JP2008265995A - 基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】略水平に搬送される基板の幅方向端縁に接触して基板の幅方向の位置決めを行うガイドローラに傷等が発生することを抑制することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】対になったガイドローラ列１１，１２の内側に基板３の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めをさせるようにした基板搬送装置１には、対になったガイドローラ列１１，１２の間の間隔が搬送方向１００に向かって漸次縮小化されている基板案内部１３が設けられている。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶表示パネルに用いられるガラス基板などを略水平に支持して搬送する基板搬送装置に関する。

近年、コンピュータやテレビなどの家電製品の表示部として、液晶表示装置が広く用いられている。液晶表示装置には、２枚のガラス基板をシール材によって重ねて貼り合わせた後、シール材で区画された領域内に液晶が封入された液晶表示パネルが使われている。

従来、液晶表示パネルの製造工程において、例えばＴＦＴ側アレイ基板を製造するにあたっては、成膜、レジスト膜形成、露光、現像、エッチング、レジスト膜の剥離等の工程を順次経ることにより基板表面にＴＦＴ素子を形成するが、これらの工程において、各工程の前や後に繰り返し洗浄が行われている。

図９に示される基板洗浄装置５０は、基板５１を略水平に支持して搬送しながら洗浄を行う装置である。

この基板洗浄装置５０の洗浄処理室５２内の空間には、搬送される基板５１に対してブラシ洗浄を行うブラシ洗浄部５３が設けられている。この場合、基板５１を図中の左方向に搬送する複数の搬送ローラ５４の軸心部材である搬送軸５４ａの一端に複数の歯車５４ｂが取り付けられ、これらの歯車５４ｂにそれぞれ噛合する歯車５５ａが軸部材５５にそれぞれ取り付けられている。この軸部材５５は、モータ５６の駆動により回転するようになっており、モータ５６の駆動により搬送ローラ５４が回転し基板５１を搬送するようになっている。

また、基板５１が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラ５７を並べてなるガイドローラ列５８，５９が設けられている。この対になったガイドローラ列５８，５９の内側に基板５１の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めが行われている。尚、本発明に関連する先行技術文献として下記特許文献が挙げられる。

特開平５−３０１０８４号

しかしながら、搬送路の中央位置から基板５１が大きくずれていたり、搬送方向１００に対する基板５１の傾きが大きかったりすると、上述したガイドローラ５７に基板５１の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまい、ガイドローラ５７の外周面に傷がつき、外周面の一部が溝状に削られてしまうことがあった。そして、そのような溝に基板５１が挟まれ、基板５１が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまうという問題があった。

そこで、本発明が解決しようとする課題は、略水平に搬送される基板の角部を含む幅方向端縁に接触して基板の幅方向の位置決めを行うガイドローラに傷等が発生することを抑制することができる基板搬送装置を提供することである。

上記課題を解決するため、本発明に係る基板搬送装置は、基板を略水平に支持して搬送する複数の搬送ローラと、これら搬送ローラによって前記基板が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラを並べてなるガイドローラ列が設けられると共に、この対になったガイドローラ列の内側に前記基板の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めをさせるようにした基板搬送装置において、前記対になったガイドローラ列の間の間隔が搬送方向に向かって漸次縮小化されている基板案内部が設けられていることを要旨とするものである。

また、前記基板案内部が、前記基板搬送装置の基板導入口に設けられている構成にすると良い。

この場合、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、同じである構成にすると良い。また、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次拡大化されている構成にしても良い。更に、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次縮小化されている構成にしても良い。

そして、このような基板搬送装置を、基板を搬送しながら処理する処理装置の搬送手段として用いる構成にすると良い。

上記構成を有する基板搬送装置によれば、基板が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラを並べてなる一対のガイドローラ列の間の間隔が搬送方向に向かって漸次縮小化された基板案内部が設けられているので、搬送路の中央位置からの基板のずれが大きくても、個々のガイドローラによって少しずつ中央に修正されていく。これにより、いずれかのガイドローラに基板の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまうというような局所的な負荷が避けられる。したがって、ガイドローラの外周面の一部が溝状に削られてしまい、そのような溝に基板が挟まれて、基板が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまう不具合が発生しなくなる。

また、前記基板案内部が、前記基板搬送装置の基板導入口に設けられている構成にすれば、効率的に基板の幅方向の位置決めが行われる。

この場合、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、同じである構成にすれば、従来から備えられている対になったガイドローラ列の間の間隔を調整する調整機構を用いて、本発明を簡便に実施することができる。また、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次拡大化されている構成にすれば、基板案内部におけるガイドローラ列の各ガイドローラの位置を一直線上に並べることができ、上述した対になったガイドローラ列の間の間隔を調整する調整機構が不要になる。更に、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次縮小化されている構成にすれば、基板案内部の上流から下流におけるガイドローラと基板の角部を含む幅方向端縁との接触角度をほぼ一定にすることができるので、特定のガイドローラが大きく傷つけられることがなくなる。

そして、このような基板搬送装置を、基板を搬送しながら処理する処理装置の搬送手段として用いる構成にすれば、ガイドローラの傷の発生が抑制されることから、パーティクルの発生が少ない基板処理装置とすることができる。

以下に、本発明に係る基板搬送装置の一実施の形態ついて、図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示した図である。図２は図１中のブラシ洗浄部の側面を示した図。図３は図１中のガイドローラの側面を示した図である。

図示されるように、基板洗浄装置１の洗浄処理室２内の空間には、基板３を略水平に支持して搬送する搬送装置４と、搬送される基板３に対してブラシ洗浄を行うブラシ洗浄部５が備えられている。

図１及び図２に示されるブラシ洗浄部５は、基板３の搬送方向に交差する方向に沿って配置された上ロールブラシ５ａと下ロールブラシ５ｂを備えている。上ロールブラシ５ａは搬送される基板３の上面をブラッシングし、下ロールブラシ５ｂは下面をブラッシングする。

ロールブラシ５ａ，５ｂの両端からはそれぞれ支軸５ｃ，５ｄが突設されている。一方の支軸５ｃは軸受５ｅに回転可能に支持されている。他方の支軸５ｄは駆動源であるモータ６に連結されている。このモータ６の駆動により、上ロールブラシ５ａと下ロールブラシ５ｂが回転駆動される。これらロールブラシ５ａ，５ｂの回転方向は基板３の送り方向又は送り方向とは逆方向など要求される洗浄条件に応じて設定される。

図示される搬送装置４は、複数の搬送ローラ７と複数のガイドローラ８を備えている。搬送ローラ７は搬送軸７ａに固着して設けられて、基板３の下側となる裏面側に配されている。搬送軸７ａは、搬送路に沿って所定間隔をおいて複数設けられている。この搬送軸７ａの一方の端部は軸受７ｂによって回転可能に支持されており、他方の端部は歯車７ｃが取り付けられている。

これらの歯車７ｃにそれぞれ噛合する歯車９ａが軸部材９にそれぞれ取り付けられている。この軸部材９は、モータ１０の駆動により回転するようになっている。したがって、モータ１０の駆動により複数の搬送ローラ７が回転し、基板３が図１中左側に向かって搬送される。

これら搬送ローラ７によって基板３が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラ８を並べてなるガイドローラ列１１，１２が設けられている。この対になったガイドローラ列１１，１２の内側に基板３の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めが行われる。

各ガイドローラ８は、図３に示すように鉛直方向の回転軸８ａ廻りに回転自在に設けられている。回転軸８ａはブラケット８ｂによって洗浄処理室２のフレーム２ａに固定されている。

図１に示すように、ガイドローラ列１１，１２の間の間隔が搬送方向１００に向かって漸次縮小化されている基板案内部１３が設けられている。基板案内部１３においては、上流側から数えて１番目のガイドローラ８，８間の間隔Ｌ１、２番目のガイドローラ８，８間の間隔Ｌ２、３番目のガイドローラ８，８間の間隔Ｌ３、４番目のガイドローラ８，８間の間隔Ｌ４、５番目のガイドローラ８，８間の間隔Ｌ５がそれぞれ設定されている。図示されるように、対になったガイドローラ８，８の間隔は、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５の順に少しずつ縮小されている。

図４は、搬送路の中央位置からずれた基板３が基板案内部１３のガイドローラ８，８，８，８，８によって徐々に修正されていく状態を順に示した図である。

図示されるように傾いた基板３が左方向から、姿勢３ａの状態で搬送されて、その姿勢３ａの状態で基板角部が基板案内部１３の１番目のガイドローラ８に接触し、姿勢３ｂの状態に修正される。このように１回修正された基板３は、次に姿勢３ｂの状態で搬送されて、その姿勢３ｂの状態で基板角部が基板案内部１３の２番目のガイドローラ８に接触し、姿勢３ｃの状態に修正される。

このように２回修正された基板３は、次に姿勢３ｃの状態で搬送されて、その姿勢３ｃの状態で基板角部が基板案内部１３の３番目のガイドローラ８に接触し、姿勢３ｄの状態に修正される。このように３回修正された基板３は、次に姿勢３ｄの状態で搬送されて、その姿勢３ｄの状態で基板角部が基板案内部１３の４番目のガイドローラ８に接触し、姿勢３ｅの状態に修正される。

そして、４回修正された基板３は、次に姿勢３ｅの状態で搬送されて、その姿勢３ｅの状態で基板角部が基板案内部１３の５番目のガイドローラ８に接触し、適正な基板３の姿勢である３ｆの状態に修正される。

このように搬送路の中央位置からの基板３のずれが大きくても、基板案内部１３おける個々のガイドローラ８によって少しずつ中央に修正されていくので、いずれかのガイドローラ８に基板３の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまうというような局所的な負荷が避けられる。

これにより、従来技術で説明したようにガイドローラの外周面の一部が溝状に削られてしまい、そのような溝に基板が挟まれて、基板が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまう不具合が発生しなくなる。

この場合、図示されるように基板案内部１３における各ガイドローラ８の径が、同じである構成なので、従来から備えられている対になったガイドローラ列の間の間隔を調整する調整機構を用いて、本発明を簡便に実施することができる。

次に上述した基板案内部１３の第１の変形例を図５及び図６を用いて説明する。尚、上述した実施例と同一の構成については同符号を付して説明を省略し、異なる点を中心に説明する。

図５に示すように、ガイドローラ列１１，１２の間の間隔が搬送方向１００に向かって漸次縮小化されている基板案内部２３が設けられている。基板案内部２３においては、上流側から数えて１番目のガイドローラ２４ａ，２４ａ間の間隔Ｌ１、２番目のガイドローラ２４ｂ，２４ｂ間の間隔Ｌ２、３番目のガイドローラ２４ｃ，２４ｃ間の間隔Ｌ３、４番目のガイドローラ２４ｄ，２４ｄ間の間隔Ｌ４、５番目のガイドローラ２４ｅ，２４ｅ間の間隔Ｌ５がそれぞれ設定されている。図示されるように、対になったガイドローラ２４，２４の間隔は、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５の順に少しずつ縮小されている。また、図示されるようにガイドローラ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ，２４ｅの順に、その径が順に拡大化されている。

図６は、搬送路の中央位置からずれた基板３が基板案内部２３のガイドローラ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ，２４ｅによって徐々に修正されていく状態を順に示した図である。

図示されるように傾いた基板３が左方向から、姿勢３ａの状態で搬送されて、その姿勢３ａの状態で基板角部が基板案内部２３の１番目のガイドローラ２４ａに接触し、姿勢３ｂの状態に修正される。このように１回修正された基板３は、次に姿勢３ｂの状態で搬送されて、その姿勢３ｂの状態で基板角部が基板案内部２３の２番目のガイドローラ２４ｂに接触し、姿勢３ｃの状態に修正される。

このように２回修正された基板３は、次に姿勢３ｃの状態で搬送されて、その姿勢３ｃの状態で基板角部が基板案内部２３の３番目のガイドローラ２４ｃに接触し、姿勢３ｄの状態に修正される。このように３回修正された基板３は、次に姿勢３ｄの状態で搬送されて、その姿勢３ｄの状態で基板角部が基板案内部２３の４番目のガイドローラ２４ｄに接触し、姿勢３ｅの状態に修正される。

そして、４回修正された基板３は、次に姿勢３ｅの状態で搬送されて、その姿勢３ｅの状態で基板角部が基板案内部２３の５番目のガイドローラ２４ｅに接触し、適正な基板３の姿勢である３ｆの状態に修正される。

このように搬送路の中央位置からの基板３のずれが大きくても、基板案内部２３おける個々のガイドローラ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ，２４ｅによって少しずつ中央に修正されていくので、いずれかのガイドローラに基板３の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまうというような局所的な負荷が避けられる。

これにより、従来技術で説明したようにガイドローラの外周面の一部が溝状に削られてしまい、そのような溝に基板が挟まれて、基板が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまう不具合が発生しなくなる。

この場合、基板案内部２３における各ガイドローラ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ，２４ｅの径が、搬送方向に向かって漸次拡大化されている構成なので、基板案内部２３における各ガイドローラ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ，２４ｅの位置を図６に示すようにフレーム２ａに平行な直線２５上に並べることができ、上述したガイドローラ列の間の間隔を調整する調整機構が不要になる。

次に上述した基板案内部１３の第２の変形例を図７及び図８を用いて説明する。尚、上述した実施例と同一の構成については同符号を付して説明を省略し、異なる点を中心に説明する。

図７に示すように、ガイドローラ列１１，１２の間の間隔が搬送方向１００に向かって漸次縮小化されている基板案内部３３が設けられている。基板案内部３３においては、上流側から数えて１番目のガイドローラ３４ａ，３４ａ間の間隔Ｌ１、２番目のガイドローラ３４ｂ，３４ｂ間の間隔Ｌ２、３番目のガイドローラ３４ｃ，３４ｃ間の間隔Ｌ３、４番目のガイドローラ３４ｄ，３４ｄ間の間隔Ｌ４、５番目のガイドローラ３４ｅ，３４ｅ間の間隔Ｌ５がそれぞれ設定されている。図示されるように、対になったガイドローラ３４，３４の間隔は、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５の順に少しずつ縮小されている。また、図示されるようにガイドローラ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ，３４ｅの順に、その径が順に縮小化されている。

図８は、搬送路の中央位置からずれた基板３が基板案内部３３のガイドローラ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ，３４ｅによって徐々に修正されていく状態を順に示した図である。

図示されるように傾いた基板３が左方向から、姿勢３ａの状態で搬送されて、その姿勢３ａの状態で基板角部が基板案内部３３の１番目のガイドローラ３４ａに接触し、姿勢３ｂの状態に修正される。このように１回修正された基板３は、次に姿勢３ｂの状態で搬送されて、その姿勢３ｂの状態で基板角部が基板案内部３３の２番目のガイドローラ３４ｂに接触し、姿勢３ｃの状態に修正される。

このように２回修正された基板３は、次に姿勢３ｃの状態で搬送されて、その姿勢３ｃの状態で基板角部が基板案内部３３の３番目のガイドローラ３４ｃに接触し、姿勢３ｄの状態に修正される。このように３回修正された基板３は、次に姿勢３ｄの状態で搬送されて、その姿勢３ｄの状態で基板角部が基板案内部３３の４番目のガイドローラ３４ｄに接触し、姿勢３ｅの状態に修正される。

そして、４回修正された基板３は、次に姿勢３ｅの状態で搬送されて、その姿勢３ｅの状態で基板角部が基板案内部３３の５番目のガイドローラ３４ｅに接触し、適正な基板３の姿勢である３ｆの状態に修正される。

このように搬送路の中央位置からの基板３のずれが大きくても、基板案内部３３おける個々のガイドローラ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ，３４ｅによって少しずつ中央に修正されていくので、いずれかのガイドローラに基板３の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまうというような局所的な負荷が避けられる。

これにより、従来技術で説明したようにガイドローラの外周面の一部が溝状に削られてしまい、そのような溝に基板が挟まれて、基板が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまう不具合が発生しなくなる。

この場合、基板案内部３３における各ガイドローラ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ，３４ｅの径が、搬送方向に向かって漸次縮小化されている構成なので、基板案内部３３の上流から下流におけるガイドローラ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ，３４ｅと基板３の角部を含む幅方向端縁との接触角度を、図８に示すようにほぼ一定にすることができるので、各ガイドローラ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ，３４ｅへの負荷を均等にすることができる。これにより、メンテナンス等によるガイドローラ交換の頻度を少なくすることが可能になる。

尚、上述した基板案内部１３，２３，３３は搬送装置４の基板導入口に設けられている構成なので、効率的に基板の幅方向の位置決めが行われるようになっている。

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることは勿論である。例えば、上述した実施の形態では、基板をロールブラシで洗浄する処理室について説明したが、洗浄後に洗浄液を乾燥処理するためのエアーナイフが設けられた処理室などにも本発明を適用することができ、上記実施の形態には限定されない。

本発明の一実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板洗浄装置の概略構成を示した図である。 図１中のブラシ洗浄部の側面を示した図である。 図１中のガイドローラの側面を示した図である。 図１のガイドローラによって搬送路の中央位置からずれた基板が徐々に修正されていく状態を順に示した図である。 図１の基板案内部の第１の変形例を示した図である。 図５のガイドローラによって搬送路の中央位置からずれた基板が徐々に修正されていく状態を順に示した図である。 図１の基板案内部の第２の変形例を示した図である。 図７のガイドローラによって搬送路の中央位置からずれた基板が徐々に修正されていく状態を順に示した図である。 従来用いられてきた基板搬送装置を備えた基板洗浄装置の概略構成を示した図である。

符号の説明

１ 基板洗浄装置
２ 洗浄処理室
２ａ フレーム
３ 基板
３ａ〜３ｆ 基板の姿勢
４ 搬送装置
５ ブラシ洗浄部
５ａ 上ロールブラシ
５ｂ 下ロールブラシ
５ｃ，５ｄ 支軸
５ｅ 軸受
６ モータ
７ 搬送ローラ
７ａ 搬送軸
７ｂ 軸受
７ｃ 歯車
８ ガイドローラ
８ａ 回転軸
８ｂ ブラケット
９ 軸部材
９ａ 歯車
１０ モータ
１１，１２ ガイドローラ列
１３ 基板案内部
２３ 基板案内部
２４ａ〜２４ｅ ガイドローラ
２５ フレームに平行な直線
３３ 基板案内部
３４ａ〜３４ａ ガイドローラ
１００ 基板搬送方向

Claims (6)

1. 基板を略水平に支持して搬送する複数の搬送ローラと、これら搬送ローラによって前記基板が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラを並べてなるガイドローラ列が設けられると共に、この対になったガイドローラ列の内側に前記基板の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めをさせるようにした基板搬送装置において、前記対になったガイドローラ列の間の間隔が搬送方向に向かって漸次縮小化されている基板案内部が設けられていることを特徴とする基板搬送装置。
2. 前記基板案内部が、前記基板搬送装置の基板導入口に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
3. 前記基板案内部における各ガイドローラの径が、同じであることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板搬送装置。
4. 前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次拡大化されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板搬送装置。
5. 前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次縮小化されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板搬送装置。
6. 請求項１から５のいずれかに記載の基板搬送装置を、基板を搬送しながら処理する処理装置の搬送手段として用いることを特徴とする基板処理装置。

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