JP2005119818A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005119818A JP2005119818A JP2003357576A JP2003357576A JP2005119818A JP 2005119818 A JP2005119818 A JP 2005119818A JP 2003357576 A JP2003357576 A JP 2003357576A JP 2003357576 A JP2003357576 A JP 2003357576A JP 2005119818 A JP2005119818 A JP 2005119818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- glass substrate
- floating block
- transport
- mounting table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
- B65G49/064—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
- B65G49/065—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position supported partially or completely on fluid cushions, e.g. a gas cushion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/062—Easels, stands or shelves, e.g. castor-shelves, supporting means on vehicles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2201/00—Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
- B65G2201/02—Articles
- B65G2201/0214—Articles of special size, shape or weigh
Abstract
【解決手段】 基板3を非接触状態に浮上させる基板浮上ブロック1,11,16と、該基板浮上ブロック1,11,16上に浮上した前記基板3の端部を保持して搬送する搬送機構と、前記基板3の搬送方向Cに沿う前記基板浮上ブロック1,11,16の両側部又は該両側部に近接する位置に設けられ、前記基板浮上ブロック1,11,16の両側部より突出する前記基板3の両端部を下面側から支持する端部支持機構49とを備えることを特徴とする基板搬送装置。
【選択図】 図3
Description
従来、FPD製造工程において大型のガラス基板を搬送する基板搬送装置としては、空気吹出ブロック(基板浮上ブロック)からガラス基板の下面に圧搾エアーを吹き付け、ガラス基板を空気吹出ブロック上に浮上させるものがある(例えば、特許文献1参照。)。この構成の基板搬送装置では、ガラス基板の表面を傷付けることなく容易に搬送することができる。
また、規制ローラ機構によりガラス基板を狭持するため、ガラス基板の端部に大きな付加が加わり、ガラス基板が傷つく虞があった。
さらに、この規制ローラ機構には支持ローラ機構が近接して配されているため、空気吹出ブロックの側端部と支持ローラ機構との間でガラス基板が下方に撓むことがある。ここで、圧搾エアーによるガラス基板の浮上高さは例えば0.2mmと微少であるため、前述したガラス基板の撓みが微少であっても、この撓みによってガラス基板が空気吹出ブロックの側端部に接触してガラス基板が傷つく虞があった。
この発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、基板を浮上させて搬送する際に、基板に対する外的負荷を軽減すると共に、基板を空気吹出ブロックに接触させることなく水平に搬送できる基板搬送装置を提供することを目的としている。
請求項1に係る発明は、基板を非接触状態に浮上させる基板浮上ブロックと、該基板浮上ブロック上に浮上した前記基板の端部を保持して搬送する搬送機構と、前記基板の搬送方向に沿う前記基板浮上ブロックの両側部又は該両側部に近接する位置に設けられ、前記基板浮上ブロックの両側部より突出する前記基板の両端部を下面側から支持する端部支持機構とを備えることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
基板搬送装置を構成する搬入用の基板載置台1は、除振台2の上に設けられており、その上面(搬送面)に搬入されたガラス基板3を載置するものである。基板載置台1の幅方向(ガラス基板3の搬送方向Cに対する垂直方向)の寸法は、ガラス基板3の幅よりも短くなっている。この基板載置台1は、その上面にエアー吹き上げ用の複数の空気孔4を設けてガラス基板3をエアー浮上させる基板浮上ブロックに構成されている。空気孔4は、基板載置台1の全面にほぼ均一に設けられている。
なお、基板載置台1は、細長い矩形状のブロックに分割し、各ブロック間(溝5)の間隔を調整して各種サイズのガラス基板に合わせて基板載置台1の幅方向の寸法を変えられるようにしてもよい。この場合、基板載置台1の幅方向の両端に位置する各ブロックを幅方向にスライドさせる幅調整機構(不図示)により基板載置台1の幅寸法を任意に調整できる。
基板載置台1の出口側には、搬送架台9が搬送方向Cに沿って並設されている。この搬送架台9は、ガラス基板3の搬入側から搬出側に至る長さに形成されている。この搬送架台9は、除振台10上に載せられている。
また、この基板浮上ブロック11の上面には、2本の溝13が互いに所定の間隔をおいて搬送方向Cに沿って形成されている。この基板浮上ブロック11の上面の高さは、基板載置台1の上面の高さとほぼ同一となっている。
なお、この基板浮上ブロック11も基板載置台1と同様に、複数に分割された各ブロック間(溝13)の間隔を調整して基板浮上ブロック11の幅方向の寸法を変えられるようにしてもよい。
また、この基板載置台16上には、2本の溝19が互いに所定の間隔をおいて搬送方向Cに沿って形成されている。さらに、この基板載置台16には、ガラス基板3の搬出時に昇降する複数(図示例では9個)のリフトピン20が設けられている。この基板載置台16の上面の高さは、基板浮上ブロック11の上面の高さとほぼ同一となっている。
なお、この基板載置台16も基板載置台1と同様に、複数に分割された各ブロック間(溝19)の間隔を調整して基板載置台16の幅方向の寸法を変えられるようにしても構わない。
搬送架台9及び除振台17上には、基板浮上ブロック11及び基板載置台16を挟んで各スライダ23〜28が一対一組として複数組み搬送方向Cに沿って互いに平行に設けられている。
搬送方向Cの両端部に位置する二組のスライダ23,24,27,28は、搬送方向Cの中間部に位置する一組のスライダ25,26よりも幅方向外側に設けられている。
さらに、搬送架台9の出口側から基板載置台16の出口側までの間に配された一対のスライダ27,28にも、搬送方向C及びその逆方向に移動可能な搬送端部33,34が各々設けられている。各搬送端部33,34は、前述した搬送端部29,30と同様に、アーム33a,34aと吸着パッド33b,34bとを備えている。
圧搾空気供給部46は、配管を通して搬入用の基板載置台1、基板浮上ブロック11及び搬出用の基板載置台16の各空隙部に連通し、各空隙部に選択的に圧搾エアーを供給して各空気孔4,12,18から圧搾エアーを吹き上げるものである。この圧搾エアーにより搬入用の基板載置台1、基板浮上ブロック11または搬出用の基板載置台16上においてガラス基板3を浮上させることができる。また、この圧搾空気供給部46は、各空気孔4,12,18から除電効果を有するエアー、例えば、プラスイオンまたはマイナスイオンにイオン化されたエアーを吹き上げるようになっている。これら空気孔4,12,18及び圧搾空気供給部46により基板浮上機構101が構成されている。
真空吸着部47は、配管を通して各吸着パッド29b〜34bに連通し、これら吸着パッド29b〜34bを選択的に真空引きしてガラス基板3を吸着保持するものである。移動制御部48は、各スライダ23〜28上における搬送端部29〜34の移動制御を行うものである。
これらスライダ23〜28、搬送端部29〜34、真空吸着部47及び移動制御部48によりガラス基板3を搬送方向Cに移動させる搬送機構102が構成されている。
各支持ユニット51には、図3に示すように、複数のローラ(回転支持部材)53が回転可能に取り付けられており、各ローラ53は、その周面の一部が基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11の上面から微小に突出するように配されている。各ローラ53の突出長さは、圧搾エアーによるガラス基板3の浮上高さとなるように設定されている。また、搬送方向Cに隣接して並べられたローラ53は、ガラス基板3に接触する周面が合成樹脂等のガラス基板3よりも柔らかい耐摩耗性材料からなり、互いに接触しない程度に近づけて配されている。これらローラ53は、ガラス基板3が搬送方向Cに移動した際に、ガラス基板3の下面を転がる方向(J方向)に回転するようになっている。また、ローラ53は、ガラス基板3に対してスリップしない摩擦力が得られる程度に細い幅寸法を有しているとよい。
基板載置台1にガラス基板3を載置する際には、図1,2に示すように、予め搬入側に位置するスライダ23,24上の搬送端部29,30を基板載置台1側に移動させ、待機させておく。
この状態から、搬入用搬送ロボット7は、ハンドアーム8を回転、前進及び後退して未検査のガラス基板3をカセットから取り出し、基板載置台1の上方に搬送する。また、この搬送と同時に、基板載置台1の各リフトピン6が上昇する。次いで、搬入用搬送ロボット7は、ハンドアーム8を下降させてガラス基板3を各リフトピン6上に載置する。そして、各リフトピン6が下降することにより、ガラス基板3が基板載置台1上に載置されることになる。
この状態においては、ガラス基板3の幅寸法が基板載置台1の幅よりも長いため、搬送方向Cに沿うガラス基板3の両端部が基板載置台1の両側部から突出する。また、この状態においては、図3(b)に示すように、パターン領域Gの最も外側の両端部より外側に位置するガラス基板3の端部下面がローラ53に接触することになる。
また、この際には、基板載置台1とガラス基板3との間にはエアー層が形成され、ガラス基板3が基板載置台1の上面から浮上する。そして、空気孔4から吹き上げられたエアーは、前述のエアー層に留まることなく基板載置台1の溝5を通して流れる。このため、ガラス基板3は平面度を保って基板載置台1上に浮上することになる。なお、ローラ53は、圧搾エアーによって浮上したガラス基板3の下面の高さと略同一となっているため、ガラス基板3が下方に反ったり、撓んでいてもガラス基板3の両端部が各ローラ53により水平に矯正され、ガラス基板3は基板載置台1の搬送面に接することなく浮上する。
これら搬送端部31,32は、ガラス基板3の下方に到達すると、スライダ25,26上の基板受け渡し基準位置に停止し、各アーム31a,32aを上昇させて、真空吸着部47により吸着パッド31b,32bをガラス基板3の下面に吸着させる。これら吸着パッド31b,32bの吸着位置は、ローラ53の接触位置よりもさらにガラス基板3の幅方向の外方側で、搬送方向Cに向かうガラス基板3の前方側である。
吸着パッド31b,32bがガラス基板3に吸着すると、真空吸着部47による搬送端部29,30の各吸着パッド29b,30bの吸着が解除され、各アーム29a,30aが下降する。これにより、ガラス基板3の吸着保持が搬送端部29,30から搬送端部31,32に受け渡される。その後、2つの搬送端部29,30は、それぞれのスライダ23,24上を搬送方向Cとは逆方向(後方)に移動し、搬入用の基板載置台1の基板受け渡し基準位置に停止して待機する。
検査部Eでは、例えば、ラインセンサを備えた検査用機器15を用いてガラス基板3の各種検査により取得された画像データに基づいてガラス基板3のパターン検査、欠陥検査等が行われる。
ガラス基板3が基板浮上ブロック11の出口側に到達すると、ガラス基板3の吸着保持が基板浮上ブロック11側に位置する搬送端部31,32から搬出用の基板載置台16側に位置する搬送端部33,34に受け渡されると共に、圧搾空気供給部46が搬出用の基板載置台16の空気孔18に圧搾エアーを供給する。これら搬送端部31,32から搬送端部33,34へのガラス基板3の受け渡しは、前述した搬送端部29,30から搬送端部31,32への受け渡しと同様に行われる。
基板載置台16においては、圧搾空気供給部46が基板載置台16の空気孔18への圧搾エアーの供給を停止する。この際には、真空吸着部47によるガラス基板3の下面に対する吸着を解除し、各アーム33a,34aを下降させると共に、リフトピン20を上昇させてガラス基板3を持ち上げる。これにより、ガラス基板3は、リフトピン20上に載置されることになる。搬出用搬送ロボット21は、ハンドアーム22を回転、前進及び後退させて、リフトピン20上から検査済みのガラス基板3を受け取りカセット内に収納する。
これ以降、複数のガラス基板3に対して基板載置台1への搬入、エアー搬送、検査及び基板載置台16からの搬出が順次繰り返される。
したがって、ガラス基板3の両端部が基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11に接することなく安定して搬送でき、かつ、ガラス基板3が基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11に接して傷つくことを防止できる。さらに、ガラス基板3のパターン領域Gの外側をローラ53が支持することにより、ガラス基板3のパターン領域Gを非接触状態で搬送することができるため、このパターン領域Gに対応するガラス基板3の下面が傷つくことも防止できる。
さらに、従来のように、ガラス基板3の両端部を狭持することもないため、ガラス基板3に対する外的負荷を軽減することもできる。
さらに、ローラ53を交換する際には、複数のローラ53を取り付けた複数の支持ユニット51を基板載置台1,16や基板浮上ブロック11に対して着脱可能にすることにより、所望の支持ユニット51を簡単に交換でき、多数のローラ53を支持ユニット51毎に一括して取り替えることができる。したがって、ローラ53の交換を短時間で容易に行うことができる。
すなわち、各玉55は、玉保持器57によって玉55の中心点を軸に回転可能に保持されており、この玉保持器57が支持ユニット51に固定されている。また、各玉55は、ローラ53の場合と同様に、基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11の上面から微小に突出して配されており、ガラス基板3の下面に接触するようになっている。そして、基板浮上機構101により浮上したガラス基板3の下面の高さ位置は、ガラス基板3と玉55との接触位置と略同一となっている。
この構成では、ガラス基板3を搬送方向Cに移動させた際に、ガラス基板3に接触している玉55が転がって接触軌道59の一端59aから他端59bまで移動することになる。そして、接触軌道59の他端59bに到達した玉55は、ガラス基板3から離れた循環軌道61を通り、接触軌道59の一端59a側に戻ることになる。
この構成においては、循環軌道61に位置している玉55がガラス基板3に接触しないため、1つの玉55が常時ガラス基板3に接触することがなくなる。したがって、ガラス基板3との間の転がり摩擦による玉55の摩耗を抑制することができ、玉55を交換することなく長時間連続して使用することができる。
すなわち、基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11に対して着脱可能な支持ユニット64には、端部浮上機構65が形成されている。この端部浮上機構65は、基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11の上面側に露出し、搬送方向Cに沿って並べられた複数の空気孔(空気吹出部)67と、これら複数の空気孔67と圧搾空気供給部46とを結ぶ連通路69とを備えている。
また、複数の支持ユニット64には、それぞれ圧搾エアーを吹き出す空気孔67が複数設けられているため、各支持ユニット64を基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11に対して着脱することにより、所望の支持ユニット64を簡単に交換でき、支持ユニット64毎に多数の空気孔67を一括して交換することができる。したがって、空気孔67の交換を短時間で容易に行うことができる。
また、ガラス基板3の両端部を支持する圧搾エアーは、搬送方向Cに沿って配列された複数の空気孔から吹き出されることに限らず、例えば、搬送方向Cに沿って形成された細長いスリットから吹き出されるとしても構わない。
さらに、ガラス基板3の両端部に吹き付ける圧搾エアーの圧力を基板浮上用の圧搾エアーの圧力よりも高くすることは、ガラス基板3の両端部を搬送面よりもさらに上方に持ち上げてガラス基板3の両端部の下方側への反りを水平に矯正できるので好ましい。
また、端部浮上機構65の圧搾エアーの圧力をガラス基板3の反り量や撓み量に応じて調整できるように構成することは、ガラス基板3の両端部を確実に搬送面よりも上方に持ち上げて安定して搬送できるので好ましい。
また、ガラス基板3を搬送する搬送端部29〜34は、基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11の両端部に設けられたスライダ23〜28上を移動するとしたが、これに限ることはない。すなわち、例えば、基板載置台1,16及び基板浮上ブロック11の一対の溝5,13,19にスライダを配し、このスライダに搬送端部を移動可能に設けるとしても構わない。
さらに、基板載置台1へのガラス基板3の載置や基板載置台16からのガラス基板3の取り出しは、搬送ロボット7,21の他に如何なる機構を用いてもよいし、他のラインからエアー搬送等の基板浮上搬送手段であっても構わない。
3 ガラス基板
11 基板浮上ブロック
49 端部支持機構
51,63,64 支持ユニット
53 ローラ(回転支持部材)
55 玉
67 空気孔(空気吹出部)
102 搬送機構
C 搬送方向
G パターン領域
Claims (7)
- 基板を非接触状態に浮上させる基板浮上ブロックと、
該基板浮上ブロック上に浮上した前記基板の端部を保持して搬送する搬送機構と、
前記基板の搬送方向に沿う前記基板浮上ブロックの両側部又は該両側部に近接する位置に設けられ、前記基板浮上ブロックの両側部より突出する前記基板の両端部を下面側から支持する端部支持機構とを備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 前記端部支持機構が、前記基板浮上ブロックの両側部に設けられた複数の回転支持部材を備え、
該回転支持部材が、前記基板を前記搬送機構により搬送方向に移動させた際に、前記基板の下面上を転がる方向に回転することを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。 - 前記回転支持部材が、前記搬送方向に回転可能な幅の細いローラであることを特徴とする請求項2に記載の基板搬送装置。
- 前記回転支持部材が、多方向に回転自在に支持された玉であることを特徴とする請求項2に記載の基板搬送装置。
- 前記端部支持機構が、複数の玉を前記基板の下面に対向する前記浮上ブロックの搬送面上に露出させ、前記基板の下面上を転がって移動させる接触軌道と、該接触軌道の両端に連結して前記玉を前記接触軌道へ循環させる循環軌道とを有する循環部材を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
- 前記端部支持機構が複数のユニットからなり、
各ユニットが前記基板浮上ブロックに対して着脱自在に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。 - 前記端部支持機構が、前記基板浮上ブロックの両側部に設けられ、前記基板浮上ブロックより突出する前記基板の両端部に向けて圧搾空気を吹き付ける空気吹出部を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003357576A JP4373175B2 (ja) | 2003-10-17 | 2003-10-17 | 基板搬送装置 |
TW093131010A TWI386354B (zh) | 2003-10-17 | 2004-10-13 | 基板搬送裝置 |
CN2010105651320A CN102060193B (zh) | 2003-10-17 | 2004-10-14 | 基板输送装置 |
CN2004100856422A CN1608961B (zh) | 2003-10-17 | 2004-10-14 | 基板输送装置 |
KR1020040082286A KR101213529B1 (ko) | 2003-10-17 | 2004-10-14 | 기판 반송 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003357576A JP4373175B2 (ja) | 2003-10-17 | 2003-10-17 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005119818A true JP2005119818A (ja) | 2005-05-12 |
JP4373175B2 JP4373175B2 (ja) | 2009-11-25 |
Family
ID=34614430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003357576A Expired - Fee Related JP4373175B2 (ja) | 2003-10-17 | 2003-10-17 | 基板搬送装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4373175B2 (ja) |
KR (1) | KR101213529B1 (ja) |
CN (2) | CN102060193B (ja) |
TW (1) | TWI386354B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006070999A1 (en) * | 2004-12-30 | 2006-07-06 | Z. Tec. Co. Ltd. | Glass panel floating and conveying apparatus |
WO2007074798A1 (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | 基板処理装置への基板搬送方法 |
JP2008078284A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Olympus Corp | 基板搬送装置 |
JP2011519796A (ja) * | 2008-03-11 | 2011-07-14 | コアフロー リミテッド | 平坦な対象物の支持を局所的に制御するための方法およびシステム |
WO2014132339A1 (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-04 | 株式会社Ihi | 搬送装置 |
JP2017142523A (ja) * | 2009-08-20 | 2017-08-17 | 株式会社ニコン | 移動体装置、物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び搬送方法 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100721597B1 (ko) * | 2006-03-31 | 2007-05-23 | 주식회사 태성기연 | 판유리 이송장치 |
JP2008016543A (ja) * | 2006-07-04 | 2008-01-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2009256029A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Toray Eng Co Ltd | 板状部材の搬送装置および板状部材の搬送方法 |
KR101039294B1 (ko) * | 2008-06-27 | 2011-06-07 | 건국대학교 산학협력단 | 비접촉식 소재 이송 시스템의 이송속도 제어방법 |
TWI400513B (zh) * | 2008-07-10 | 2013-07-01 | Shuz Tung Machinery Ind Co Ltd | 面板雷射修補機及面板檢查方法 |
KR100928674B1 (ko) * | 2009-04-07 | 2009-11-27 | 삼성코닝정밀유리 주식회사 | 비접촉 석션 그립핑 장치 및 이를 갖는 비접촉 석션 그립핑 프레임 |
US9142631B2 (en) | 2010-03-17 | 2015-09-22 | Cree, Inc. | Multilayer diffusion barriers for wide bandgap Schottky barrier devices |
CN101941593B (zh) * | 2010-09-02 | 2013-03-27 | 立晔科技股份有限公司 | 具有转向功能的芯片输送机台 |
KR101331067B1 (ko) * | 2012-06-01 | 2013-11-19 | 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) | 취성 재료 기판의 수직 공급 로더 컨베이어 장치 |
JP6079529B2 (ja) * | 2013-09-18 | 2017-02-15 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 支持機構および搬送装置 |
JP6605871B2 (ja) * | 2015-08-03 | 2019-11-13 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板浮上搬送装置 |
CN108946101B (zh) | 2017-05-24 | 2020-08-28 | 台达电子工业股份有限公司 | 输送设备 |
US10427889B2 (en) | 2017-05-24 | 2019-10-01 | Delta Electronics, Inc. | Transmission equipment |
TWI684563B (zh) * | 2017-05-24 | 2020-02-11 | 台達電子工業股份有限公司 | 輸送設備 |
KR20210076939A (ko) * | 2018-10-10 | 2021-06-24 | 카티바, 인크. | 기판을 지지하고 운반하기 위한 시스템 및 방법 |
DE102018125682B4 (de) * | 2018-10-16 | 2023-01-19 | Asm Assembly Systems Gmbh & Co. Kg | Ejektorvorrichtung sowie Verfahren zum Unterstützen eines Ablösens eines auf einer Haltefolie angeordneten elektrischen Bauteils |
CN110730611B (zh) * | 2019-09-30 | 2020-12-08 | 云谷(固安)科技有限公司 | 曲面显示屏绑定装置及曲面显示屏绑定方法 |
CN112705971A (zh) * | 2020-12-16 | 2021-04-27 | 福建中维动力科技股份有限公司 | 一种用于重卡板状零件翻转定位装置的进料机构 |
TWI792576B (zh) * | 2021-09-23 | 2023-02-11 | 聯茂電子股份有限公司 | 運送裝置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5788425A (en) * | 1992-07-15 | 1998-08-04 | Imation Corp. | Flexible system for handling articles |
JPH09196817A (ja) * | 1996-01-19 | 1997-07-31 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | カラーフィルタ基板のハンドリング装置 |
JP4138909B2 (ja) * | 1997-06-30 | 2008-08-27 | 株式会社シンクロン | ボールローラー搬送システム |
JP2000072251A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-07 | Watanabe Shoko:Kk | 浮上搬送装置および浮上搬送システム |
JP2000193604A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-14 | Takano Co Ltd | 基板用自動検査装置 |
JP3926593B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2007-06-06 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP3759450B2 (ja) * | 2001-12-19 | 2006-03-22 | 株式会社白井▲鉄▼工所 | 液晶パネルの折割装置 |
-
2003
- 2003-10-17 JP JP2003357576A patent/JP4373175B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-10-13 TW TW093131010A patent/TWI386354B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-10-14 KR KR1020040082286A patent/KR101213529B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-10-14 CN CN2010105651320A patent/CN102060193B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-14 CN CN2004100856422A patent/CN1608961B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006070999A1 (en) * | 2004-12-30 | 2006-07-06 | Z. Tec. Co. Ltd. | Glass panel floating and conveying apparatus |
WO2007074798A1 (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | 基板処理装置への基板搬送方法 |
JP2008078284A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Olympus Corp | 基板搬送装置 |
JP2011519796A (ja) * | 2008-03-11 | 2011-07-14 | コアフロー リミテッド | 平坦な対象物の支持を局所的に制御するための方法およびシステム |
US8690489B2 (en) | 2008-03-11 | 2014-04-08 | Coreflow Ltd. | Method and system for locally controlling support of a flat object |
US9022699B2 (en) | 2008-03-11 | 2015-05-05 | Coreflow Ltd | Method and system for locally controlling support of a flat object |
JP2017142523A (ja) * | 2009-08-20 | 2017-08-17 | 株式会社ニコン | 移動体装置、物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び搬送方法 |
WO2014132339A1 (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-04 | 株式会社Ihi | 搬送装置 |
US9469487B2 (en) | 2013-02-26 | 2016-10-18 | Ihi Corporation | Conveyance device |
JP6032348B2 (ja) * | 2013-02-26 | 2016-11-24 | 株式会社Ihi | 搬送装置 |
JPWO2014132339A1 (ja) * | 2013-02-26 | 2017-02-02 | 株式会社Ihi | 搬送装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101213529B1 (ko) | 2012-12-18 |
CN102060193B (zh) | 2013-04-10 |
KR20050037365A (ko) | 2005-04-21 |
CN1608961B (zh) | 2011-01-26 |
CN1608961A (zh) | 2005-04-27 |
CN102060193A (zh) | 2011-05-18 |
TW200519011A (en) | 2005-06-16 |
JP4373175B2 (ja) | 2009-11-25 |
TWI386354B (zh) | 2013-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4373175B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
JP4633161B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
JP4049751B2 (ja) | 塗布膜形成装置 | |
JP4787872B2 (ja) | 基板搬送処理装置 | |
JP4554397B2 (ja) | ステージ装置および塗布処理装置 | |
JP3868223B2 (ja) | 搬送装置 | |
JP2008166348A (ja) | 基板搬送装置 | |
JP2008302487A (ja) | 基板吸着装置及び基板搬送装置並びに外観検査装置 | |
JP5028919B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
JP4313284B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2010195592A (ja) | 浮上ユニット及び基板検査装置 | |
JP2007112626A (ja) | 基板搬送装置及び基板検査装置並びに基板搬送方法 | |
JP2007248291A (ja) | 基板検査装置 | |
JP2007281285A (ja) | 基板搬送装置 | |
JP4593461B2 (ja) | 基板搬送システム | |
WO2013150787A1 (ja) | 物体搬送システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体保持装置、物体搬送装置、物体搬送方法、及び物体交換方法 | |
JP2012023104A (ja) | 基板載置装置 | |
KR100837436B1 (ko) | 기판 검사 및 측정 장치 | |
JP2009022823A (ja) | 検査装置および基板処理システム | |
JP2012017183A (ja) | 基板搬送装置 | |
JP7355174B2 (ja) | 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイ製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法 | |
JP2012137300A (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法並びに基板処理システム及び基板処理方法 | |
JP2013084798A (ja) | 基板検査装置、基板搬送方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090414 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090417 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090605 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090811 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090903 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911 Year of fee payment: 4 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |