CN202307839U - 处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种能够防止基板和吸盘之间的吸附失误的处理装置。该处理装置包括：处理部，其用于对处理对象的基板实施规定的处理；以及输送台，其用于载置基板而输送该基板，其特征在于，输送台包括：支承部件，其具有在沿输送基板的输送方向观看时端部位于比中央部靠铅垂下方的位置的上表面，并用于直接或间接地支承被配置在该上表面的上方的基板；保持构件，其用于以能够沿与输送方向平行地延伸的输送轴移动的方式保持基板；驱动部，其用于使保持构件沿输送轴移动；支承部件支承基板的支承高度在设置有处理部的处理部设置区域中与保持构件保持基板的保持高度相同，支承部件支承基板的支承高度在处理部设置区域以外的区域中低于保持高度。

Description

处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种用于对例如平板显示器用的玻璃基板、半导体基板、印刷电路板等进行检查、处理的处理装置。

背景技术

近年来，在玻璃基板、半导体基板、印刷电路板(以下称作基板)等的制造中，具有用于对基板进行检查等处理的处理装置。处理装置具有用于对基板进行检查处理的处理部、以及用于自外部向处理部输送基板或者自处理部向外部输送基板的输送部。

输送部包括：浮起用板，其在用于输送基板的输送面上具有多个空气孔，并用于通过自该空气孔吹出空气而使基板浮起；以及吸盘，其用于吸附基板，并能够沿输送方向移动。输送部通过使吸附了利用浮起用板浮起的基板的吸盘移动，而进行基板的输送。

但是，若输送到处理部的基板产生挠曲等，则有可能引起处理装置的对基板的处理精度降低，因此至少在处理部中需要将基板的表面设置为平坦。该处理装置调整处理部及输送部的基板输送面的平坦度，并且调整处理部和输送部之间的连结部中的连结高度以使其变得平坦。

作为上述处理装置，公开有在检查部上配置与输送方向垂直方向的浮起用板(横置浮起构件)且使处理部中的基板的表面平坦度提高的技术(例如参照专利文献1)。在该处理装置中，利用吸盘保持利用浮起用板而浮起的基板的下表面，从而进行基板的输送。

专利文献

专利文献1：日本特开2009-256029号公报

但是，专利文献1所公开的处理装置具有如下问题：由于精密地限定了用于输送基板的输送面的平坦度，因此若在输送中产生微小的振动等，则吸盘和基板之间的吸附状态被解除，导致产生吸附失误。

实用新型内容

本实用新型是鉴于上述情况而做成的，其目的在于提供一种能够防止基板和吸盘之间的吸附失误的处理装置。

为了解决上述问题并达到目的，本实用新型的处理装置包括：处理部，其用于对作为处理对象的基板实施规定的处理；以及输送台，其用于载置上述基板而输送该基板；其特征在于，上述输送台包括：支承部件，其具有在沿输送上述基板的输送方向观看时端部位于比中央部靠铅垂下方的位置的上表面，并用于直接或间接地支承被配置在该上表面的上方的上述基板；保持构件，其用于以能够沿与上述输送方向平行地延伸的输送轴移动的方式保持上述基板；以及驱动部，其用于使上述保持构件沿上述输送轴移动；上述支承部件支承上述基板的支承高度在设置有上述处理部的处理部设置区域中与上述保持构件保持上述基板的保持高度相同，上述支承部件支承上述基板的支承高度在上述处理部设置区域以外的区域中低于上述保持高度。

关于本实用新型的处理装置，通过倾斜地设置输送台，并水平地配置用于使吸盘移动的输送轴，使输送台所形成的输送面和吸盘的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板对吸盘施加较大的自重，因此能够起到防止基板和吸盘之间的吸附失误的效果。

附图说明

图1是示意性地表示本实用新型的实施方式1的平板显示器(FPD)检查装置的结构的俯视图。

图2是示意性地表示本实用新型的实施方式1的FPD检查装置的结构的侧视图。

图3是示意性地表示图2所示的输送台的示意图。

图4是表示图1所示的FPD检查装置的A-A剖面的剖视图。

图5是表示本实用新型的实施方式1的FPD检查装置的变形例1的剖视图。

图6是表示本实用新型的实施方式1的FPD检查装置的变形例2的剖视图。

图7是表示本实用新型的实施方式1的FPD检查装置的变形例3的剖视图。

图8是表示本实用新型的实施方式1的FPD检查装置的变形例4的剖视图。

图9是表示本实用新型的实施方式1的FPD检查装置的变形例4的剖视图。

图10是表示本实用新型的实施方式1的FPD检查装置的变形例4的主要部分的结构的剖视图。

图11是表示本实用新型的实施方式1的FPD检查装置的变形例5的剖视图。

图12是示意性地表示本实用新型的实施方式2的FPD检查装置的结构的俯视图。

图13是表示图12所示的FPD检查装置的B-B剖面的剖视图。

图14是表示本实用新型的实施方式2的FPD检查装置的变形例的剖视图。

具体实施方式

以下，结合附图详细地说明用于实施本实用新型的实施方式。另外，本实用新型不限于以下的实施方式。此外，在以下的说明中，所参照的各图只是以能够理解本实用新型的内容的程度概略地表示出形状、大小、以及位置关系。即，本实用新型不限于在各图中例示的形状、大小、以及位置关系。

(实施方式1)

首先，参照附图详细地说明本实用新型的实施方式1的处理装置。另外，在以下的说明中，以基板的检查装置为例进行说明。检查装置既可以是在线型，也可以是离线型。

图1是表示本实施方式1的平板显示器(FPD)检查装置的概略结构的俯视图。图2是示意性地表示本实施方式1的FPD检查装置的结构的侧视图。如图1所示，FPD检查装置1包括：龙门载物台10，其用于保持检查单元100(处理部)，该检查单元100用于检测呈矩形的基板W的缺陷；以及输送台12、20、21，其用于输送基板W。

龙门载物台10及输送台12、20、21固定于例如图1、2表示那样的架台11上。架台11由例如将块状的大理石、钢材组合而成的框架等耐震性较高的构件构成。除此之外，在架台11和设置面(例如地板)之间设置例如由弹簧、液压减震器等构成的振动吸收机构13。由此进一步地防止输送台12、20、21及检查单元100的振动。

输送台12、20、21具有例如多个板状构件沿与基板W的输送方向D垂直的方向排列成帘子状而成的构造。通过沿输送方向D排列该输送台12、20、21而形成基板W的输送路径。在各输送台12、20、21的板状构件上分别设置用于在上表面保持基板W并作为能够向输送方向D旋转的支承部件的自由辊121、201、211。此外，在输送台20的与输送方向D垂直的方向即宽度方向的中央设置用于向输送方向D进行驱动并吸附输送基板W的驱动机构30。另外，优选自由辊121、201、211如拉格朗日点的间隔那样以不会产生基板W的挠曲振动的这种间隔配置。此外，作为基板W的定位方法，可列举使用升降销(lift pin)及定位机构等的方法，该升降销用于支承被输入到输送台20上的基板W而将其载置于输送台20，该定位机构用于使载置于输送台20的基板W定位。

驱动机构30包括：驱动部32，其在与输送方向D的水平方向平行的输送轴31上移动；支承构件33，其支承于驱动部32；以及吸盘34(保持构件)，其支承于支承构件33，用于利用未图示的泵的吸气来吸附保持基板W。驱动机构30通过使用线性电动机引导件作为输送轴31、并且使用线性电动机作为驱动部32来实现。

另外，通过将驱动机构30设置于输送台的宽度方向的中央，能够保持包含被输入到输送台的基板W的重心位置的区域，从而能够进行稳定的基板输送。此外，只要能够不损伤基板W地进行输送，则驱动机构30的配设位置可以是任意的位置，也可以设置有多个驱动机构30。

图3是示意性地表示图2所示的输送台的示意图。如图3所示，输送台20、21的铅垂方向的高度(上表面)随着远离输送台12侧的端部而变低。输送台20、21的高度利用例如螺钉的支承而被固定。另外，由于输送台20、21分别被悬臂梁状的支承构件22、23支承，因此当调整输送台20、21的高度时，也考虑由于输送台20、21的自重所引起的挠曲。此外，只要能够输送基板W，则也能以使与水平面平行的上面的输送台20、21的上表面的高度低于输送台12的上表面的方式配设输送台。

在这里，通过自由辊的上端的面L2的相对于水平面L3的沿铅垂方向的最大高度差d1为数mm～数十mm左右，更优选是2mm～3mm左右。另外，吸盘34的用于吸附基板W的吸附面利用驱动部32的驱动而在水平面L3上移动。

此外，也可以在输送台20、21上设置驱动部，并设置成能够根据基板等的种类、性质来改变倾斜的角度。该驱动部可列举使用气压缸、电动马达等。

检查单元100具有未图示的摄像部，该摄像部设定在输送台12所形成的输送路径上，用于借助显微镜101来拍摄在与输送台12的宽度方向平行的检查线L1上通过的基板W。通过解析由该检查单元100获得的图像，能够检测基板W是否存在缺陷。另外，检查单元100能够沿检查线L1移动。在本说明中，检查单元100所设置的区域称为检查空间PR1。此外，检查空间PR1以外的区域称为输送空间TR1、TR2。

另外，检查单元100也可替换成：例如用于对基板W的缺陷部分进行激光照射修复、涂布修正等的修复单元、用于观察、保存图像的摄像单元、用于在规定的位置实施配线等的尺寸测量、膜厚测量、颜色测量等测量单元等的处理的其他处理单元。即，处理单元包含检查单元、修复单元、摄像单元、曝光单元、测量单元等。此外，本实施方式的FPD检查装置也包含上述处理单元在用于载置基板W的台上对基板进行各处理的结构。

此外，由于FPD检查装置1只要包括用于包围检查空间PR1及输送空间TR1、TR2的外壳就能够形成内部空间(无尘室)，故为优选。该无尘室是除了基板的输入口、输出口及下部的管道以外均被密闭的空间。外壳在检查单元100的上方具有用于向内部空间送入洁净的空气(以下称作洁净空气)的FFU。

FFU用于送出已去除了例如微粒等粉尘的洁净空气。其结果，特别是使检查单元100附近及检查线L 1周边(检查空间PR1)成为粉尘较少的洁净的状态。此外，当向检查单元100附近及检查线L 1周边集中送出的洁净的空气在无尘室内形成下降流(down flow)之后，自排气口排出。

图4是表示图1所示的FPD检查装置的A-A剖面的剖视图。在图4的剖视图所示的位置处，由于在输送台的各板状构件20A～20F的自由辊201的上端通过的面(支承高度)比吸盘34的用于吸附基板W的吸附面的高度(保持高度)低，因此，相比于自由辊201，基板W的重量较大地施加到吸盘34上。因此，能够更可靠地利用吸盘34吸附基板W。

如上述实施方式1那样，通过倾斜地设置输送台，并水平地配置用于使吸盘移动的输送轴，使通过输送台的自由辊的上端的面和吸盘的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板对吸盘施加较大的自重，从而能够使吸盘更可靠地吸附基板。由此能够防止基板和吸盘之间的吸附失误。

另外，关于检查空间PR1，由于通过输送台12的自由辊121的上端的面维持为水平，特别是基板W在检查线L1处的平面形成水平面，因此能够以水平的状态维持基板W而进行检查等。

(变形例)

图5是表示本实施方式1的FPD检查装置的变形例1的剖视图。图5与图4所示的剖视图对应。关于FPD检查装置1a，外缘侧的板状构件20A、20B、20E、20F的自由辊202a～202d的上端侧的倾斜度随着靠近输送台的宽度方向的外缘侧而逐级变大。此外，自由辊202a～202d的上端的高度随着靠近外缘侧而变低，通过自由辊202a～202d的上端的面呈弧状(球面状)。利用上述变形例1的结构，能够进一步增大基板W向吸盘34施加的铅垂下方的力，因此能够实现更可靠的吸附。

图6是表示本实施方式1的FPD检查装置的变形例2的剖视图。图6与图4所示的剖视图对应。关于FPD检查装置1b，外缘侧的板状构件20A、20B、20E、20F的自由辊203的直径大于设置于内侧的板状构件20C、20D的自由辊201的直径。由此，由于通过各自由辊201、203的上端的面不同，因此基板W在板状构件20C、20D之间产生朝向下方的挠曲。因而，对吸盘34的吸附面施加基板W的挠曲所带来的负载，能够实现更稳定的吸附。另外，也可以使用相同直径的自由辊而以自由辊的上端的高度在外缘侧和内侧不同的方式配置。

图7是表示本实施方式1的FPD检查装置的变形例3的剖视图。图7与图4所示的剖视图对应。关于FPD检查装置1c，配设有驱动机构30的板状构件20C、20D的自由辊201之间的距离d2(支承构件的间隔)大于未配设有驱动机构30的板状构件20A、20B、20E、20F的自由辊201之间的距离。由此，基板W在板状构件20C、20D之间产生挠曲。此时，对吸盘34的吸附面施加基板W的挠曲所带来的负载，能够在不设置复杂结构的情况下实现更可靠的吸附。另外，支承构件由板状构件及自由辊构成。在这里，可以根据所使用的基板的厚度等改变支承构件的间隔。例如，由于基板的厚度较大的情况相比于基板的厚度较小的情况难以挠曲，因此扩大间隔。此时，由于基板的厚度也根据制造工序的不同而改变，因此优选改变成与其工序中的基板的厚度相对应的间隔。

图8、图9是表示本实施方式1的FPD检查装置的变形例4的剖视图。图10是表示本实施方式1的FPD检查装置的变形例4的主要部分的结构的剖视图。如图8、9所示，关于FPD检查装置1d，驱动机构30包括与驱动部32连结并用于使吸盘34上下移动的升降构件35。升降构件35具有用于支承吸盘34并能够升降驱动的升降部35a。图8是输送台20、21(输送空间TR1、TR2)中的剖视图(对应图4)。如图8所示，吸盘34的吸附面利用升降部35a的上升而高于通过自由辊201的上端的面。由此，由于基板W能够对吸盘34施加更大的接触载荷，因此能够实现更可靠的吸附。

此外，图9是输送台12(检查空间PR1)中的与输送方向垂直的方向的剖视图。在检查空间中，利用升降部35a进行调整，以使吸盘34的吸附面成为至少自由辊201所形成的输送面以下的高度。由此，能够以基板W的面在检查时不产生挠曲等变形的方式进行检查。

另外，吸盘34和升降部35a设置成可拆装，如图10所示，当升降部35a下降了时，吸盘34维持吸附基板W的状态。在这种情况下，无需与升降部35a同步地对吸盘34进行泵等的控制，仅利用升降部35a的控制就能够实现。另外，吸盘34和升降部35a为一体，也可以使吸盘34与升降部35a的下降连动而自基板W脱离。此时，虽然一个吸盘侧的升降部自吸盘脱离，但由于利用另一个吸盘吸附基板W，因此基板W维持被支承在输送台上的状态。

图11是表示本实施方式1的FPD检查装置的变形例5的剖视图。图11所示的FPD检查装置1e与图4所示的剖视图对应，包括2个驱动机构30A、30B，该驱动机构30A、30B分别具有输送轴31A、31B、驱动部32A、32B以及吸盘34A、34B。在这里，各驱动机构30A、30B分别配置在相对于输送台20的宽度方向的中心线L4对称的位置。由此，基板W能够以均匀的挠曲支承于吸盘34，并且对吸盘34的吸附面施加由基板W的挠曲所带来的负载，从而能够实现更可靠的吸附。

(实施方式2)

图12是示意性地表示本实用新型的实施方式2的FPD检查装置2的结构的俯视图。图13是表示图12所示的FPD检查装置2的B-B剖面的剖视图。在实施方式2中，利用作为支承部件的空气使载置于浮起输送台40～42的基板W浮起，从而以消除与基板W的摩擦并防止基板的由摩擦引起的损伤的方式进行输送。此外，与实施方式1相同，龙门载物台10等的检查单元所设置的区域为检查空间PR2，检查空间PR2以外的区域为输送空间TR3、TR4。另外，对与图1等所示的结构相同的结构标注相同的附图标记。

浮起输送台40～42包括呈大致板状的多个浮起用板(支承构件)，该多个浮起用板沿输送方向D延伸，用于在输送面上使基板W浮起而进行载置。通过沿输送方向D排列各浮起输送台40～42而形成基板W的输送路径。此外，浮起输送台41、42与图3所示的输送台20、21相同，沿铅垂方向的高度(上表面)随着远离浮起输送台40而变低。此时的铅垂方向的最大的高度差为数mm～数十mm左右，更优选是2mm～3mm左右。

例如，如图13所示，浮起输送台41具有浮起用板41A～41F沿与输送方向D垂直的方向排列成帘子状而成的构造。在浮起用板41A～41F中设置用于利用来自空气供给部50的空气供给而朝向铅垂上方吹出空气的多个吹出孔411。另外，在浮起输送台40、42中，各浮起用板也具有吹出孔401、421。

此外，在浮起输送台40～42的宽度方向的中央设置上述驱动机构30。与实施方式1相同，作为基板W的定位方法，可列举使用升降销及定位机构等的方法，该升降销用于支承被输入到输送台41上的基板W而使基板W载置于输送台41，该定位机构用于使载置于输送台41的基板W定位。此外，浮起输送台40支承于图2所示的振动吸收机构13。

在图13中，由于浮起输送台41的支承在自浮起用板41A～41F的吹出孔411吹出的空气的作用下而浮起的基板W的基板支承高度低于吸盘34的用于吸附基板W的吸附面的高度，因此向吸盘34的吸附面施加的基板W的重量变大。因此，能够更可靠地利用吸盘34吸附基板W。

如上述实施方式2那样，通过倾斜地设置输送台，并水平地配置用于使吸盘移动的输送轴，使输送台所形成的输送面和吸盘的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板对吸盘施加较大的自重，从而能够使吸盘更稳定地吸附基板。

另外，关于检查空间PR2，由于浮起输送台40的各浮起用板的上表面以维持水平的方式设置，利用空气而浮起的基板W维持为水平，特别是基板W在检查线L5处的平面形成水平面，因此能够以水平的状态维持基板W而进行检查等。

(变形例)

图14是表示本实施方式2的FPD检查装置的变形例的剖视图。图14与图13所示的剖视图对应。关于FPD检查装置2a，在输送台41的宽度方向上靠内侧的浮起用板41C、41D的上表面低于外缘侧的浮起用板41A、41B、41E、41F的上表面。由于自浮起用板41A～41F吹出的空气的压力相等，因此利用浮起用板而浮起的基板W在板状构件41C、41D之间产生朝向下方的挠曲。由此，对吸盘34的吸附面施加基板W的挠曲所带来的负载，能够实现更稳定的吸附。

此外，欲获得与实施方式1的变形例1相同的效果，可以按照每个浮起用板来改变自浮起输送台41、42的吹出孔411、421吹出的空气的压力。例如，通过使自外缘侧的浮起用板的吹出孔吹出的空气的压力低于自内侧的浮起用板吹出的空气的压力，能够产生如图5所示的那样的基板W的挠曲。此外，如图7所示的变形例3那样，也可以适用于相对于其他浮起用板调整浮起用板41C、41D之间的间隔的结构。

如上所述，本实用新型的处理装置在可靠地保持而输送检查对象的基板这一点是有用的。

附图标记说明

1、1a～1e、2、FDP检查装置；10、龙门载物台；11、架台；12、20、21、输送台；13、振动吸收机构；20A～20F、板状构件；22、23、33、支承构件；30、30A、30B、驱动机构；31、31A、31B、输送轴；32、32A、32B、驱动部；34、34A、34B、吸盘；35、升降构件；35a、升降部；40～42、浮起输送台；41A～41F、浮起用板；100、检查单元；101、显微镜；121、201、202a～202d、203、211、自由辊；L1、L5、检查线；PR1、PR2、检查空间；TR1～TR4、输送空间；W、基板。

Claims (8)

1.一种处理装置，其包括：处理部，其用于对作为处理对象的基板实施规定的处理；以及输送台，其用于载置上述基板而输送该基板；其特征在于，

上述输送台包括：

支承部件，其具有在沿输送上述基板的输送方向观看时端部位于比中央部靠铅垂下方的位置的上表面，并用于直接或间接地支承被配置在该上表面的上方的上述基板；

保持构件，其用于以能够沿与上述输送方向平行地延伸的输送轴移动的方式保持上述基板；以及

驱动部，其用于使上述保持构件沿上述输送轴移动；

上述支承部件支承上述基板的支承高度在设置有上述处理部的处理部设置区域中与上述保持构件保持上述基板的保持高度相同，上述支承部件支承上述基板的支承高度在上述处理部设置区域以外的区域中低于上述保持高度。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

上述驱动部设置于上述输送台的宽度方向的中央，

上述支承部件的支承上述基板的高度至少是上述宽度方向的外缘侧的支承上述基板的高度与上述宽度方向的内侧的支承上述基板的高度不同。

3.根据权利要求2所述的处理装置，其特征在于，

上述支承部件在上述外缘侧支承上述基板的高度低于上述支承部件在上述内侧支承上述基板的高度。

4.根据权利要求2所述的处理装置，其特征在于，

上述支承部件在上述外缘侧支承上述基板的高度高于上述支承部件在上述内侧支承上述基板的高度。

5.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

上述支承部件沿与上述输送方向垂直的方向排列有沿上述输送方向延伸的多个支承构件，

上述驱动部配设在相邻的上述支承构件之间的隙间中的一部分隙间中，

配设上述驱动部的上述支承构件之间的间隔大于未配设上述驱动部的上述支承构件之间的间隔。

6.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

上述支承部件具有能够向上述输送方向旋转的多个自由辊。

7.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

上述支承部件具有多个吹出孔，该多个吹出孔用于利用来自空气供给部的空气供给而朝向上述输送台的上方吹出空气。

8.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

上述驱动部设置有多个，

各驱动部配设在相对于上述输送台的宽度方向的中心线对称的位置。

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