WO2011129152A1 - 旋回流形成体及び非接触搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】非接触搬送装置の製造コストを低減し、被搬送物の浮上高さの精度の低下を防止することのできる旋回流形成体及び非接触搬送装置を提供する。 【解決手段】表面側に開口する平面視円形の穴部１ｂを有する椀状の本体１ａと、本体の穴部を形成する内表面に開口する流体噴出口１ｋと、本体の外表面に開口し、流体噴出口と連通する流体取入口１ｌとを備え、流体噴出口から流体を噴出することにより、本体の表面側に表面から離れる方向へ向かう上昇旋回流を生じさせる旋回流形成体１等。この旋回流形成体１と、平面視反対方向の旋回流を生じさせる旋回流形成体４を基体２の搬送面２ａに２個以上配置して非接触搬送装置を構成することができ、旋回流形成体を基体の搬送面に形成した凹部（収容部２ｂ）に収容することができる。

Description

旋回流形成体及び非接触搬送装置

　本発明は、旋回流形成体及びこの旋回流形成体を用いた非接触搬送装置に関し、特に大型の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）や太陽電池パネル（ソーラーパネル）等の生産に用いられるレール状の非接触搬送装置、及びこの非接触搬送装置を構成する旋回流形成体に関する。

　従来、ＦＰＤや太陽電池パネル等の生産に際し、１枚のパネルを大型化することで生産効率を上げる方法が採用されている。例えば、液晶ガラスの場合には、第１０世代で２８５０×３０５０×０．７ｍｍの大きさとなる。そのため、従来のように、複数個並べられたローラの上に液晶ガラスを載せて転がり搬送すると、ローラを支持するシャフトの撓みやローラ高さのばらつきにより液晶ガラスに局部的に強い力が働き、液晶ガラスを傷つける虞がある。

　上記ローラによる転がり搬送装置は、該装置とパネルとが非接触であることが要求される、例えばＦＰＤのプロセス工程では採用することができず、近年においては、空気浮上の搬送装置が採用され始めている。非接触搬送装置として、板状のレールの一部に多孔質材料を用い、給気経路と連通させて給気することで、噴出空気によりＦＰＤを浮上搬送する装置が存在する。しかし、この装置を用いると、ＦＰＤが上下方向に動きながら浮遊するような状態となるため、搬送工程に用いることは可能であるが、例えば３０～５０μｍの高精度の浮上高さが要求されるプロセス工程には採用することができない。

　また、上記多孔質材料を用いた板状のレールに真空引き用の孔を設けると、装置の構成が複雑になり、装置自体が高額になるとともに、浮上高さを高精度に維持するために給気圧を高くすると、高剛性空気の圧縮性に係わる自励振動が発生し、浮上高さを高精度に保つことができないという問題があった。

　さらに、多孔質材料の代わりにオリフィス（小径の孔）を真空引き用の孔と交互に穿設した装置も存在するが、オリフィスからの強い噴出空気で静電気が発生したり、クリーンルームの環境を乱したり、消費流量が大きくなって運転コストが高騰するという問題があった。

　そこで、特許文献１には、流体流量及びエネルギー消費量が少なく、浮上高さを高精度に維持できる非接触搬送装置として、流体噴出口から流体を噴出させることにより、リング状部材の表面側から離れる方向へ向かう旋回流を生じさせるとともに、リング状部材の表面側の開口部近傍に裏面方向への流体流れを生じさせる旋回流形成体を、基体の搬送面に２個以上備える非接触搬送装置が提案されている。

国際公開第２００９／１１９３７７号パンフレット

　上記特許文献１に記載の非接触搬送装置では、基体の搬送面に形成した凹部に旋回流形成体を収容し、この旋回流形成体の外周面を凹部の周囲に突設した盛上部によってかしめ接合するため、基体への旋回流形成体の装着に長時間を要して非接触搬送装置の製造コストの上昇に繋がるとともに、旋回流形成体を基体にかしめ接合する際に、旋回流形成体の取付角度にばらつきを生じたり、旋回流形成体や基体（レール）に反りが発生したりして被搬送物の浮上高さの精度が低下する虞があるという問題があった。

　そこで、本発明は、上記従来技術における問題点に鑑みてなされたものであって、非接触搬送装置の製造コストを低減し、被搬送物の浮上高さの精度の低下を防止することのできる旋回流形成体、及びこの旋回流形成体を用いた非接触搬送装置を提供することを目的とする。

　上記目的を達成するため、本発明は、旋回流形成体であって、表面側に開口する平面視円形の穴部を有する椀状の本体と、該本体の前記穴部を形成する内表面に開口する流体噴出口と、前記本体の外表面に開口し、前記流体噴出口と連通する流体取入口とを備え、前記流体噴出口から流体を噴出することにより、前記本体の表面側に該表面から離れる方向へ向かう上昇旋回流を生じさせることを特徴とする。

　本発明によれば、旋回流形成体は、椀状の本体の内表面に流体噴出口を開口させ、外表面に流体噴出口と連通する流体取入口とを備えるため、この旋回流形成体を基体の凹部等に収容し、流体取入口から流体を取り入れることで、簡単に非接触搬送装置を構成することができ、非接触搬送装置の製造コストを低く抑えることができる。また、この旋回流形成体を基体に装着するにあたり、該旋回流形成体の本体の外表面を基体の収容部の内表面に圧入することで、該本体の外表面と基体の収容部の内表面との間に流体の漏れを生じさせることなく該旋回流形成体を前記基体に装着することができる。

　また、上記旋回流形成体において、前記本体は、底面に突出部を備えるとともに、前記穴部の開口部の外周縁に一体に形成された環状鍔部を備え、該環状鍔部の外周面から前記底面側に向かって突出し、先端に係止突起を有する複数個の突出部を備えることができる。この構成により、旋回流形成体を基体にワンタッチで装着することができ、製造コストをさらに低減することができる。また、旋回流形成体を基体に装着するに際し、従来のようなかしめ接合を用いないため、旋回流形成体の取付角度にばらつきを生じたり、旋回流形成体及び基体に反りが生じたりしないため、被搬送物の浮上高さの精度を高く維持することができる。

　上記旋回流形成体において、前記流体噴出口を、前記穴部の円筒状内壁面に該円筒状内壁面の接線方向であって該穴部の中心を挟んで対角線上の相対向する位置に形成された凹部に、夫々前記穴部の円筒状内壁面側に前記開口部を夫々反対方向に向けて形成することができる。このように、該凹部に夫々反対方向に開口する流体噴出口を形成することにより、該流体噴出口から噴出した流体は円筒状内壁面に当接し、該穴部に右回り方向あるいは左回り方向の上昇旋回流を発生させることができる。

　また、旋回流形成体は、ポリアセタール樹脂等の熱可塑性合成樹脂で一体成形することができ、旋回流形成体の製造コストをさらに低減することができる。

　さらに、本発明は、基体と、該基体の搬送面に装着された互いに平面視反対方向の上昇旋回流を発生させる２個以上の旋回流形成体とからなる非接触搬送装置であって、該基体は、搬送面に開口する平面視円形の複数個の収容部と、該収容部の底面と、該収容部の円筒状内壁面に該収容部の開口部の直径よりも大径の帯状の円筒係止凹部とを備え、前記旋回流形成体の前記本体の底面に形成された突出部が前記基体の収容部の底面に当接して該本体が撓むことにより、前記複数個の係止突起の夫々が前記基体の円筒係止凹部に収容され、該本体が元の形状に戻ることにより前記複数個の係止突起の夫々が該円筒係止凹部に係止されるとともに、該本体の環状鍔部の外周面が前記基体の収容部の円筒状内壁面に圧入嵌合されることにより該旋回流形成体が前記基体の収容部に装着されることを特徴とする。この発明によれば、構造が簡単で、製造コストを低減した非接触搬送装置を提供することができる。

　また、上記非接触搬送装置において、一方向の上昇旋回流を発生させる前記旋回流形成体と流体吸い込み用の孔とを前記基体の幅方向に沿って交互に配置した列と、他方向の上昇旋回流を発生させる前記旋回流形成体と流体吸い込み用の孔とを前記基体の幅方向に沿って交互に配置した列とを、該基体の長手方向に沿って交互に配置するとともに、該基体の幅方向及び長手方向に位置する同方向に上昇旋回流を発生させる前記旋回流形成体の間に、前記流体吸い込み用の孔が位置するように配列することができる。この構成により、旋回流形成体から流れ広がる面が複数の旋回流形成体で面一となり、被搬送物を浮上させる基準面が基体の搬送面となるため、被搬送物の浮上高さを高精度に制御することができるとともに、流体吸い込み用の孔で周囲の微量の流体を真空吸着することで、被搬送物の浮上高さを高精度に制御することができ、プロセス工程等に好適に適用することができる。

　以上のように、本発明によれば、非接触搬送装置の製造コストを低減し、被搬送物の浮上高さの精度の低下を防止することのできる旋回流形成体、及びこの旋回流形成体を用いた非接触搬送装置を提供することができる。

本発明にかかる平面視右回り方向（時計回り方向）の旋回流を発生させる旋回流形成体の一実施の形態を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は底面図、（ｄ）は（ｂ）のＡ－Ａ線断面図、（ｅ）は（ｃ）のＢ部の拡大断面図、（ｆ）は（ｄ）のＣ部の拡大断面図である。 本発明にかかる平面視左回り方向（反時計回り方向）の旋回流を発生させる旋回流形成体の一実施の形態を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は底面図、（ｄ）は（ｃ）のＤ－Ｄ線断面図、（ｅ）は（ｃ）のＥ部の拡大断面図、（ｆ）は（ｄ）のＦ部の拡大断面図である。 旋回流形成体を装着する基体の一実施の形態を示す図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＧ－Ｇ線断面図である。 旋回流形成体を装着する基体の他の実施の形態を示す図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＨ－Ｈ線断面図である。 図１に示す旋回流形成体を図３に示す基体に装着する要領を説明するための断面図であって、（ａ）は旋回流形成体全体を基体の収容部の底面に押し下げた状態、（ｂ）は旋回流形成体が基体の収容部に装着された状態を示す。 図１に示す旋回流形成体を図３に示す基体の収容部に装着した状態を示す断面図である。 本発明にかかる非接触搬送装置の一実施の形態を示す平面図であって、（ａ）はプロセス工程用非接触搬送装置の一部を示す平面図、（ｂ）は搬送工程を含めた非接触搬送装置全体を示す平面図である。 図７に示すプロセス工程用非接触搬送装置を示す図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＩ－Ｉ線断面図である。 本発明にかかる搬送工程を含めた非接触搬送装置全体の他の実施の形態を示す平面図である。

　次に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。尚、以下の説明においては、搬送用流体として空気を用い、被搬送物として液晶ガラス（以下、「ガラス」という）を搬送する場合を例にとって説明する。

　図１（ａ）乃至図１（ｆ）は、本発明にかかる旋回流形成体における平面視右回り方向（時計回り方向）の上昇旋回流を発生させる旋回流形成体１であり、該旋回流形成体１は、例えばポリアセタール樹脂等の熱可塑性合成樹脂で一体成形された椀状の本体１ａと、本体１ａの内部に位置するとともに一方に開口する平面視円形の穴部１ｂと、本体１ａに形成され、該穴部１ｂの開口部の外周縁に一体に形成された環状鍔部１ｃと、該環状鍔部１ｃの外周面１ｄから下方に向かって突出し、先端に係止突起１ｅを有して径方向に相対向して形成された４本の突出部１ｆと、本体１ａの底面１ｇの中央部において該底面１ｇから僅かに下方に突出する円筒状の突出部１ｈと、本体１ａの穴部１ｂの円筒状内壁面１ｉに該円筒状内壁面１ｉの接線方向であって該穴部１ｂの中心Ｏを挟んで対角線上の相対向する位置に形成された凹部１ｊ、１ｊと、夫々の凹部１ｊに形成され、穴部１ｂの円筒状内壁面１ｉ側に向かって夫々反対方向に開口する空気の噴出口１ｋ、１ｋと、噴出口１ｋに連通し、本体１ａの外周面に開口する空気取入口１ｌ、１ｌとを備える。

　上記旋回流形成体１は、空気取入口１ｌ、１ｌを介して夫々噴出口１ｋ、１ｋから噴出した空気が本体１ａの穴部１ｂの円筒状内壁面１ｉに当接することにより、平面視右回り方向の上昇旋回流（図１（ｂ）中の矢印方向）を発生させる。

　図２（ａ）乃至図２（ｆ）は、本発明にかかる旋回流形成体における平面視左回り方向の上昇旋回流を発生させる旋回流形成体４であり、該旋回流形成体４は、前記旋回流形成体１と同様、例えばポリアセタール樹脂等の熱可塑性合成樹脂から一体成形された椀状の本体４ａと、本体４ａの内部に位置するとともに一方に開口する平面視円形の穴部４ｂと、本体４ａに形成され、該穴部４ｂの開口部の外周縁に一体に形成された環状鍔部４ｃと、該環状鍔部４ｃの外周面４ｄから下方に向かって突出し、先端に係止突起４ｅを有して径方向に相対向して形成された４本の突出部４ｆと、本体４ａの底面４ｇの中央部において該底面４ｇから僅かに下方に突出する円筒状の突出部４ｈと、本体４ａの穴部４ｂの円筒状内壁面４ｉに該内壁面４ｉの接線方向であって該穴部４ｂの中心Ｏを挟んで対角線上の相対向する位置に形成された凹部４ｊ、４ｊと、夫々の凹部４ｊに形成され、該穴部４ｂの円筒状内壁面４ｉ側に向かって夫々反対方向に開口する空気の噴出口４ｋ、４ｋと、噴出口４ｋ、４ｋに連通し、本体４ａの外周面に開口する空気取入口４ｌ、４ｌとを備える。

　上記旋回流形成体４は、空気取入口４ｌ、４ｌを介して夫々噴出口４ｋ、４ｋから噴出した空気が本体４ａの穴部４ｂの円筒状内壁面４ｉに当接することにより、平面視左回り方向の上昇旋回流（図２（ｂ）の矢印方向）を発生させる。

　上記旋回流形成体１又は４が装着される基体２は、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、搬送面２ａに穿設され、上面に開口する平面視円形の収容部２ｂと、該収容部２ｂの底面２ｄと、該収容部２ｂの円筒状内壁面２ｃに収容部２ｂの開口部の直径よりも大径に形成された帯状の円筒状係止凹部２ｅと、ポンプ（不図示）から基体２の長手方向に沿って形成された空気通路２ｆを介して供給される空気を収容部２ｂに供給する貫通孔２ｇとを備える。

　基体２の収容部２ｂに旋回流形成体１を装着するには、基体２の収容部２ｂに旋回流形成体１を突出部１ｆの係止突起１ｅ側から挿入し、図５（ａ）に示すように、旋回流形成体１の突出部１ｈを基体２の収容部２ｂの底面２ｄに当接させた後、旋回流形成体１を押し下げると、本体１ａが撓んで係止突起１ｅが帯状の円筒状係止凹部２ｅに挿入される。その後、旋回流形成体１の下方への押圧力を解除すると、図５（ｂ）に示すように、本体１ａが元の形状に戻り、旋回流形成体１の係止突起１ｅが基体２の円筒状係止凹部２ｅに係止された状態で旋回流形成体１が基体２に強固に固着される。このとき、旋回流形成体１の本体１ａの環状鍔部１ｃの外周面１ｄは基体２の収容部２ｂの円筒状内壁面２ｃと圧入嵌合されているので、当該圧入嵌合部からの空気の漏れが防止される。尚、旋回流形成体４を基体２の収容部２ｂに装着する場合も、前記旋回流形成体１の基体２の収容部２ｂへの装着方法と同様の方法で行なわれる。

　図４（ａ）、（ｂ）は、旋回流形成体１又は４が装着される基体２の他の実施の形態を示すもので、搬送面２ａに穿設され、上面に開口する平面視円形の収容部２ｂと、該収容部２ｂの底面２ｄと、該収容部２ｂの円筒状内壁面２ｃに収容部２ｂの開口部の直径よりも大径に形成された帯状の円筒状係止凹部２ｅと、ポンプ（不図示）から基体２の長手方向に沿って形成され、一部が前記収容部２ｂに開口する空気通路２ｆとを備えている。この図４（ａ）、（ｂ）に示す基体２においては、前記図３（ａ）、（ｂ）に示す基体２における空気通路２ｆから空気を収容部２ｂに供給する貫通孔２ｇが不要となる。尚、この図４（ａ）、（ｂ）に示す基体２への旋回流形成体１又は４の装着方法は、前記図５（ａ）、（ｂ）で説明した装着方法と同様である。

　次に、上記旋回流形成体１と、該旋回流形成体１を装着した基体２の動作について、図６を参照して説明する。

　ポンプ（不図示）から基体２の空気通路２ｆに供給された空気は、該空気通路２ｆに連通する貫通孔２ｇを介して収容部２ｂに供給され、収容部２ｂから旋回流形成体１の空気取入口１ｌ、１ｌ（図１（ｅ）参照）を介して夫々噴出口１ｋ、１ｋから穴部１ｂに噴出する。噴出した空気は、穴部１ｂの円筒状内壁面１ｉに当接し、旋回流形成体１の穴部１ｂの上方に平面視右回り方向（時計回り方向）の上昇旋回流を発生させ、この上昇旋回流にて被搬送物であるガラス３を浮上させる。

　次に、本発明にかかる非接触搬送装置の一実施の形態について、図７及び図８を参照しながら説明する。

　図７に示す非接触搬送装置１０は、ガラス３を非接触で搬送するために使用され、２つの搬送工程１１及び１３と、これら搬送工程１１及び１３に挟まれたプロセス工程１２を備える。

　２つの搬送工程１１及び１３では、旋回流形成体１及びこの旋回流形成体１とは逆向きの旋回流を生じさせる旋回流形成体４を、基体２の搬送面２ａに２列にわたって、図７の紙面上で上下左右に交互に複数個装着して構成した非接触搬送装置２１を、並列に３基配置している。尚、図を見易くするため、旋回流形成体４を黒塗りで示している。

　一方、プロセス工程１２における非接触搬送装置３２は、図７（ａ）に示すように、平面視右回り方向の上昇旋回流を発生させる旋回流形成体１と微量の空気を吸い込む流体吸い込み用の小径孔３１とを基体２の幅方向に沿って交互に配置した列と、平面視左回り方向の上昇旋回流を発生させる旋回流形成体４と微量の空気を吸い込む流体吸い込み用の小径孔３１とを基体２の幅方向に沿って交互に配置した列とが該基体２の長手方向に沿って交互に配置されるとともに該基体２の幅方向及び長手方向に隣接する旋回流形成体１、１との間及び隣接する旋回流形成体４、４との間に直径１～２ｍｍ程度の小径孔３１が位置するように配列された基体２を備えている。この非接触搬送装置３２は、図７（ｂ）に示すように、並列に３列配置して構成される。

　次に、上記プロセス工程１２における非接触搬送装置３２の詳細構造について、図８を参照しながら説明する。

　基体２の搬送面２ａに装着された旋回流形成体１及び４へは、基体２の内部において基体２の長手方向に沿って穿設された空気通路２ｆ及びポンプ（不図示）を介して空気が供給され、図１（ｅ）に示す旋回流形成体１の噴出口１ｋ、１ｋ及び図２（ｅ）に示す旋回流形成体４の噴出口４ｋ、４ｋから穴部１ｂ及び４ｂに噴出する。これら噴出口１ｋ、１ｋ及び４ｋ、４ｋから噴出した空気は、該穴部１ｂ及び４ｂの円筒状内壁面１ｉ及び４ｉに当接することにより、該旋回流形成体１は穴部１ｂの上方に平面視右回り方向の上昇旋回流を発生し、また旋回流形成体４は穴部４ｂの上方に平面視左回り方向の上昇旋回流を発生させる。ここで、図８（ｂ）に示すように、各空気通路２ｆは、互いに連通孔（不図示）によって連通しているため、噴出口１ｋ、１ｋ及び４ｋ、４ｋからの空気の噴出量を均一に維持することができ、ガラス３の浮上高さを均一に制御することができる。

　また、基体２の搬送面２ａに開口して該基体２の幅方向及び長手方向に隣接する旋回流形成体１と１との間、及び隣接する旋回流形成体４と４との間に位置するように配列された直径１～２ｍｍ程度の小径孔３１は、図８（ｂ）に示すように、基体２の長手方向に沿って穿設された空気通路４１に連通しているとともに該空気通路４１は連通孔（不図示）によって連通している。従って、小径孔３１は、旋回流形成体１及び４の周辺の空気を真空ポンプ（不図示）で吸引することにより、小径孔３１からの空気の吸引量を均一に維持することができ、ガラス３の浮上高さを均一に、かつ高精度に制御することができる。

　このようにプロセス工程における非接触搬送装置３２においては、旋回流形成体１及び旋回流形成体４の噴出口１ｋ、１ｋ及び４ｋ、４ｋへの給気圧により浮上量を大きくする作用と、小径孔３１からの真空吸着圧により浮上量を小さくする作用の両作用を制御することにより、３０～５０μｍの被搬送物の浮上高さを高精度に制御することができる。

　次に、上記構成を有する非接触搬送装置１０の動作について、図７を参照して説明する。

　搬送工程１１における非接触搬送装置２１において浮上した状態で、別途設けた空気噴出装置（不図示）等によって搬送されたガラス３は、プロセス工程１２における非接触搬送装置３２に入ると、旋回流形成体１及び４に発生する上昇旋回流によって浮上するとともに、各旋回流形成体間に位置せしめられた小径孔３１で周囲の微量の空気を真空吸着することで、ガラス３が３０～５０μｍの浮上高さに高精度に制御され、各種検査や加工が行なわれる。その後、ガラス３は、搬送工程１３における非接触搬送装置２１において浮上した状態で、別途設けた空気噴出装置等によって次工程へと搬送される。ここで、０．７ｍｍの厚さのガラス３を図７（ｂ）に示したプロセス工程１２において、旋回流形成体１、４の穴部１ｂ、４ｂの直径φ１６ｍｍ、噴出口１ｋ、４ｋの径０．３５ｍｍ、給気圧５０ｋＰａ、真空吸着圧１０ｋＰａの条件での搬送状態では、ガラス３のうねりの振幅を３０μｍ以下に抑えることができるのに対し、前後の搬送工程１１及び１３では、ガラス３のうねりの振幅は１００μｍを超えるものであったという実験結果を得ている。

　図９は、図７（ｂ）に示した非接触搬送装置１０のプロセス工程１２の他の実施の形態を示すもので、このプロセス工程１２では、並列に３基配列した非接触搬送装置３２に該非接触搬送装置３２と隣接してさらに３基の非接触搬送装置３２を配列したものである。この非接触搬送装置３２を２列配列したプロセス工程１２においては、非接触搬送装置３２と３２との間で、例えばカメラ透過チェック等の作業が行なわれる。

　尚、上記実施の形態においては、図１及び図２に示すように、旋回流形成体１及び４の穴部１ｂに凹部１ｊ及び４ｊを設け、凹部１ｊ及び４ｊに噴出口１ｋ及び４ｋを形成したが、必ずしも凹部１ｊ及び４ｊを設ける必要はなく、穴部１ｂの円筒状内壁面１ｉ及び４ｉに直接噴出口１ｋ及び４ｋを形成することもできる。

　また、旋回流形成体１及び４の本体１ａ及び４ａの環状鍔部１ｃ及び４ｃの外周面１ｄ及び４ｄに係止突起１ｅ及び４ｅを有する突出部１ｆ及び４ｆを径方向に相対向して４本延設したが、突出部１ｆ及び４ｆの本数は４本に限定されず、３本又は５本以上とすることができる。さらに、旋回流形成体１及び４を基体２に装着するにあたって、係止突起１ｅ及び４ｅを有する突出部１ｆ及び４ｆを用いずに、他の係止構造を採用することもできる。

　さらに、上記各実施形態においては、流体として空気を用いる場合について説明したが、空気以外の窒素等のプロセスガスを使用することもできる。

１、４　旋回流形成体
１ａ、４ａ　本体
１ｂ、４ｂ　穴部
１ｃ、４ｃ　環状鍔部
１ｄ、４ｄ　環状鍔部の外周面
１ｅ、４ｅ　係止突起
１ｆ、４ｆ　突出部
１ｇ、４ｇ　底面
１ｈ、４ｈ　突出部
１ｉ、４ｉ　円筒状内壁面
１ｊ、４ｊ　凹部
１ｋ、４ｋ　噴出口
１ｌ、４ｌ　空気取入口
２　基体
２ａ　搬送面
２ｂ　収容部
２ｃ　円筒状内壁面
２ｄ　底面
２ｅ　円筒係止凹部
２ｆ　空気通路
２ｇ　貫通孔
３　ガラス
１０　非接触搬送装置
１１、１３　搬送工程
１２　プロセス工程
２１　非接触搬送装置
３１　小径孔
３２　非接触搬送装置
４１　空気通路

Claims (6)

1. 　表面側に開口する平面視円形の穴部を有する椀状の本体と、
   　該本体の前記穴部を形成する内表面に開口する流体噴出口と、
   　前記本体の外表面に開口し、前記流体噴出口と連通する流体取入口とを備え、
   　前記流体噴出口から流体を噴出することにより、前記本体の表面側に該表面から離れる方向へ向かう上昇旋回流を生じさせることを特徴とする旋回流形成体。
2. 　前記本体は、底面に突出部を備えるとともに、前記穴部の開口部の外周縁に一体に形成された環状鍔部を備え、該環状鍔部の外周面から前記底面側に向かって突出し、先端に係止突起を有する複数個の突出部を備えることを特徴とする請求項１に記載の旋回流形成体。
3. 　前記流体噴出口は、前記穴部の円筒状内壁面に該円筒状内壁面の接線方向であって該穴部の中心を挟んで対角線上の相対向する位置に形成された凹部に、夫々前記穴部の円筒状内壁面側に前記開口部を夫々反対方向に向けて形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の旋回流形成体。
4. 　該旋回流形成体は、熱可塑性合成樹脂で一体成形されることを特徴とする請求項１、２又は３に記載の旋回流形成体。
5. 　基体と、該基体の搬送面に装着された互いに平面視反対方向の上昇旋回流を発生させる２個以上の旋回流形成体とからなる非接触搬送装置であって、該基体は、搬送面に開口する平面視円形の複数個の収容部と、該収容部の底面と、該収容部の円筒状内壁面に該収容部の開口部の直径よりも大径の帯状の円筒係止凹部とを備え、前記旋回流形成体は、請求項２乃至４のいずれかに記載の旋回流形成体であって、前記本体の底面に形成された突出部が前記基体の収容部の底面に当接して該本体が撓むことにより、前記複数個の係止突起の夫々が前記基体の円筒係止凹部に収容され、該本体が元の形状に戻ることにより前記複数個の係止突起の夫々が該円筒係止凹部に係止されるとともに、該本体の環状鍔部の外周面が前記基体の収容部の円筒状内壁面に圧入嵌合されることにより該旋回流形成体が前記基体の収容部に装着されることを特徴とする非接触搬送装置。
6. 　一方向の上昇旋回流を発生させる前記請求項２乃至４のいずれかに記載の旋回流形成体と流体吸い込み用の孔とを前記基体の幅方向に沿って交互に配置した列と、他方向の上昇旋回流を発生させる前記請求項２乃至４のいずれかに記載の旋回流形成体と流体吸い込み用の孔とを前記基体の幅方向に沿って交互に配置した列とが、該基体の長手方向に沿って交互に配置されるとともに、該基体の幅方向及び長手方向に位置する同方向に上昇旋回流を発生させる前記旋回流形成体の間に、前記流体吸い込み用の孔が位置するように配列されることを特徴とする請求項５に記載の非接触搬送装置。

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