JP2012103256A - 検査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 基板を検査するにおいての所要される時間を節減することができ、空間を確保することのできる検査装置を提供する。
【解決手段】基板上に形成された測定対象物の良否を判断する検査装置はワークステージ部、光学モジュール及び光学モジュール移送部を含む。光学モジュール移送部は光学モジュールの上部に配置されて光学モジュールと結合され、光学モジュールを移送する。それにより、基板を検査するに所要される時間を節減することができ、空間を確保することができる。
【選択図】図１

Description

本発明は検査方法に関し、より詳細には基板上に形成された測定対象物の良否を判断する検査装置に関する。

一般的に、電子装置内には少なくとも一つの印刷回路基板（ｐｒｉｎｔｅｄ ｃｉｒｃｕｉｔ ｂｏａｒｄ：ＰＣＢ）が具備され、このような印刷回路基板上には回路パターン、連結パッド部、前記連結パッド部と電気的に連結された駆動チップなど多様な回路素子が実装されている。

一般的に、前記のような多様な回路素子が前記印刷回路基板に適切に形成または配置されているかを確認するために基板検査装置が用いられる。

従来の基板検査装置は、印刷回路基板を検査するために相当の時間を要し、広い作業スペースを占有するという問題点があった。

従って、基板の検査のために所要される時間を節減することができ、スペースを確保或いは節約できる検査装置が要求される。

従って、本発明が解決しようとする課題は、基板を検査するために所要される時間を節減することができ、スペースを確保或いは節約できる検査装置を提供することにある。

本発明の更なる特徴は下記の詳細な説明において記載され、その特徴の一部は明細書の記載から明らかであり、或いは本発明の実施によって教示されるであろう。

本発明の例示的な一実施形態に係る検査装置は、ワークステージ部、光学モジュール及び光学モジュール移送部を含む。前記ワークステージ部は基板を測定位置に移送し、支えるワークステージを含む。前記光学モジュールは前記基板の上部に配置され前記基板に格子パターン光を照射する投影部、前記投影部の側部に配置され前記基板によって上方に反射された前記格子パターン光を受信して反射イメージを獲得するイメージ獲得部、及び前記基板によって上方に反射された前記格子パターン光の経路を変更して前記格子パターン光が下方に前記イメージ獲得部に入射されるように前記格子パターン光を前記イメージ獲得部に案内する第１光経路変更部を含む。前記光学モジュール移送部は前記光学モジュールの上部に配置され前記光学モジュールと結合し、前記光学モジュールを移送する。

例えば、前記ワークステージ部は前記基板を前記測定位置に移送するターゲット移送装置を含み、前記ターゲット移送装置は前記基板を第１方向に移送し、前記光学モジュール移送部は前記光学モジュールを前記第１方向に垂直である第２方向に移送し、前記イメージ獲得部は前記第２方向に対応する前記投影部の第１側部に配置してもよい。前記検査装置は前記イメージ獲得部が配置された前記投影部の第１側部の反対側である第２側部に配置されたケーブルガイド部をさらに含んでいてもよい。前記光学モジュール移送部は、ケーブルガイド部の上部で前記ケーブルガイド部と結合してもよい。

一実施形態として、前記第１光経路変更部は、前記基板によって上方に反射された前記格子パターン光を前記イメージ獲得部が位置する前記投影部の側部に向かって水平に反射させる第１ミラーを含んでいてもよい。

前記第１光経路変更部は前記第１ミラーによって水平に反射された前記格子パターン光を前記イメージ獲得部に向かって下方に反射させる第２ミラーを含んでいてもよい。

前記投影部は前記基板に垂直となるように配置され、前記光学モジュールは、前記投影部から発生された格子パターン光が前記基板に傾斜して入射されるように光経路を変更する第２光経路変更部をさらに含んでいてもよい。前記投影部は２ｍ個で具備され（ｍは自然数）、前記２ｍ個の投影部は平面的に観測する際、前記基板と平行である円周上に一定間隔で配置され、前記第２光経路変更部は前記各投影部の下に配置された第３ミラー及び前記第３ミラーの下に配置された第４ミラーを含んでいてもよい。前記第３ミラーは前記投影部から垂直に下方に照射される前記格子パターン光を前記投影部と向き合う投影部の下に配置された前記第４ミラーに向かって反射させ、前記第４ミラーは前記第３ミラーから提供された前記格子パターン光を前記基板に向かって反射させる。

前記光学モジュールは、前記投影部、前記イメージ獲得部及び前記第１光経路変更部と一体に結合され、前記光学モジュールのボディー（ｂｏｄｙ）の下に配置され、前記基板に光を照射する照明部をさらに含んでいてもよい。

本発明の例示的な他の実施形態に係る検査装置は、基板に格子パターン光を照射する投影部と、前記基板によって反射された前記格子パターン光を受信して反射イメージを獲得するイメージ獲得部と、前記投影部から発生された格子パターン光が前記基板に傾斜して入射されるように光経路を変更する少なくとも一つのミラー及び前記ミラーを固定させるミラー固定部を含む光経路変更部と、前記光経路変更部のミラー固定部と結合し、前記ミラー固定部の下部に配置され前て記基板に光を照射する照明部と、を含む。

一実施形態として、前記投影部は２ｍ個具備され（ｍは自然数）、それぞれ前記基板に垂直となるように配置され、前記２ｍ個の投影部は平面的に観測する際、前記基板と平行する円周上に一定間隔に配置されてもよい。前記光経路変更部は、前記各投影部の下に配置された第３ミラー及び第３ミラーの下に配置された第４ミラーを含んでいてもよい。前記第３ミラーは前記投影部から垂直に下方に照射される前記格子パターン光を前記投影部と向き合う投影部の下に配置された前記第４ミラーに向かって反射させ、前記第４ミラーは、前記第３ミラーから提供された前記格子パターン光を前記基板に向かって反射させる。

一実施形態として、前記検査装置は、前記基板を隣接する装置から伝達を受け、測定位置に移送し、並列的に配置されて前記基板を支える少なくとも２つのワークステージを含むワークステージ部と、前記投影部及び前記イメージ獲得部の上部に配置されて前記投影部及び前記イメージ獲得部と結合し、前記投影部及び前記イメージ獲得部を移送する光学モジュール移送部と、をさらに含んでいてもよい。

本発明によると、複数のワークステージを含んで独立的に基板検査の遂行が可能となるようにして基板を検査するに所要される時間を大きく節減することができる。また、投影部を含む光学モジュールを移送するための光学モジュール移送部を前記光学モジュールの上部に配置し、投影部から発生された格子パターン光を受信するイメージ獲得部を前記投影部の側部に配置し、複数のワークステージ部の設置により狭くなった空間を確保することができる。

本発明の一実施形態による基板検査装置を示す正面図である。 図１に示す基板検査装置のワークステージ部を説明するための平面図である。 図１に示す基板検査装置の光学モジュールの光経路を説明するための概念図である。 図１に示された基板検査装置の光学モジュールの一実施形態を示す正面図である。 図４に示された基板検査装置の光学モジュールの平面図である。

本発明は多様な変更を加えることができ、多様な形態を有することできる。ここでは、特定の実施形態を図面に例示し本文に詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の開示形態に限定するものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物乃至代替物を含むこととして理解されるべきである。

第１、第２などの用語は多用な構成要素を説明するのに使用されることがあるが、前記構成要素は前記用語によって限定解釈されない。前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的のみとして使用される。例えば、本発明の権利範囲を外れることなく第１構成要素を第２構成要素ということができ、類似に第２構成要素も第１構成要素ということができる。

本出願において使用した用語は単なる特定の実施形態を説明するために使用されたもので、本発明を限定しようとする意図ではない。単数の表現は文脈上明白に示さない限り、複数の表現を含む。本出願において、「含む」または「有する」などの用語は明細書に記載された特徴、数字、ステップ、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在することを意味し、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、ステップ、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものの存在または付加可能性を予め排除しないこととして理解されるべきである。

特別に定義しない限り、技術的、科学的用語を含んでここで使用される全ての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者によって一般的に理解されるのと同一の意味を有する。

一般的に使用される辞書に定義されている用語と同じ用語は関連技術の文脈上有する意味と一致する意味を有すると解釈されるべきであり、本出願で明白に定義しない限り、理想的或いは過度に形式的な意味に解釈されない。

以下、図面を参照して本発明の好適な一実施形態をより詳細に説明する。

図１は本発明の一実施形態による基板検査装置を示す正面図であり、図２は図１に示された基板検査装置のワークステージ部を説明するための平面図であり、図３は図１に示された基板検査装置の光学モジュールの光経路を説明するための概念図である。

図１乃至図３を参照すると、本発明の一実施形態による基板検査装置１００は、作業台１１０、ワークステージ部１２０、光学モジュール１３０及び光学モジュール移送部１４０を含む。

前記作業台１１０は、基板検査の遂行が可能となるように備えられたテーブルである。

前記ワークステージ部１２０は、前記作業台１１０上に設置され、検査の対象となる基板１０を支持する。

前記ワークステージ部１２０は、並列的に配置された少なくとも２つのワークステージ部を含む。例えば、前記ワークステージ部１２０は、図１に示すように、第１ワークステージ１２２及び第２ワークステージ１２４を含む。

前記第１ワークステージ１２２及び前記第２ワークステージ１２４は、独立的に基板１０を受容して支持することができ、前記第１ワークステージ１２２及び前記第２ワークステージ１２４でそれぞれ独立的に前記基板１０に対する検査が遂行できる。

前記第１ワークステージ１２２及び前記第２ワークステージ１２４は、第１側に隣接する装置２００から検査の対象となる前記基板１０を受けることができる。また、前記第１ワークステージ１２２及び前記第２ワークステージ１２４は、前記第１側の反対側である第２側に隣接する装置３００に前記基板１０を移動させることができる。図２において、前記基板が移動する方向は、第１方向Ｄ１で示し、太い矢印は前記基板の移動流れを示す。

一実施形態として、前記第１側に隣接する装置２００は、ハンダ（solder）を前記基板１０に塗布するスクリーン印刷機（screen printer）であっても、前記第２側に隣接する装置３００は、前記基板１０上に電子部品を搭載するチップマウンター等のマウンター（ｍｏｕｎｔｅｒ）であってもよい。例えば、前記基板検査装置１００は、前記スクリーン印刷機によってハンダが塗布されて移動してきた基板１０を受けた後、前記基板１０に塗布されたハンダの良否を検査する。前記基板検査装置１００は、前記検査結果が“良”である場合、前記マウンターに前記基板１０を移送し、前記マウンターは前記基板１０上に部品を搭載する。

前記基板検査装置１００が複数のワークステージを含み、各ワークステージにおいて独立的に前記基板１０の検査を遂行することができるので、複数個の基板の検査に所要される時間を大きく節減することができる。例えば、検査しようとするいずれか一つの基板１０が、第１ワークステージ１２２に受容されその検査が遂行中に、他の基板１０が予め第２ワークステージ１２４に受容される。続いて、前記いずれか一つの基板１０の検査が完了され、当該基板１０が前記第２側に隣接する装置３００に移送される時、前記第２ワークステージ１２４に受容された前記他の基板１０に対する検査が遂行される。従って、前記基板１０の伝達による時間を節減することができる。

前記第１ワークステージ１２２及び前記第２ワークステージ１２４は一体に形成してもよく、互いに独立的に形成してもよい。 前記第１ワークステージ１２２及び前記第２ワークステージ１２４は、前記基板１０のサイズに応じて、前記第１方向Ｄ１に実質的に垂直である第２方向Ｄ２に前記基板１０を並べる（align）ように形成してもよい。

前記ワークステージ部１２０は、ターゲット移送装置１２６及び回転ベルト１２８を含む。

前記ターゲット移送装置１２６は、前記第１ワークステージ１２２及び第２ワークステージ１２４に移送された前記基板１０を前記第１方向Ｄ１に測定位置まで移送する。前記基板１０の検査が完了された後には、前記ターゲット移送装置１２６は、前記第１方向Ｄ１に第２側に隣接する装置３００に前記基板１０を移送する。

一実施形態として、前記ターゲット移送装置１２６は駆動モータ１２６ａ、回転シャフト１２６ｂを含む。前記駆動モータ１２６ａは、前記回転シャフト１２６ｂを回転させる。

前記回転ベルト１２８は、前記回転シャフト１２６ｂの回転に従って回転し、前記回転ベルト１２８と前記回転シャフト１２６ｂとの間には前記回転シャフト１２６ｂの回転力を前記回転ベルト１２８に伝達するローラ（roller）（図示せず）を形成してもよい。

前記光学モジュール１３０は、前記基板１０を検査するために、光を発生して前記発生された光が前記基板１０によって反射された光を受信してイメージを獲得する。前記光学モジュール１３０は、投影部１３２、イメージ獲得部１３４及び第１光経路変更部１３６を含む。

前記投影部１３２は、前記基板の上部に配置されて前記基板に格子パターン光を照射する。前記投影部１３２は、前記基板１０に形成された測定対象物２０の３次元形状を測定するために、高さ情報、可視性のある情報（ｖｉｓｉｖｉｌｉｔｙ ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ）等の３次元情報を獲得するための格子パターン光を前記基板１０上に照射する。

例えば、投影部１３２は、光を発生させる光源１３２ａ、前記光源１３２ａからの光を格子パターン光に変換させるための格子素子１３２ｂ、前記格子素子１３２ｂをピッチ移送させるための格子移送器具１３２ｃ及び前記格子素子１３２ｂによって変換された格子パターン光を前記測定対象物２０に投影するための投影レンズ１３２ｄを含む。

前記格子素子１３２ｂは、前記格子パターン光の移送遷移のために圧電アクチュエータ（ｐｉｅｚｏｅｌｅｃｔｒｉｃ（ＰＺＴ） ａｃｔｕａｔｏｒ）等の格子移送器具１３２ｄを用いて１回当たり２π/ｎずつ合計ｎ−１回移送できる。ここで、ｎは２以上の自然数である。このような構成を有する投影部１３２は、検査精度を高めるために、前記測定対象物２０を中心に円周方向に沿って実質的に一定の角度で互いに離隔させて複数個が設置されてもよい。

前記イメージ獲得部１３４は、前記基板１０によって上方に反射された前記格子パターン光を受信して反射イメージを獲得する。例えば、前記イメージ獲得部１３４は、ＣＣＤカメラまたはＣＭＯＳカメラから一つを採用することができ、前記カメラに前記反射イメージを結像するために、結像レンズ（図示せず）が設置されてもよい。

前記イメージ獲得部１３４は、前記投影部１３２の側部に配置される。並列的に配置された複数のワークステージによって狭くなった空間を確保するために、後術される前記光学モジュール移送部１４０は、従来のように前記光学モジュール１３０の側部に設置せず、前記光学モジュール１３０の上部に設置する。また、前記光学モジュール１３０の上部に設置された前記光学モジュール移送部１４０によって前記光学モジュール１３０の安定性と精度が毀損しないように、前記イメージ獲得部１３４は、従来のように前記基板１０の垂直した上部に設置せず、前記投影部１３２の側部に配置する。従来のように前記イメージ獲得部１３４は前記基板１０に対して実質的に垂直な上部に設置する場合、前記光学モジュール１３０と前記光学モジュール移送部１４０との間の距離が増加することにより、前記光学モジュール１３０も安定性と精度が毀損されることがある。

一実施形態として、前記イメージ獲得部１３４は、前記第２方向Ｄ２に対応する前記投影部１３２の第１側部に配置してもよい、図３において、前記イメージ獲得部１３４は、前記投影部１３２の右側に配置される。これとは異なり、前記イメージ獲得部１３４は、前記投影部１３２の左側に配置してもよい。

前記第１光経路変更部１３６は、前記基板１０によって上方に反射された前記格子パターン光の経路を変更して前記格子パターン光が下方に前記イメージ獲得部１３４に入射されるように前記格子パターン光を前記イメージ獲得部１３４に案内する。

一実施形態として、前記第１光経路変更部１３６は、第１ミラー１３６ａ、及び第２ミラー１３６ｂを含む。

前記第１ミラー１３６ａは、前記基板１０によって上方に反射された前記格子パターン光を前記イメージ獲得部１３４が位置する前記投影部１３２の側部に向かって水平に反射させる。即ち、前記第１ミラー１３６ａは、前記基板１０によって上方に反射された前記格子パターン光を右側方向に反射して前記第２ミラー１３６ｂに提供する。

前記第２ミラー１３６ｂは、前記第１ミラー１３６ａによって水平に反射された前記格子パターン光を前記イメージ獲得部１３４に向かって下方に反射させる。即ち、前記第２ミラー１３６ｂは、前記第１ミラー１３６ａによって右側方向に反射された前記格子パターン光を下方に反射して、前記格子パターン光を前記投影部１３２の側部に配置された前記イメージ獲得部１３４に提供する。

前記光学モジュール移送部１４０は、前記光学モジュール１３０の上部に配置され前記光学モジュール１３０と結合し、前記光学モジュール１３０を移送する。

一実施形態として、前記光学モジュール移送部１４０は、前記光学モジュール１３０を前記第１方向Ｄ１に移送するための第１移送ガイド１４２及び前記光学モジュール１３０を前記第２方向Ｄ２に移送するための第２移送ガイド１４４を含む。前記第２移送ガイド１４４は、前記第２方向Ｄ２に対応する前記作業台１１０の両側に設置されたガイド支持台１４６によって支持できる。

前記光学モジュール移送部１４０が前記作業台１１０上の前記光学モジュール１３０の側部に設置されず、前記光学モジュール１３０の上部に配置されて前記光学モジュール１３０と結合するので、並列的に配置された複数のワークステージによって狭くなった空間を確保することができる。

一方、前記光学モジュール１３０の投影部１３２は、図３に示すように、傾斜して配置されて前記基板１０上に前記格子パターン光を照射することもできるが、これとは異なり、前記格子パターン光の照射経路を変更して前記格子パターン光を傾斜するようにすることもできる。

図４は、図１に示す基板検査装置の光学モジュールの一実施形態を示す正面図であり、図５、は図４に示す基板検査装置の光学モジュールの平面図である。

図４及び図５を参照すると、前記投影部１３２は、前記基板１０に垂直して配置してもよい。従って、前記投影部１３２が占有する空間を縮小させることができるので、作業空間をより効率的に活用することができる。

前記光学モジュール１３０は、前記投影部１３２から発生された格子パターン光が前記基板１０に傾斜して入射されるように光経路を変更する第２光経路変更部１３７をさらに含んでいてもよい。

一実施形態として、前記第２光経路変更部１３７は、第３ミラー１３７ａ及び第４ミラー１３７ｂを含んでいてもよい。前記第３ミラー１３７ａは、前記投影部１３２に対して実質的に垂直に下方に照射される前記格子パターン光を前記第４ミラー１３７ｂに向かって反射させる。前記第４ミラー１３７ｂは、前記第３ミラー１３７ａから提供された前記格子パターン光を前記基板１０に向かって反射させる。

例えば、光学モジュール１３０において、前記投影部１３２は２ｍ個で具備され（ｍは自然数）、前記２ｍ個の投影部１３２は平面視において前記基板１０と実質的に平行する円周上に一定間隔で配置してもよい。図４において、前記光学モジュール１３０は、４個の投影部１３２を具備する。この場合、前記第３ミラー１３７ａは前記各投影部１３２の下に配置され、前記第４ミラー１３７ｂは前記第３ミラー１３７ａの下に配置される。前記第３ミラー１３７ａは、前記投影部１３２に対して実質的に垂直に下方に照射される前記格子パターン光を前記投影部１３２と向き合い且つ投影部１３２の下に配置された前記第４ミラー１３７ｂに向かって反射させる。そして、前記第４ミラー１３７ｂは、前記第３ミラー１３７ａから提供された前記格子パターン光を前記基板１０に向かって反射させる。

従って、前記投影部１３２を前記基板１０に対して実質的に垂直に配置して前記投影部１３２が占有する空間を縮小させることができるので、前記並列的に配置されたワークステージによって狭くなった空間を確保することができる。

前記２ｍ個の投影部１３２それぞれに対応する格子素子（図示せず）は、一つ格子移送器具（図示せず）によって移送されるように構成しても良い。即ち、前記投影部１３２が前記基板１０に対して実質的に垂直に配置される場合、図３と異なって前記投影部１３２が平行に配置されるので、少なくとも２つの投影部１３２に対応する格子素子を一つの格子移送器具を用いて移送することができる。

一方、前記投影部１３２、前記イメージ獲得部１３４、前記第２光経路変更部１３６、及び前記第２光経路変更部１３７は、ボディ１３８に全部一体的に形成してもよい。また、前記ボディ１３８の下には照明装着部１３８ａが一体に形成されてもよい。前記照明装着部１３８ａは、例えば、円形または四角形のリング形状を有してもよい。一方、厳格に言えば、参照番号１３６ａ、１３６ｂ、１３７ａ及び１３７ｂは、前記第１、第２、第３及び第４ミラーを前記ボディ１３８に固定するミラー固定部をそれぞれ指すが、便宜上図４及び図５においては前記参照番号を前記第１、第２、第３及び第４ミラーに関する参照番号として使用する。

前記光学モジュール１３０は、照明部１３９をさらに含んでいてもよい。前記照明部１３９は、前記基板１０の最初の配列または検査領域設定等のために光を照射することもでき、前記測定対象物２０の２次元的映像（ｔｗｏ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ｉｍａｇｅ）を獲得するためのカラー照明を照射することもできる。

一実施形態として、前記照明部１３９は、前記照明装着部１３８ａの上面に配置された駆動基板１３９ａ及び前記駆動基板１３９ａの下面に配置された光源１３９ｂを含む。前記駆動基板１３９ａは印刷回路基板（ＰＣＢ）として前記光源１３９ｂを駆動し、前記光源１３９ｂは前記基板１０に照明を照射する。例えば、前記照明部１３９は、白色光を発生させる蛍光ランプを含んでいてもよく、または赤色光、緑色光及び青色光をそれぞれ発生させる赤色発光ダイオード（ＬＥＤ）、緑色発光ダイオード（ＬＥＤ）及び青色発光ダイオード（ＬＥＤ）のうち少なくともいずれか一つを含んでいてもよい。

前記照明部１３９は、前記基板１０に形成された測定対象物２０の３次元情報を獲得するための格子パターン光を照射する前記投影部１３２とは異なり、最初の配列、検査領域設定などのための光や２次元映像（ｔｗｏ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ｉｍａｇｅ）を獲得するためのカラー照明を照射する。前記照明部１３９は、上述した基板検査装置１００の構造的特長により、従来と異なって前記光学モジュール１３０と一体に形成されることもできる。

前記第３ミラー１３７ａ及び前記第４ミラー１３７ｂは、それぞれミラー固定部によって前記ボディ１３８に固定され、前記照明部１３９は、前記ミラー固定部と結合し、前記ミラー固定部の下部に配置されて前記基板１０に光を照射することができる。

前記基板検査装置１００は、前記基板検査装置１００に使用された各種ケーブルを案内するためのケーブルガイド部１５０をさらに含んでいてもよい。

一実施形態として、前記ケーブルガイド部１５０は、前記イメージ獲得部１３４が配置された前記投影部１３２の第１側部に対して反対側である第２側部に配置してもよい。図４において、前記ケーブルガイド部１５０は、前記投影部１３２の左側に配置される。これとは異なり、前記イメージ獲得部１３４が前記投影部１３２の左側に配置される場合、前記ケーブルガイド部１５０は前記投影部１３２の右側に配置されてもよい。

前記ケーブルガイド部１５０はケーブルチェイン（ｃａｂｌｅ ｃｈａｉｎ）１５２を含んでいてもよい。前記ケーブルチェイン１５２は、前記光学モジュール移送部１４０によって前記光学モジュール１３０及び前記ケーブルガイド部１５０が動くに従って前記ケーブルガイド部１５０にガイドされるケーブルがこじれずに円滑に移送されるように役立つ。

前記のような本発明によると、複数のワークステージを含んで各ワークステージにおいて独立的に基板検査を遂行するので、基板を検査するのに所要される時間を大きく節減することができる。また、投影部を含む光学モジュールを移送するための光学モジュール移送部を前記光学モジュールの上部に配置し、投影部から発生された格子パターン光を受信するイメージ獲得部を前記投影部の側部に配置して、複数のワークステージの設置によって狭くなったスペースを確保することができる。

以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。

１０ 基板
２０ 測定対象物
１００ 基板検査装置
１１０ 作業台
１２０ ワークステージ部
１３０ 光学モジュール
１３２ 投影部
１３４ イメージ獲得部
１３６ 第１光経路変更部
１３７ 第２光経路変更部
１３９ 照明部
１４０ 光学モジュール移送部
１５０ ケーブルガイド部

Claims (13)

1. 基板を測定位置に移送し、支えるワークステージ部と、
   前記基板の上部に配置され前記基板に格子パターン光を照射する投影部、前記投影部の側部に配置され前記基板によって上方に反射された前記格子パターン光を受信して反射イメージを獲得するイメージ獲得部、及び前記基板によって上方に反射された前記格子パターン光の経路を変更して前記格子パターン光が下方に前記イメージ獲得部に入射されるように前記格子パターン光を前記イメージ獲得部に案内する第１光経路変更部を含む光学モジュールと、
   前記光学モジュールの上部に配置され前記光学モジュールと結合し、前記光学モジュールを移送する光学モジュール移送部と、
   を含むことを特徴とする検査装置。
2. 前記ワークステージ部は前記基板を前記測定位置に移送するターゲット移送装置を含み、
   前記ターゲット移送装置は前記基板を第１方向に移送し、前記光学モジュール移送部は前記光学モジュールを前記第１方向に垂直である第２方向に移送し、
   前記イメージ獲得部は前記第２方向に対応する前記投影部の第１側部に配置されることを特徴とする請求項１記載の検査装置。
3. 前記イメージ獲得部が配置された前記投影部の第１側部の反対側である第２側部に配置されたケーブルガイド部をさらに含むことを特徴とする請求項２記載の検査装置。
4. 前記光学モジュール移送部は、
   ケーブルガイド部の上部で前記ケーブルガイド部と結合されることを特徴とする請求項３記載の検査装置。
5. 前記第１光経路変更部は、
   前記基板によって上方に反射された前記格子パターン光を前記イメージ獲得部が位置する前記投影部の側部に向かって水平に反射させる第１ミラーを含むことを特徴とする請求項１記載の検査装置。
6. 前記第１光経路変更部は、
   前記第１ミラーによって水平に反射された前記格子パターン光を前記イメージ獲得部に向かって下方に反射させる第２ミラーを含むことを特徴とする請求項５記載の検査装置。
7. 前記投影部は前記基板に垂直となるように配置され、
   前記光学モジュールは、前記投影部から発生された格子パターン光が前記基板に傾斜して入射されるように光経路を変更する第２光経路変更部をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の検査装置。
8. 前記投影部は２ｍ個（ｍは自然数）で具備され、前記２ｍ個の投影部は平面視において前記基板と平行である円周上に一定間隔で配置され、
   前記第２光経路変更部は前記各投影部の下に配置された第３ミラー及び前記第３ミラーの下に配置された第４ミラーを含み、
   前記第３ミラーは前記投影部から垂直に下方に照射される前記格子パターン光を前記投影部と向き合う投影部の下に配置された前記第４ミラーに向かって反射させ、前記第４ミラーは前記第３ミラーから提供された前記格子パターン光を前記基板に向かって反射させることを特徴とする請求項７記載の検査装置。
9. 前記２ｍ個の投影部はそれぞれ光を発生させる光源及び前記光源からの光を格子パターン光に変換させるための格子素子を含み、
   前記２ｍ個の投影部それぞれに対応する前記格子素子は一つの格子移送器具によって移送されることを特徴とする請求項８記載の検査装置。
10. 前記光学モジュールは、
    前記投影部、前記イメージ獲得部及び前記第１光経路変更部と一体に結合され、前記光学モジュールのボディー（body）の下に配置され、前記基板に光を照射する照明部をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の検査装置。
11. 基板に格子パターン光を照射する投影部と、
    前記基板によって反射された前記格子パターン光を受信して反射イメージを獲得するイメージ獲得部と、
    前記投影部から発生された格子パターン光が前記基板に傾斜して入射されるように光経路を変更する少なくとも一つのミラー及び前記ミラーを固定させるミラー固定部を含む光経路変更部と、
    前記光経路変更部のミラー固定部と結合し、前記ミラー固定部の下部に配置されて前記基板に光を照射する照明部と、
    を含むことを特徴とする検査装置。
12. 前記投影部は２ｍ個で具備され（ｍは自然数）、それぞれ前記基板に垂直となるように配置され、前記２ｍ個の投影部は平面的に観測する際、前記基板と平行する円周上に一定間隔に配置され、
    前記光経路変更部は前記各投影部の下に配置された第３ミラー及び第３ミラーの下に配置された第４ミラーを含み、
    前記第３ミラーは前記投影部から垂直に下方に照射される前記格子パターン光を前記投影部と向き合う投影部の下に配置された前記第４ミラーに向かって反射させ、前記第４ミラーは前記第３ミラーから提供された前記格子パターン光を前記基板に向かって反射させることを特徴とする請求項１１記載の検査装置。
13. 前記基板を隣接する装置から伝達を受け、測定位置に移送し、並列的に配置されて前記基板を支える少なくとも２つのワークステージを含むワークステージ部と、
    前記投影部及び前記イメージ獲得部の上部に配置されて前記投影部及び前記イメージ獲得部と結合し、前記投影部及び前記イメージ獲得部を移送する光学モジュール移送部と、をさらに含むことを特徴とする請求項１１記載の検査装置。