器包含一氣墊產生器。 194. 如申請專利範圍第1 9 2項之漂浮輸送帶系統，其中該基 板整平器包含一正向壓力裝置。 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 1222423 A8 B8 C8 ---—____ D8 六、申請專利範圍 195.如申請專利範圍第1 9 3項之漂浮輸送帶系統，其中該基 板整平器包含一正向壓力裝置。 196·如申請專利範圍第1 9 2項之漂浮輸送帶系統，其中該基 板整平器包含一吸嘴式下拉器。 197·如申請專利範圍第1 9 3項之漂浮輸送帶系統，其中該基 板整平裔包含一吸嘴式下拉器。 198·—種氣流式運送方法，包含： 利用氣流產生器產生一股氣流；及 利用氣〃1L式漂浮輸送帶來運送平面基板，該運送步驟 包含： 利用一使用氣浮式功能的氣流式工作台，使該平面 基板漂浮； 利用氣流式基板整平器，在該漂浮輸送帶的至少一 個區域操作，當該平面基板呈漂浮狀態時將其整平。 199. 如申請專利範圍第198項之方法，其中該運送之步驟包 各在氣流式下拉器將平面基板拉下時運送該，面基 板。 200. 如申請專利範圍第198項之方法，其中該整平之步驟包 含利用一抽式整平器來整平。 201. 如申請專利範圍第198項之方法，其中該整平之步驟包 含利用一氣墊式下拉器來整平。 1222423 第091101132號專利申請案 中文專利圖式替換頁（92年12月）
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