JP2008265995A - 基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】略水平に搬送される基板の幅方向端縁に接触して基板の幅方向の位置決めを行うガイドローラに傷等が発生することを抑制することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】対になったガイドローラ列11,12の内側に基板3の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めをさせるようにした基板搬送装置1には、対になったガイドローラ列11,12の間の間隔が搬送方向100に向かって漸次縮小化されている基板案内部13が設けられている。
【選択図】図1
【解決手段】対になったガイドローラ列11,12の内側に基板3の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めをさせるようにした基板搬送装置1には、対になったガイドローラ列11,12の間の間隔が搬送方向100に向かって漸次縮小化されている基板案内部13が設けられている。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶表示パネルに用いられるガラス基板などを略水平に支持して搬送する基板搬送装置に関する。
近年、コンピュータやテレビなどの家電製品の表示部として、液晶表示装置が広く用いられている。液晶表示装置には、2枚のガラス基板をシール材によって重ねて貼り合わせた後、シール材で区画された領域内に液晶が封入された液晶表示パネルが使われている。
従来、液晶表示パネルの製造工程において、例えばTFT側アレイ基板を製造するにあたっては、成膜、レジスト膜形成、露光、現像、エッチング、レジスト膜の剥離等の工程を順次経ることにより基板表面にTFT素子を形成するが、これらの工程において、各工程の前や後に繰り返し洗浄が行われている。
図9に示される基板洗浄装置50は、基板51を略水平に支持して搬送しながら洗浄を行う装置である。
この基板洗浄装置50の洗浄処理室52内の空間には、搬送される基板51に対してブラシ洗浄を行うブラシ洗浄部53が設けられている。この場合、基板51を図中の左方向に搬送する複数の搬送ローラ54の軸心部材である搬送軸54aの一端に複数の歯車54bが取り付けられ、これらの歯車54bにそれぞれ噛合する歯車55aが軸部材55にそれぞれ取り付けられている。この軸部材55は、モータ56の駆動により回転するようになっており、モータ56の駆動により搬送ローラ54が回転し基板51を搬送するようになっている。
また、基板51が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラ57を並べてなるガイドローラ列58,59が設けられている。この対になったガイドローラ列58,59の内側に基板51の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めが行われている。尚、本発明に関連する先行技術文献として下記特許文献が挙げられる。
しかしながら、搬送路の中央位置から基板51が大きくずれていたり、搬送方向100に対する基板51の傾きが大きかったりすると、上述したガイドローラ57に基板51の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまい、ガイドローラ57の外周面に傷がつき、外周面の一部が溝状に削られてしまうことがあった。そして、そのような溝に基板51が挟まれ、基板51が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまうという問題があった。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、略水平に搬送される基板の角部を含む幅方向端縁に接触して基板の幅方向の位置決めを行うガイドローラに傷等が発生することを抑制することができる基板搬送装置を提供することである。
上記課題を解決するため、本発明に係る基板搬送装置は、基板を略水平に支持して搬送する複数の搬送ローラと、これら搬送ローラによって前記基板が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラを並べてなるガイドローラ列が設けられると共に、この対になったガイドローラ列の内側に前記基板の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めをさせるようにした基板搬送装置において、前記対になったガイドローラ列の間の間隔が搬送方向に向かって漸次縮小化されている基板案内部が設けられていることを要旨とするものである。
また、前記基板案内部が、前記基板搬送装置の基板導入口に設けられている構成にすると良い。
この場合、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、同じである構成にすると良い。また、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次拡大化されている構成にしても良い。更に、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次縮小化されている構成にしても良い。
そして、このような基板搬送装置を、基板を搬送しながら処理する処理装置の搬送手段として用いる構成にすると良い。
上記構成を有する基板搬送装置によれば、基板が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラを並べてなる一対のガイドローラ列の間の間隔が搬送方向に向かって漸次縮小化された基板案内部が設けられているので、搬送路の中央位置からの基板のずれが大きくても、個々のガイドローラによって少しずつ中央に修正されていく。これにより、いずれかのガイドローラに基板の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまうというような局所的な負荷が避けられる。したがって、ガイドローラの外周面の一部が溝状に削られてしまい、そのような溝に基板が挟まれて、基板が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまう不具合が発生しなくなる。
また、前記基板案内部が、前記基板搬送装置の基板導入口に設けられている構成にすれば、効率的に基板の幅方向の位置決めが行われる。
この場合、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、同じである構成にすれば、従来から備えられている対になったガイドローラ列の間の間隔を調整する調整機構を用いて、本発明を簡便に実施することができる。また、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次拡大化されている構成にすれば、基板案内部におけるガイドローラ列の各ガイドローラの位置を一直線上に並べることができ、上述した対になったガイドローラ列の間の間隔を調整する調整機構が不要になる。更に、前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次縮小化されている構成にすれば、基板案内部の上流から下流におけるガイドローラと基板の角部を含む幅方向端縁との接触角度をほぼ一定にすることができるので、特定のガイドローラが大きく傷つけられることがなくなる。
そして、このような基板搬送装置を、基板を搬送しながら処理する処理装置の搬送手段として用いる構成にすれば、ガイドローラの傷の発生が抑制されることから、パーティクルの発生が少ない基板処理装置とすることができる。
以下に、本発明に係る基板搬送装置の一実施の形態ついて、図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示した図である。図2は図1中のブラシ洗浄部の側面を示した図。図3は図1中のガイドローラの側面を示した図である。
図示されるように、基板洗浄装置1の洗浄処理室2内の空間には、基板3を略水平に支持して搬送する搬送装置4と、搬送される基板3に対してブラシ洗浄を行うブラシ洗浄部5が備えられている。
図1及び図2に示されるブラシ洗浄部5は、基板3の搬送方向に交差する方向に沿って配置された上ロールブラシ5aと下ロールブラシ5bを備えている。上ロールブラシ5aは搬送される基板3の上面をブラッシングし、下ロールブラシ5bは下面をブラッシングする。
ロールブラシ5a,5bの両端からはそれぞれ支軸5c,5dが突設されている。一方の支軸5cは軸受5eに回転可能に支持されている。他方の支軸5dは駆動源であるモータ6に連結されている。このモータ6の駆動により、上ロールブラシ5aと下ロールブラシ5bが回転駆動される。これらロールブラシ5a,5bの回転方向は基板3の送り方向又は送り方向とは逆方向など要求される洗浄条件に応じて設定される。
図示される搬送装置4は、複数の搬送ローラ7と複数のガイドローラ8を備えている。搬送ローラ7は搬送軸7aに固着して設けられて、基板3の下側となる裏面側に配されている。搬送軸7aは、搬送路に沿って所定間隔をおいて複数設けられている。この搬送軸7aの一方の端部は軸受7bによって回転可能に支持されており、他方の端部は歯車7cが取り付けられている。
これらの歯車7cにそれぞれ噛合する歯車9aが軸部材9にそれぞれ取り付けられている。この軸部材9は、モータ10の駆動により回転するようになっている。したがって、モータ10の駆動により複数の搬送ローラ7が回転し、基板3が図1中左側に向かって搬送される。
これら搬送ローラ7によって基板3が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラ8を並べてなるガイドローラ列11,12が設けられている。この対になったガイドローラ列11,12の内側に基板3の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めが行われる。
各ガイドローラ8は、図3に示すように鉛直方向の回転軸8a廻りに回転自在に設けられている。回転軸8aはブラケット8bによって洗浄処理室2のフレーム2aに固定されている。
図1に示すように、ガイドローラ列11,12の間の間隔が搬送方向100に向かって漸次縮小化されている基板案内部13が設けられている。基板案内部13においては、上流側から数えて1番目のガイドローラ8,8間の間隔L1、2番目のガイドローラ8,8間の間隔L2、3番目のガイドローラ8,8間の間隔L3、4番目のガイドローラ8,8間の間隔L4、5番目のガイドローラ8,8間の間隔L5がそれぞれ設定されている。図示されるように、対になったガイドローラ8,8の間隔は、L1、L2、L3、L4、L5の順に少しずつ縮小されている。
図4は、搬送路の中央位置からずれた基板3が基板案内部13のガイドローラ8,8,8,8,8によって徐々に修正されていく状態を順に示した図である。
図示されるように傾いた基板3が左方向から、姿勢3aの状態で搬送されて、その姿勢3aの状態で基板角部が基板案内部13の1番目のガイドローラ8に接触し、姿勢3bの状態に修正される。このように1回修正された基板3は、次に姿勢3bの状態で搬送されて、その姿勢3bの状態で基板角部が基板案内部13の2番目のガイドローラ8に接触し、姿勢3cの状態に修正される。
このように2回修正された基板3は、次に姿勢3cの状態で搬送されて、その姿勢3cの状態で基板角部が基板案内部13の3番目のガイドローラ8に接触し、姿勢3dの状態に修正される。このように3回修正された基板3は、次に姿勢3dの状態で搬送されて、その姿勢3dの状態で基板角部が基板案内部13の4番目のガイドローラ8に接触し、姿勢3eの状態に修正される。
そして、4回修正された基板3は、次に姿勢3eの状態で搬送されて、その姿勢3eの状態で基板角部が基板案内部13の5番目のガイドローラ8に接触し、適正な基板3の姿勢である3fの状態に修正される。
このように搬送路の中央位置からの基板3のずれが大きくても、基板案内部13おける個々のガイドローラ8によって少しずつ中央に修正されていくので、いずれかのガイドローラ8に基板3の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまうというような局所的な負荷が避けられる。
これにより、従来技術で説明したようにガイドローラの外周面の一部が溝状に削られてしまい、そのような溝に基板が挟まれて、基板が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまう不具合が発生しなくなる。
この場合、図示されるように基板案内部13における各ガイドローラ8の径が、同じである構成なので、従来から備えられている対になったガイドローラ列の間の間隔を調整する調整機構を用いて、本発明を簡便に実施することができる。
次に上述した基板案内部13の第1の変形例を図5及び図6を用いて説明する。尚、上述した実施例と同一の構成については同符号を付して説明を省略し、異なる点を中心に説明する。
図5に示すように、ガイドローラ列11,12の間の間隔が搬送方向100に向かって漸次縮小化されている基板案内部23が設けられている。基板案内部23においては、上流側から数えて1番目のガイドローラ24a,24a間の間隔L1、2番目のガイドローラ24b,24b間の間隔L2、3番目のガイドローラ24c,24c間の間隔L3、4番目のガイドローラ24d,24d間の間隔L4、5番目のガイドローラ24e,24e間の間隔L5がそれぞれ設定されている。図示されるように、対になったガイドローラ24,24の間隔は、L1、L2、L3、L4、L5の順に少しずつ縮小されている。また、図示されるようにガイドローラ24a,24b,24c,24d,24eの順に、その径が順に拡大化されている。
図6は、搬送路の中央位置からずれた基板3が基板案内部23のガイドローラ24a,24b,24c,24d,24eによって徐々に修正されていく状態を順に示した図である。
図示されるように傾いた基板3が左方向から、姿勢3aの状態で搬送されて、その姿勢3aの状態で基板角部が基板案内部23の1番目のガイドローラ24aに接触し、姿勢3bの状態に修正される。このように1回修正された基板3は、次に姿勢3bの状態で搬送されて、その姿勢3bの状態で基板角部が基板案内部23の2番目のガイドローラ24bに接触し、姿勢3cの状態に修正される。
このように2回修正された基板3は、次に姿勢3cの状態で搬送されて、その姿勢3cの状態で基板角部が基板案内部23の3番目のガイドローラ24cに接触し、姿勢3dの状態に修正される。このように3回修正された基板3は、次に姿勢3dの状態で搬送されて、その姿勢3dの状態で基板角部が基板案内部23の4番目のガイドローラ24dに接触し、姿勢3eの状態に修正される。
そして、4回修正された基板3は、次に姿勢3eの状態で搬送されて、その姿勢3eの状態で基板角部が基板案内部23の5番目のガイドローラ24eに接触し、適正な基板3の姿勢である3fの状態に修正される。
このように搬送路の中央位置からの基板3のずれが大きくても、基板案内部23おける個々のガイドローラ24a,24b,24c,24d,24eによって少しずつ中央に修正されていくので、いずれかのガイドローラに基板3の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまうというような局所的な負荷が避けられる。
これにより、従来技術で説明したようにガイドローラの外周面の一部が溝状に削られてしまい、そのような溝に基板が挟まれて、基板が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまう不具合が発生しなくなる。
この場合、基板案内部23における各ガイドローラ24a,24b,24c,24d,24eの径が、搬送方向に向かって漸次拡大化されている構成なので、基板案内部23における各ガイドローラ24a,24b,24c,24d,24eの位置を図6に示すようにフレーム2aに平行な直線25上に並べることができ、上述したガイドローラ列の間の間隔を調整する調整機構が不要になる。
次に上述した基板案内部13の第2の変形例を図7及び図8を用いて説明する。尚、上述した実施例と同一の構成については同符号を付して説明を省略し、異なる点を中心に説明する。
図7に示すように、ガイドローラ列11,12の間の間隔が搬送方向100に向かって漸次縮小化されている基板案内部33が設けられている。基板案内部33においては、上流側から数えて1番目のガイドローラ34a,34a間の間隔L1、2番目のガイドローラ34b,34b間の間隔L2、3番目のガイドローラ34c,34c間の間隔L3、4番目のガイドローラ34d,34d間の間隔L4、5番目のガイドローラ34e,34e間の間隔L5がそれぞれ設定されている。図示されるように、対になったガイドローラ34,34の間隔は、L1、L2、L3、L4、L5の順に少しずつ縮小されている。また、図示されるようにガイドローラ34a,34b,34c,34d,34eの順に、その径が順に縮小化されている。
図8は、搬送路の中央位置からずれた基板3が基板案内部33のガイドローラ34a,34b,34c,34d,34eによって徐々に修正されていく状態を順に示した図である。
図示されるように傾いた基板3が左方向から、姿勢3aの状態で搬送されて、その姿勢3aの状態で基板角部が基板案内部33の1番目のガイドローラ34aに接触し、姿勢3bの状態に修正される。このように1回修正された基板3は、次に姿勢3bの状態で搬送されて、その姿勢3bの状態で基板角部が基板案内部33の2番目のガイドローラ34bに接触し、姿勢3cの状態に修正される。
このように2回修正された基板3は、次に姿勢3cの状態で搬送されて、その姿勢3cの状態で基板角部が基板案内部33の3番目のガイドローラ34cに接触し、姿勢3dの状態に修正される。このように3回修正された基板3は、次に姿勢3dの状態で搬送されて、その姿勢3dの状態で基板角部が基板案内部33の4番目のガイドローラ34dに接触し、姿勢3eの状態に修正される。
そして、4回修正された基板3は、次に姿勢3eの状態で搬送されて、その姿勢3eの状態で基板角部が基板案内部33の5番目のガイドローラ34eに接触し、適正な基板3の姿勢である3fの状態に修正される。
このように搬送路の中央位置からの基板3のずれが大きくても、基板案内部33おける個々のガイドローラ34a,34b,34c,34d,34eによって少しずつ中央に修正されていくので、いずれかのガイドローラに基板3の角部を含む幅方向端縁が強く接触してしまうというような局所的な負荷が避けられる。
これにより、従来技術で説明したようにガイドローラの外周面の一部が溝状に削られてしまい、そのような溝に基板が挟まれて、基板が上下に動いたときなどに割れや欠けが発生してしまう不具合が発生しなくなる。
この場合、基板案内部33における各ガイドローラ34a,34b,34c,34d,34eの径が、搬送方向に向かって漸次縮小化されている構成なので、基板案内部33の上流から下流におけるガイドローラ34a,34b,34c,34d,34eと基板3の角部を含む幅方向端縁との接触角度を、図8に示すようにほぼ一定にすることができるので、各ガイドローラ34a,34b,34c,34d,34eへの負荷を均等にすることができる。これにより、メンテナンス等によるガイドローラ交換の頻度を少なくすることが可能になる。
尚、上述した基板案内部13,23,33は搬送装置4の基板導入口に設けられている構成なので、効率的に基板の幅方向の位置決めが行われるようになっている。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることは勿論である。例えば、上述した実施の形態では、基板をロールブラシで洗浄する処理室について説明したが、洗浄後に洗浄液を乾燥処理するためのエアーナイフが設けられた処理室などにも本発明を適用することができ、上記実施の形態には限定されない。
1 基板洗浄装置
2 洗浄処理室
2a フレーム
3 基板
3a〜3f 基板の姿勢
4 搬送装置
5 ブラシ洗浄部
5a 上ロールブラシ
5b 下ロールブラシ
5c,5d 支軸
5e 軸受
6 モータ
7 搬送ローラ
7a 搬送軸
7b 軸受
7c 歯車
8 ガイドローラ
8a 回転軸
8b ブラケット
9 軸部材
9a 歯車
10 モータ
11,12 ガイドローラ列
13 基板案内部
23 基板案内部
24a〜24e ガイドローラ
25 フレームに平行な直線
33 基板案内部
34a〜34a ガイドローラ
100 基板搬送方向
2 洗浄処理室
2a フレーム
3 基板
3a〜3f 基板の姿勢
4 搬送装置
5 ブラシ洗浄部
5a 上ロールブラシ
5b 下ロールブラシ
5c,5d 支軸
5e 軸受
6 モータ
7 搬送ローラ
7a 搬送軸
7b 軸受
7c 歯車
8 ガイドローラ
8a 回転軸
8b ブラケット
9 軸部材
9a 歯車
10 モータ
11,12 ガイドローラ列
13 基板案内部
23 基板案内部
24a〜24e ガイドローラ
25 フレームに平行な直線
33 基板案内部
34a〜34a ガイドローラ
100 基板搬送方向
Claims (6)
- 基板を略水平に支持して搬送する複数の搬送ローラと、これら搬送ローラによって前記基板が搬送される搬送路の幅方向の両端に沿って、複数のガイドローラを並べてなるガイドローラ列が設けられると共に、この対になったガイドローラ列の内側に前記基板の角部を含む幅方向端縁を接触させて、その幅方向の位置決めをさせるようにした基板搬送装置において、前記対になったガイドローラ列の間の間隔が搬送方向に向かって漸次縮小化されている基板案内部が設けられていることを特徴とする基板搬送装置。
- 前記基板案内部が、前記基板搬送装置の基板導入口に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
- 前記基板案内部における各ガイドローラの径が、同じであることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板搬送装置。
- 前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次拡大化されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板搬送装置。
- 前記基板案内部における各ガイドローラの径が、搬送方向に向かって漸次縮小化されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板搬送装置。
- 請求項1から5のいずれかに記載の基板搬送装置を、基板を搬送しながら処理する処理装置の搬送手段として用いることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007114377A JP2008265995A (ja) | 2007-04-24 | 2007-04-24 | 基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置 |
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JP2007114377A JP2008265995A (ja) | 2007-04-24 | 2007-04-24 | 基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置 |
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Family Applications (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN109850573A (zh) * | 2018-12-04 | 2019-06-07 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 传送机台 |
US10486918B2 (en) | 2016-02-24 | 2019-11-26 | Sakai Display Products Corporation | Guide roller and substrate transfer apparatus |
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-
2007
- 2007-04-24 JP JP2007114377A patent/JP2008265995A/ja active Pending
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