JP2007314323A - 処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理装置は、被処理基板1を搬送するための搬送コロ8と、搬送コロ8を回転可能に支持するためのシャフト3とを備える。処理装置は、被処理基板1に対して処理を行なうための処理ユニット2と、地面から立設するように形成されたベース部材5とを備える。処理ユニット2は、搬送コロ8によって被処理基板1が搬送されるときに処理を行なうように配置されている。シャフト3および処理ユニット2は、共通のベース部材5に支持されている。
【選択図】図1
Description
図1から図5を参照して、本発明に基づく実施の形態1における処理装置について説明する。本実施の形態における処理装置は、被処理基板の主表面に対してプラズマ処理を行なうための装置である。
図6から図8を参照して、本発明に基づく実施の形態2における処理装置について説明する。図6は、本実施の形態における処理装置の概略断面図である。図7は、図6におけるVII−VII線に関する矢視断面図である。図8は、図6におけるVIII−VIII線に関する矢視断面図である。
図9および図10を参照して、本発明に基づく実施の形態3における処理装置について説明する。図9は、本実施の形態における処理装置の概略断面図である。図10は、図9におけるX−X線に関する矢視断面図である。処理装置が、被処理基板を処理するための処理ユニットを複数備えることは、実施の形態2における処理装置と同様である。本実施の形態における処理装置は、搬送コロの他に補助コロを備える。
Claims (10)
- 被処理基板を搬送するための搬送コロと、
前記搬送コロを回転可能に支持するためのシャフトと、
前記被処理基板に対して処理を行なうための処理ユニットと、
設置面から立設するように形成されたベース部材と
を備え、
前記処理ユニットは、前記搬送コロによって前記被処理基板が搬送されるときに処理を行なうように配置され、
一の前記シャフトおよび一の前記処理ユニットは、共通の一の前記ベース部材に支持された、処理装置。 - 一の前記ベース部材に支持された中間支持部材を備え、
前記シャフトは、両側の端部が一の前記ベース部材に支持され、
前記シャフトは、前記両側の端部を避けた部分が前記中間支持部材に支持された、請求項1に記載の処理装置。 - 前記シャフトは、両側の端部が一の前記ベース部材に支持され、
前記シャフトは、前記両側の端部同士の間の長さが略1.5m以上になるように形成された、請求項1に記載の処理装置。 - 前記被処理基板の搬送方向において、前記搬送コロ同士の間に配置された補助コロを備え、
前記搬送コロは、前記シャフトを介して前記搬送コロを回転させるための駆動装置に接続され、
前記補助コロは、前記補助コロを回転させるための駆動装置に接続されずに、自由に回転するように形成された、請求項1に記載の処理装置。 - 前記補助コロは、前記処理ユニットに支持され、
前記補助コロは、前記処理ユニットに隣接するように配置された、請求項1に記載の処理装置。 - 複数の前記処理ユニットと、
複数の前記シャフトと
を備え、
複数の前記処理ユニットと複数の前記シャフトとが、共通の一の前記ベース部材に支持された、請求項1に記載の処理装置。 - 複数の前記処理ユニットは、前記被処理基板の搬送方向における長さがほぼ同じになるように形成された、請求項6に記載の処理装置。
- 前記処理ユニットは、前記被処理基板の搬送経路の上側に配置された上部ユニットと、
前記被処理基板の搬送経路の下側に配置された下部ユニットと
を含む、請求項1に記載の処理装置。 - 前記処理ユニットは、塗布ユニット、プラズマ処理ユニットおよび乾燥ユニットのうち少なくとも一のユニットを含む、請求項1に記載の処理装置。
- 前記処理ユニットは、プラズマ処理ユニットを含み、
前記プラズマ処理ユニットは、大気圧で処理を行なうように形成された、請求項1に記載の処理装置。
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