TWI820574B - 基板搬送裝置以及基板處理裝置 - Google Patents

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⻄部幸伸
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Abstract

本發明提供一種基板搬送裝置以及基板處理裝置，能夠提高基板的品質。實施方式是搬送具有翹曲的基板的基板搬送裝置，包括：多個搬送輥，具有支撐基板的凹面側的圓柱部，藉由圓柱部以軸為中心而旋轉，從而搬送基板；第一軸，與搬送輥成同軸地沿著與基板的搬送方向正交的寬度方向而設；按壓輥，按壓基板的凸面；及第二軸，與按壓輥成同軸地設置，且搬送輥是將在寬度方向上隔開地設置的兩個作為一組，而沿搬送方向配置有多組，在各組的兩個搬送輥，設有在寬度方向上隔開的兩根第一軸，搬送輥與按壓輥的隔開距離具有沿著搬送方向而變短的部分。

Description

基板搬送裝置以及基板處理裝置
本發明是有關於一種基板搬送裝置以及基板處理裝置。
在液晶顯示裝置或半導體元件等的製造工序中，使用對玻璃基板或半導體基板等基板進行處理的基板處理裝置。作為基板處理，例如有抗蝕劑塗布處理、抗蝕劑剝離處理、蝕刻處理、清洗處理、乾燥處理。基板處理裝置一邊藉由多個搬送輥來搬送基板，一邊對於所述基板，藉由供給工具來供給例如處理液或乾燥用的氣體之類的處理用的流體而對基板進行處理。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開平11-10096號公報
作為搬送對象的基板通常為平板狀的基板，但其中也有具有翹曲的基板。例如，當使用厚度薄至1mm左右的基板來作為處理對象基板，在所述基板的其中一面進行成膜時，基板會因膜的應力而翹曲。因此，有時基板的其中一面為凹面而另一面為凸面。若像這樣具有翹曲的基板將凹面朝上地，由多個搬送輥以保 持著翹曲的狀態予以搬送，則來自供給工具的處理用的流體無法得到均勻供給，因此對基板的處理會變得不均勻。因此，例如有時會發生塗布不均、剝離不均、蝕刻不均、清洗不均、乾燥不均等的處理不均，基板的品質將下降。
本發明所要解決的問題在於，提供一種能夠提高基板品質的基板搬送裝置以及基板處理裝置。
本發明的實施方式是一種基板搬送裝置，搬送具有翹曲的基板，所述基板搬送裝置包括：多個搬送輥，具有從凹面側支撐所述基板的圓柱部，藉由所述圓柱部以軸為中心旋轉，從而搬送所述基板；第一軸，與所述搬送輥成同軸地，沿著與所述基板的搬送方向正交的寬度方向而設；按壓輥，按壓所述基板的凸面；以及第二軸，與所述按壓輥成同軸地設置，且所述搬送輥是將在所述寬度方向上隔開地設置的兩個作為一組，而沿所述搬送方向配置有多組，在各組的兩個所述搬送輥，設有在所述寬度方向上隔開的兩根所述第一軸，所述搬送輥與所述按壓輥的隔開距離具有沿著所述搬送方向而變短的部分。
而且，本發明的實施方式是一種基板處理裝置，具有矯正室與處理室，所述矯正室設有所述基板搬送裝置，其中，所述矯正室具有所述搬送輥與所述按壓輥的隔開距離沿著所述搬送方向而變短的部分，所述處理室具有流體供給部，所述流體供給部對於通過了所述矯正室的所述基板，從隔開的各組搬送輥之間供 給流體。
根據本發明的實施方式，能夠提高基板的品質。
10:基板處理裝置
21:矯正室
22:處理室
30:基板搬送裝置
31:搬送輥
31a、312a:圓柱部
31b、312b:凸緣狀部
31c:第一軸
32:按壓輥
32a:第二軸
40:流體供給部
41:液體噴射部
41a:噴嘴
42:氣體噴吹部
42a:噴吹口
50:控制部
311:固定部
311a:小徑部
311b:大徑部
312:可動部
312c:端面
313:施力構件
314:導輥
314a:支柱部
314b:輥部
314c:引導部
ax:圓柱部的軸方向的長度
d:凸緣狀部的隔開距離
D、H:隔開距離
dmax:凸緣狀部的最大的隔開間隔
Dmax:最大的隔開距離
dmin:凸緣狀部的最小的隔開間隔
Dmin:最小的隔開距離
La:經矯正的基板在俯視時的寬度方向的長度
Lo:矯正前的基板在俯視時的寬度方向的長度
P:圖案
pa:從經矯正的基板的緣部直至圖案形成區域的緣部為止的、在俯視時的寬度方向上的長度
S1:凹面
S2:凸面
T:搬送路徑
Td:搬送方向
W:基板
X:寬度方向
圖1是表示第一實施方式的基板處理裝置的概略結構的側面圖。
圖2的(A)是圖1的箭頭A-A′圖，圖2的(B)是圖1的箭頭B-B′圖。
圖3是表示圖1的實施方式的基板搬送裝置的概略結構的平面圖。
圖4是表示第二實施方式的基板搬送裝置的概略結構的平面圖。
圖5是表示第三實施方式的基板搬送裝置的概略結構的平面圖。
圖6的(A)及圖6的(B)是表示圖5的實施方式的搬送輥的結構的剖面圖。
圖7是表示第四實施方式的基板搬送裝置的概略結構的平面圖。
圖8是表示圖7的實施方式的導輥的局部剖面圖。
圖9是表示另一實施方式的基板處理裝置的概略結構的側面圖。
[第一實施方式]
參照圖1至圖3來說明第一實施方式。另外，附圖的尺寸以及形狀並非反映實際的基板以及裝置的準確尺寸及形狀，為了便於理解，存在誇張地表達的部分。而且，以下的說明中，將順從重力的方向設為下方，將克服重力的方向設為上方，但這些方向並不限定裝置的設置方向。
[基板]
如圖1以及圖2的(A)及圖2的(B)所示，本實施方式中，作為搬送物件、處理物件的基板W具有翹曲。作為基板W，例如使用玻璃基板等矩形狀的薄型基板。基板W的厚度為0.5mm~1.1mm左右，基板W的翹曲量為7mm~10mm左右。附圖中，表示了基板W的短邊方向翹曲成U字形的形狀，但實際的矩形狀的基板W的翹曲位於基板W的四周。因翹曲，基板W的其中一個面收縮，另一個面伸展。將因收縮而凹陷的面設為凹面S1，將因伸展而隆起的面設為凸面S2。本實施方式的基板W將凹面S1作為處理面。例如，使用如多層基板那樣在處理面形成有電路的圖案P的基板W。另外，在基板W的處理面的外緣附近，存在未形成圖案P的區域。將處理面的形成有圖案P的區域設為圖案形成區域，將未形成圖案P的區域設為非圖案形成區域。
[基本結構]
本實施方式的基板處理裝置10是一邊支撐凹面S1側來搬送 基板W，一邊對作為處理面的凹面S1進行處理的裝置。當像這樣以凹面S1處於下方、凸面S2處於上方的方式進行搬送時，基本上，只要僅藉由基板W的端部的支撐，便能夠穩定地搬送。並且，對下方的凹面S1進行處理。所述基板處理裝置10具有矯正室21、處理室22、基板搬送裝置30、流體供給部40以及控制部50。矯正室21、處理室22分別為在內部具有對基板W進行搬送的搬送路徑T的框體，且形成為，基板W可沿著搬送路徑T而通過內部。矯正室21作為對在搬送路徑T上移動的基板W的翹曲進行矯正的場所發揮功能。處理室22作為用於對在矯正室21中經矯正了翹曲後在搬送路徑T上移動的基板W進行處理的場所發揮功能。基板W的處理在本實施方式中為清洗與乾燥。在處理室22的底面，形成有排出液體的排出口(未圖示)。
基板搬送裝置30具有多個搬送輥31與多個按壓輥32。基板搬送裝置30是遍及矯正室21、處理室22的整體內部而設，藉由各按壓輥32來按壓基板W的凸面S2，並藉由各搬送輥31來支撐凹面S1側而搬送基板W。
[基板搬送裝置]
(搬送輥與按壓輥的配置)
基板搬送裝置30將凹面S1設為下方來搬送基板W。各搬送輥31是沿著基板W的搬送方向Td而以規定間隔排列在搬送路徑T的下方。各按壓輥32分別以夾著搬送路徑T而與各搬送輥31隔開的方式定位於搬送路徑T的上方，且以與各搬送輥31的規定 間隔相同的規定間隔而沿著搬送方向Td排列。這些搬送輥31以及按壓輥32可旋轉地設於矯正室21、處理室22內，且構成為，藉由驅動機構(未圖示)而彼此同步地旋轉。搬送輥31在圖1中順時針旋轉，按壓輥32逆時針旋轉。
將以夾著搬送路徑T而隔開的方式配置的搬送輥31(本實施方式中，兩個為一組)與按壓輥32作為一組，矯正室21內的每組搬送輥31與按壓輥32之間的隔開距離H沿著搬送方向Td而朝向下游側逐漸變短，在矯正室21內的搬送路徑T的中途成為固定，就這樣在處理室22中也成為固定。本實施方式中，隔開距離H為鉛垂方向的隔開距離。所謂隔開距離H成為固定，例如是指成為基板W的厚度以下的可搬送基板的規定距離。
另外，如圖2的(A)所示，位於搬送方向Td的最上游(上游端)的一組搬送輥31以及按壓輥32的隔開距離H比基板W的翹曲量長。所謂翹曲量，是指載置有基板W的平面與被載置於所述平面的基板W的上表面的最大鉛垂隔開距離。基板W在矯正室21中通過此種搬送輥31以及按壓輥32之間，由此，如圖2的(B)、圖3所示，翹曲得到矯正。
(搬送輥的具體結構)
如圖2的(A)所示，搬送輥31具有支撐基板W的凹面S1側的圓柱部31a，藉由圓柱部31a以軸為中心旋轉，從而搬送基板W。圓柱部31a例如是將橡膠或樹脂作為原材料的輥。圓柱部31a的軸沿著與搬送方向Td正交的寬度方向X。包含所述圓柱部31a 的搬送輥31將在寬度方向X上隔開地設置的兩個作為一組，沿搬送方向Td配置有多組。各組的兩個圓柱部31a為相同直徑。
另外，所述搬送輥31與按壓輥32的隔開距離H是與基板W接觸的部分的距離，本實施方式中，是圓柱部31a的外周面與按壓輥32的外周面的距離。即，搬送輥31與按壓輥32的隔開距離H包含為搬送輥31的一部分與按壓輥32的距離的情況。而且，本實施方式的搬送路徑T位於搬送輥31的圓柱部31a與按壓輥32之間。
搬送輥31還具有凸緣狀部31b。凸緣狀部31b是在兩個搬送輥31中的圓柱部31a的、彼此位於X方向外側的端部以直徑變大的方式設置的部分。凸緣狀部31b可抵接於翹曲經矯正後的基板W的沿著搬送方向Td的端部。優選的是，在寬度方向X上隔開地設置的一組搬送輥31的凸緣狀部31b使彼此的間隔與翹曲經矯正的基板W的寬度方向X的長度等同或者比其長。
進而，在搬送輥31，與其成同軸地沿著與搬送方向Td正交的寬度方向X而設有第一軸31c。在各組的兩個搬送輥31，在寬度方向X上隔開且彼此成同軸地分別設有兩根第一軸31c。第一軸31c的直徑比圓柱部31a細，且被固定於各組的兩個圓柱部31a的、彼此位於X方向外側的端面。多個第一軸31c例如藉由未圖示的具有斜齒輪(helical gear)的驅動機構而可同步旋轉地設置。各組的兩個搬送輥31均以相同的周速度受到旋轉驅動。
當第一軸31c旋轉時，被安裝於所述第一軸31c的各圓 柱部31a將第一軸31c作為旋轉的軸而旋轉。搬送輥31對凹面S1側的非圖案形成區域或者基板W的沿著搬送方向Td的端部進行支撐而沿搬送方向Td予以搬送。如圖2的(A)、圖2的(B)所示，在受到搬送的基板W中的寬度方向X的中央附近的下部，成為無第一軸31c的狀態。
另外，當基板W的翹曲得到矯正時，俯視時的基板W的寬度方向X的長度將變長。因此，搬送輥31的圓柱部31a的軸方向的長度ax被設定為與基板W在俯視時的寬度方向X的長度的變化對應的長度。即，設為可支撐從具有翹曲的狀態下的基板W的端部直至翹曲經矯正的狀態的基板W的端部為止的長度。
例如，優選的是，將圓柱部31a的軸方向的長度ax(參照圖2的(A)及圖2的(B))設為因翹曲的矯正而基板W的沿著搬送方向Td的端部所移動的距離以上。更具體而言，將長度ax設為如下所述的長度。
若設：矯正前的基板W在俯視時的寬度方向X的長度：Lo
經矯正的基板W在俯視時的寬度方向X的長度：La，則：{(La-Lo)/2}≦ax
而且，圓柱部31a的長度設為圓柱部31a不會接觸到經矯正的基板W的圖案形成區域的長度。例如，優選的是，若設從經矯正的基板W的緣部直至圖案形成區域的緣部為止的、在俯視 時的寬度方向X上的長度為pa(參照圖2的(B))，則ax≦pa。
因而，圓柱部31a的軸方向的長度ax優選為如下。
{(La-Lo)/2}≦ax≦pa 式1
(按壓輥的具體結構)
按壓輥32是將寬度方向X設為軸的圓形。如圖2的(A)所示，按壓輥32以抵接於基板W的凸面S2的中央的方式，在各搬送輥31的上方且與位於成組的兩個搬送輥31之間的空間的寬度方向X的中央相向地設置。在按壓輥32，成同軸地設有第二軸32a。第二軸32a是與第一軸31c平行地配置。第二軸32a的直徑比按壓輥32細，且遍及超過基板W的寬度方向X的長度，而在矯正室21、處理室22內，例如藉由未圖示的具有正齒輪(spur gear)的驅動機構可同步旋轉地設置。
當第二軸32a旋轉時，安裝於所述第二軸32a的按壓輥32一邊按壓凸面S2，一邊將第二軸32a作為旋轉軸而旋轉。搬送輥31與按壓輥32均被控制成，以相同的周速度受到旋轉驅動。而且，藉由改變搬送輥31的第一軸31c與按壓輥32的第二軸32a的隔開距離，能夠如上述那樣改變每組搬送輥31以及按壓輥32的隔開距離。
[流體供給部]
如圖1所示，在處理室22設有流體供給部40。流體供給部40對於通過了矯正室21的基板W，從隔開的各組搬送輥31之間 供給流體。流體供給部40具有液體噴射部41以及氣體噴吹部42。
(液體噴射部)
液體噴射部41對在搬送路徑T上移動的基板W的處理面噴射供給處理液。液體噴射部41被設置成，不妨礙基板搬送裝置30對基板W的搬送，夾著搬送路徑T而隔開地與基板W相向。另外，在液體噴射部41與搬送路徑T之間沒有軸或輥等。例如，當藉由液體噴射部41朝向搬送路徑T噴射處理液時，處理液被供給至在搬送路徑T上移動的基板W的凹面S1。對於處理液，對應於每個目標處理而適用清洗液、剝離液、顯影液、淋洗液(純水等)。
更具體而言，作為液體噴射部41，例如能夠使用具有多個貫穿孔的噴淋管(shower pipe)或者包括多個噴嘴的管。本實施方式的液體噴射部41如圖2的(B)所示，在沿著寬度方向X而配置的管設有多個噴嘴41a。液體噴射部41如圖1以及圖2的(B)所示，在搬送輥31的下方，以其長邊方向與寬度方向X變得平行的方式而沿著搬送方向Td排列配置有多個。對於所搬送的基板W的處理面，從噴嘴41a的噴出口呈噴淋狀供給處理液。即，噴嘴41a對於基板W的下表面，朝上噴出處理液。
(氣體噴吹部)
氣體噴吹部42對於在搬送路徑T上移動的基板W，例如噴吹供給空氣或氮氣之類的乾燥用的氣體。氣體噴吹部42被設置成，不妨礙基板搬送裝置30對基板W的搬送，夾著搬送路徑T而隔開地與基板W相向。另外，在氣體噴吹部42與搬送路徑T 之間，沒有軸或輥等。氣體噴吹部42朝向通過搬送路徑T的基板W高壓地噴吹氣體，將附著於基板W的清洗液吹走而使基板W的處理面乾燥。
例如，如圖1以及圖2的(B)所示，氣體噴吹部42是具有比翹曲經矯正的基板W的寬度La長的狹縫狀的噴吹口42a的氣刀(air knife)。氣體噴吹部42被設置成，從噴吹口42a朝向搬送方向Td的上游側噴吹氣體，將附著於基板W的液體吹走。
[控制部]
如圖1所示，控制部50是對基板搬送裝置30、流體供給部40等基板處理裝置10的各部進行控制的電腦，具有記憶與基板搬送及基板處理相關的各種資訊及程式等的記憶部、以及執行各種程式的處理器。
[動作]
接下來說明基板處理裝置10的動作。另外，以下的動作是對基板W進行矯正並利用清洗液來進行清洗並予以乾燥的動作的一例。如上所述，基板處理裝置10中，基板搬送裝置30的各搬送輥31以及各按壓輥32同步地旋轉，各搬送輥31上的基板W沿搬送方向Td受到搬送而沿著搬送路徑T移動，通過矯正室21、處理室22。
當圖1以及圖2的(A)所示的翹曲的基板W以其凹面S1側由搬送輥31予以支撐的方式被插入至矯正室21內時，藉由旋轉的各搬送輥31而沿搬送方向Td受到搬送，從而沿著搬送路 徑T移動。在矯正室21中，越往搬送方向Td的下游側，每組搬送輥31以及按壓輥32的隔開距離變得越短。因此，隨著基板W的移動，翹曲的基板W的下游側(前端側)的上表面即凸面S2依次接觸至各按壓輥32，基板W由各按壓輥32朝向下方逐漸按壓。
當基板W的下游側的凸面S2由各按壓輥32逐漸按壓時，基板W的上游側的凸面S2也靠近各按壓輥32而抵接，因此由各按壓輥32予以按壓。這樣，當翹曲的基板W沿著搬送路徑T移動時，從基板W的下游側開始逐漸被矯正為平坦的狀態。經矯正的基板W由隔開距離H為固定的組的搬送輥31與按壓輥32所夾持，就這樣以平坦的狀態被搬送至接下來的處理室22。
在處理室22中，處於由各液體噴射部41從搬送路徑T的下方預先供給有清洗液的液體供給狀態。當基板W以平坦的狀態受到搬送而通過所述處於液體供給狀態的區域時，基板W的下表面被供給清洗液而受到清洗。從基板W落下的清洗液流經處理室22的底面而從排出口排出。
進而，在處理室22中，由氣體噴吹部42從搬送路徑T的下方預先供給有乾燥用的氣體。當基板W以平坦的狀態受到搬送而通過所述處於氣體供給狀態的區域時，附著於基板W下表面的處理液藉由氣體的噴吹而被吹走，基板W變得乾燥。從基板W被吹走的處理液流經處理室22的底面而從排出口排出。
[效果]
(1)本實施方式是一種基板搬送裝置30，搬送具有翹曲的基板W，所述基板搬送裝置30包括：多個搬送輥31，具有支撐基板W的凹面S1側的圓柱部31a，藉由圓柱部31a以軸為中心旋轉，從而搬送基板W；第一軸31c，與搬送輥31成同軸地，沿著與基板W的搬送方向Td正交的寬度方向X而設；按壓輥32，按壓基板W的凸面S2；以及第二軸32a，與按壓輥32成同軸地設置。
搬送輥31是將在寬度方向X上隔開地設置的兩個作為一組，而沿搬送方向Td配置有多組搬送輥31，在各組的兩個搬送輥31，設有在寬度方向X上隔開的兩根第一軸31c，搬送輥31與按壓輥32的隔開距離具有沿著搬送方向Td而變短的部分。
而且，本實施方式是一種基板處理裝置10，具有設有基板搬送裝置30的矯正室21與處理室22，其中，在矯正室21中，具有搬送輥31與按壓輥32的隔開距離H沿著搬送方向Td而變短的部分，處理室22具有流體供給部40，所述流體供給部40對於通過了矯正室21的基板W，從隔開的各組搬送輥31之間供給流體。
本實施方式中，每組搬送輥31以及按壓輥32的隔開距離H具有沿著搬送方向Td而變短的部分。即，具有越往下游側而隔開距離H變得越短的部分。由此，翹曲的基板W由各按壓輥32予以按壓，以使翹曲量逐漸減小，因此與將翹曲的基板W藉由各按壓輥32來強制性地以翹曲量急遽減小的方式按入而抑制基板W 的翹曲的情況相比，能夠抑制基板W的損傷。因而，能夠抑制基板W的品質下降。
而且，基板W藉由各按壓輥32而被矯正為平坦的狀態，就這樣以平坦的狀態通過供給流體的區域。即，對平坦的狀態的基板W進行清洗處理或乾燥處理。由此，容易均勻地對基板W的處理面供給處理液或乾燥用的氣體，因此能夠均勻地處理基板W。因而，能夠抑制基板W上的清洗不均或乾燥不均的發生，因此能夠提高基板W的品質。例如，在從氣刀等狹縫狀的開口部對基板W的寬度方向X的整體噴出流體等的情況下，供給位置與基板W為止的距離遍及寬度方向X的整體而為固定，因此能夠防止處理不均。
進而，假設遍及基板W的寬度方向X的整體而設有軸，則從流體供給部40供給的流體會碰到軸，或者產生到達不了基板W的部分，從而無法均勻地供給至基板W，妨礙基板W的有效率的處理。但是，本實施方式中，在處理面側，搬送輥31以及第一軸31c是在寬度方向X上隔開地設置，因此可防止從流體供給部40供給的流體被搬送輥31或第一軸31c遮擋。因此，能夠將流體均勻地噴到處理面，因此能夠實現均勻的處理，從而能夠提高基板W的品質。
(2)圓柱部31a的軸方向的長度為藉由翹曲的矯正而基板W的端部所移動的距離以上。因此，無論是具有翹曲的基板W的端部，還是翹曲經矯正的基板W的端部，均能防止其偏離圓柱 部31a的支撐。
(3)搬送輥31還具有可與基板W的沿著搬送方向Td的緣部抵接的凸緣狀部31b。因此，在因基板W的翹曲受到矯正而基板W在寬度方向X上展寬的情況下，由於基板W的緣部被凸緣狀部31b限制，因此可防止基板W在寬度方向X上大幅偏離。
[第二實施方式]
參照圖4來說明第二實施方式。另外，本實施方式的結構基本上與第一實施方式同樣，因此對與第一實施方式的不同點進行說明，而省略其他說明。
本實施方式的基板搬送裝置30在矯正室21中，在寬度方向X上隔開地設置的兩個搬送輥31彼此的隔開距離D具有沿著搬送方向Td而逐漸變長的部分。另外，只要僅在搬送輥31與按壓輥32的隔開距離逐漸變短的部分，各組搬送輥31的隔開距離逐漸變長即可，在矯正室21中的矯正後，進而在隨後的處理室22中，基板W已為平板狀，因此搬送輥31的隔開距離D設為固定。
隔開距離D優選設為如下。
若設：矯正前的基板W在俯視時的寬度方向X的長度：Lo
經矯正的基板W在俯視時的寬度方向X的長度：La
最小的隔開距離Dmin
最大的隔開距離Dmax， 則Dmin<Lo 式2
Dmax<La 式3
而且，若設各組搬送輥31的凸緣狀部31b的隔開距離為d，則優選設為如下。
凸緣狀部31b的最小的隔開間隔dmin
凸緣狀部31b的最大的隔開間隔dmax
dmin≧Lo 式4
dmax≧La 式5
並且，圓柱部31a的軸方向的長度ax無須考慮因翹曲的矯正引起的基板W的端部的移動，只要為能夠支撐基板W的端部的長度即可。
如上所述，本實施方式的基板搬送裝置30中，各組中的兩個搬送輥31彼此在寬度方向X上的隔開距離D具有沿著基板W的搬送方向Td而變大的部分。這樣，藉由按壓輥32對基板W的翹曲矯正，搬送輥31的隔開距離D變寬，由此，能夠支撐基板W的端部。即，無須考慮基板W的端部的移動來設定搬送輥31的圓柱部31a的長度，因此比起第一實施方式，能夠縮短圓柱部31a的長度，防止搬送輥31接觸到圖案形成區域，從而能夠抑制基板W的品質下降。第一實施方式中，從經矯正的基板W的緣部直至圖案形成區域的緣部為止的、在俯視時的寬度方向X上的長度即pa的長度比搬送輥31的圓柱部31a的軸方向的長度ax長是 必需條件，但在本實施方式中，不論pa的長度如何，均能夠搬送基板W並矯正基板W的翹曲。
[第三實施方式]
參照圖5以及圖6的(A)及圖6的(B)來說明第三實施方式。另外，本實施方式的結構基本上與第一實施方式同樣，因此對與第一實施方式的不同點進行說明，而省略其他的說明。
如圖5所示，本實施方式的基板搬送裝置30中，搬送輥31被設置成，藉由被基板W的端部施力而能夠移動。本實施方式的矯正室21的搬送輥31在被翹曲經矯正的基板W的端部從搬送路徑T推向外側時，朝外側移動。即，因所搬送的基板W的翹曲得到矯正而被基板W的端部施力，從而各組的兩個搬送輥31彼此的隔開距離D擴大。
圖6的(A)及圖6的(B)表示此種搬送輥31的結構的一例。即，在第一軸31c設有固定部311。固定部311為圓筒形狀的構件，插通至第一軸31c的搬送路徑T側的端部而固定。固定部311在搬送路徑T側具有直徑小的小徑部311a，在外側具有直徑大的大徑部311b。
搬送輥31包含可動部312。可動部312具有圓柱部312a、凸緣狀部312b及端面312c。圓柱部312a是在內部形成有收容固定部311的空間的中空構件。凸緣狀部312b與所述的凸緣狀部31b同樣地，是圓柱部312a的與搬送路徑T為相反側的端部的直徑變大的部分。端面312c是以縮窄圓柱部312a的搬送路徑T側的端 部的開口的方式，而在中央形成有貫穿孔的環狀構件。固定部311的小徑部311a被插通至端面312c的貫穿孔。由此，可動部312可沿著固定部311的外周而沿軸方向移動。
在搬送輥31的端面312c的內側和與其相向的大徑部311b的端面之間，設有施力構件313。施力構件313是朝搬送路徑T側對搬送輥31施力的構件，沿著小徑部311a的圓周方向而設有多個。作為施力構件313，例如能夠使用壓縮磁碟簧等的彈性體。如圖6的(B)所示，當由翹曲經矯正的基板W的端部朝外側對凸緣狀部312b施力時，搬送輥31朝外側移動而施力構件313受到壓縮。如圖6的(A)所示，當凸緣狀部312b從基板W的端部釋放時，藉由施力構件313的施加力，搬送輥31朝搬送路徑T側恢復。
如圖5所示，關於移動的搬送輥31的最小的隔開距離Dmin、最大的隔開距離Dmax、凸緣狀部312b的最小的隔開間隔dmin、凸緣狀部312b的最大的隔開間隔dmax與所述第二實施方式同樣。而且，與第二實施方式同樣地，圓柱部312a的軸方向的長度不需要考慮因翹曲的矯正引起的基板W的端部的移動，只要為能夠支撐基板W的端部的長度即可。
隨著基板W被按壓輥32矯正而展寬，搬送輥31朝外側移動，因此施力構件313成為壓縮的狀態而支撐基板W的端部。通過了矯正室21的基板W被搬送至處理室22，如上述那樣接受處理。另外，只要僅在搬送輥31與按壓輥32的隔開距離逐漸變 短的部分，搬送輥31設置成可移動即可，在矯正室21中的矯正後，進而在隨後的處理室22中，基板W已為平板狀，因此也可為搬送輥31不會移動的結構。
在如上所述的本實施方式中，可獲得與第二實施方式同樣的效果。而且，由於搬送輥31隨著基板W的展寬而移動，因此與第二實施方式相比，凸緣狀部312b容易抵接於基板W的端部，從而能夠更穩定地搬送基板W。而且，能夠降低基板W的端部接觸至圓柱部312a的表面而滑動的情況，因此能夠抑制基板W的劃傷或損傷。進而，各組的兩個搬送輥31由施力構件313朝搬送路徑T側施力，因此能夠使基板W對齊寬度方向X的中央而防止位置偏離。因此，基板W相對於流體供給部40的流體供給位置的偏離降低，能夠抑制基板W的品質下降。
[第四實施方式]
參照圖7以及圖8來說明第四實施方式。另外，本實施方式的結構基本上與第一實施方式同樣，因此對與第一實施方式的不同點進行說明，而省略其他的說明。
本實施方式的基板搬送裝置30具有導輥314。導輥314被設在沿基板W的搬送方向Td排列的多個第一軸31c之間，且被設置成，藉由被基板W的沿著搬送方向Td的端部施力而可移動。即，導輥314被經矯正而展寬的基板W的端部推著朝外側移動。而且，搬送輥31僅具有圓柱部31a，而不具備凸緣狀部31b。
如圖8所示，導輥314包含支柱部314a、輥部314b及引 導部314c。支柱部314a是沿鉛垂方向豎立的圓柱形狀的構件。輥部314b是供支柱部314a的上端插通的圓筒形狀的構件。輥部314b不具有驅動部，而經由軸承安裝於支柱部314a，由此設置成，能夠以鉛垂方向為軸而轉動。輥部314b被設在其外周與在搬送路徑T上受到搬送的基板W的端部接觸/分離的位置。
引導部314c可沿寬度方向X滑動移動地支撐支柱部314a的下端。作為引導部314c，例如可使用滑塊沿著導軌移動的線性導軌(linear guide)。另外，雖未圖示，但在引導部314c，設有朝搬送路徑T側對支柱部314a施力的施力構件。作為施力構件，例如可使用壓縮磁碟簧等的彈性體。
當輥部314b被翹曲經矯正的基板W的端部朝外側施力時，支柱部314a朝外側移動而施力構件受到壓縮。當輥部314b從基板W的端部釋放時，藉由施力構件的施加力，輥部314b朝搬送路徑T側恢復。
如上所述的本實施方式中，可獲得與第三實施方式同樣的效果。尤其，輥部314b由施力構件朝搬送路徑T側施力，因此能夠使基板W對齊寬度方向X的中央而防止位置偏離。另外，處理室22的搬送輥31也可與第一實施方式同樣，設為具有圓柱部31a與凸緣狀部31b而不移動的結構。
[其他實施方式]
(1)作為使搬送輥31與按壓輥32的隔開距離H沿著搬送方向Td而逐漸接近的結構，並不限定於所述的形態。可藉由改變 每組第一軸31c與第二軸32a的間隔、改變按壓輥32的直徑、改變被安裝於按壓輥32的O型環的厚度等，可調節隔開距離H。而且，按壓輥32未必需要由驅動機構來驅動，也可為從動於基板W的移動而旋轉的結構。
(2)所述的形態中，按壓輥32在與搬送方向Td正交的寬度方向X上設為一個，但並不限於此，也可設有多個。例如，在與各搬送輥31相向的位置，各設置一個按壓輥32，由此，能夠順暢地進行翹曲的矯正。而且，按壓輥32也可採用平坦型的輥。
(3)所述的形態中，關於搬送輥31與按壓輥32的隔開距離，是逐列地逐漸變小，但也可構成為，在包含將兩列以上的相同隔開距離者排列而成的組的狀態下逐漸變小。
(4)也可將皮帶繞掛於按壓輥32，構成為像輥式輸送器那樣。藉由採用此種結構，與僅使用按壓輥32的情況相比，相對於基板W的翹曲而接觸的面積增加，因此既能進一步抑制對基板W造成損傷的現象，又能矯正基板W的翹曲。
(5)也可設置對基板W的翹曲量進行測定的測定部、使各按壓輥32升降的移動機構，根據由測定部所測定出的基板W的翹曲量來調整各組搬送輥31以及按壓輥32的隔開距離。例如，在由測定部所測定出的基板W的翹曲量大於規定值的情況下，根據它們的差來藉由移動機構使按壓輥32上升，使位於搬送方向Td的最上游的一組搬送輥31以及按壓輥32的隔開距離大於所測定出的基板W的翹曲量，並與此配合地，也調整其他組的搬送輥 31以及按壓輥32的隔開距離，以藉由各按壓輥32來逐漸按壓翹曲的基板W。
與此相反，在由測定部所測定出的基板W的翹曲量小於規定值的情況下，根據它們的差，使位於搬送方向Td的最上游的一組搬送輥31以及按壓輥32的隔開距離接近所測定出的基板W的翹曲量(為翹曲量以上這一條件下)，並與此配合地，也調整其他組的搬送輥31以及按壓輥32的隔開距離，以藉由各按壓輥32來逐漸按壓翹曲的基板W。
(6)所述的形態中，例示了在不同的室內進行矯正與處理的情況，但並不限於此。也可在共同的室內進行矯正與處理。即，在所述的形態中，在矯正室21的下游設有處理室22，但如圖9所示，也可在相同的矯正室21進行矯正與處理。此時，在接受來自流體供給部40的流體供給的部分，基板W也已經矯正而成為平板狀，因此能夠進行均勻的清洗，乾燥。
(7)作為流體供給部40，除了所述的呈噴淋狀地噴出處理液的噴嘴、氣刀以外，也可為水刀(aqua knife)等，而且，只要是噴出流體的工具，則所使用的工具並無特別限定。進而，也可將所述的多種工具組合使用。而且，流體供給部40也可設在基板W的搬送路徑T的上方，對基板W的凸面S2(未形成有圖案P的非圖案形成面)供給處理用的流體。此時，藉由利用所述方法來矯正基板W，從而在利用氣刀或水刀的處理時，也能夠將噴出口與基板W的非圖案形成面的距離設為固定，因而能夠較佳地進 行處理。而且，也可在上下兩方設置流體供給部40，對基板W的兩面進行處理。
而且，在所述流體供給部40的噴嘴從基板W的下側進行噴出的情況下，當朝垂直方向(從圖1的紙面右側朝向左側的方向、從圖2的(A)及圖2的(B)的紙面下側朝向上側的方向)噴出時，經由了基板W的處理液會掛在噴嘴上，而導致噴嘴自身受到污染。為了防止此現象，有效的是，使噴嘴的噴出方向從垂直方向傾斜規定角度而噴出。此時，噴出方向的傾斜角度理想的是設為如下所述的範圍，即，所噴出的處理液經由基板W而落下的位置不會碰到鄰接的噴嘴的噴出口。而且，如上所述，在使多個噴嘴的噴出方向傾斜的情況下，藉由使在搬送方向Td上鄰接的噴嘴的組朝彼此相對的方向傾斜地配置，從而能夠使碰到基板W後的處理液落到朝彼此相對的方向傾斜的組的噴嘴之間，而防止噴嘴的污染。而且，從相對的噴嘴噴出的處理液在基板W上相互碰撞，使處理液落到噴嘴之間，由此，能夠防止噴嘴的污染。進而，在沿搬送方向Td排列的噴嘴的個數為奇數的情況下，也可使處理室22的入口附近的噴嘴的噴出方向朝向處理室22外傾斜。
(8)所述的形態中，作為基板處理裝置10的處理，例示了對基板W進行清洗、乾燥的處理，但處理並不限於此。為了製造液晶基板或半導體基板、光掩模等，例如也可使用抗蝕劑處理裝置、曝光處理裝置、顯影處理裝置、蝕刻處理裝置、剝離處理裝置。與此相應地，作為處理液，可使用各種藥液。
(9)所述的形態中，例示了以水準狀態來搬送基板W的情況，但並不限於此，也可使基板W傾斜而以傾斜狀態來搬送，例如也可使基板W的寬度方向X的一端高於另一端而傾斜地搬送基板W。
(10)所述的形態中，以四周存在翹曲的基板W(四周具有翹曲的基板W)為物件進行了說明，但並不限於此，例如即便是在矩形的任意兩邊、三邊存在翹曲的基板，也能夠適用本發明。而且，按壓輥32也可沿著X方向設置多個。而且，也可沿著搬送方向Td設置多個按壓輥32。由此，例如具有翹曲的邊越多的基板W，藉由將為了矯正翹曲而進行按壓的部位分散在多個部位，從而能夠越適當地矯正翹曲。
(11)所述的形態中，如圖1所示，構成為，支撐搬送輥31與按壓輥32的第一軸31c與第二軸32a在俯視時重合，但也可在搬送方向Td上錯開地設置。此時也優選設為彼此平行的狀態。
(12)以上，對本發明的若干實施方式進行了說明，但該些實施方式是作為示例而提示，並不意圖限定發明的範圍。這些新穎的實施方式能以其他的各種形態來實施，在不脫離發明主旨的範圍內可進行各種省略、替換、變更。這些實施方式或其變形包含在發明的範圍或主旨內，並且包含在權利要求書所記載的發明及其均等的範圍內。
10:基板處理裝置
21:矯正室
22:處理室
30:基板搬送裝置
31:搬送輥
31a、312a:圓柱部
31c:第一軸
32:按壓輥
32a:第二軸
40:流體供給部
41:液體噴射部
41a:噴嘴
42:氣體噴吹部
42a:噴吹口
50:控制部
H:隔開距離
T:搬送路徑
Td:搬送方向
W:基板

Claims (7)

  1. 一種基板搬送裝置，搬送具有翹曲的基板，所述基板搬送裝置包括：多個搬送輥，具有從凹面側支撐所述基板的圓柱部，藉由所述圓柱部以軸為中心旋轉，從而搬送所述基板；第一軸，與所述搬送輥成同軸地，沿著與所述基板的搬送方向正交的寬度方向而設；按壓輥，按壓所述基板的凸面；以及第二軸，與所述按壓輥成同軸地設置，其中所述搬送輥是將在所述寬度方向上隔開地設置的兩個作為一組，而沿所述搬送方向配置有多組，在各組的兩個所述搬送輥，設有在所述寬度方向上隔開的兩根所述第一軸，所述按壓輥是在各組的兩個所述搬送輥之間的空間的所述寬度方向的中央部分相向地設置，及在垂直方向的所述搬送輥與所述按壓輥的隔開距離具有沿著所述搬送方向而變短的部分。
  2. 如請求項1所述的基板搬送裝置，其中所述圓柱部的軸方向的長度為藉由翹曲的矯正而所述基板的端部所移動的距離以上。
  3. 如請求項1或請求項2所述的基板搬送裝置，其中所述搬送輥還具有能夠與所述基板的沿著搬送方向的端部抵 接的凸緣狀部。
  4. 如請求項1或請求項2所述的基板搬送裝置，其中各組中的兩個搬送輥彼此在所述寬度方向上的隔開距離具有沿著所述基板的搬送方向而變大的部分。
  5. 一種基板搬送裝置，搬送具有翹曲的基板，所述基板搬送裝置包括：多個搬送輥，具有從凹面側支撐所述基板的圓柱部，藉由所述圓柱部以軸為中心旋轉，從而搬送所述基板；第一軸，與所述搬送輥成同軸地，沿著與所述基板的搬送方向正交的寬度方向而設；按壓輥，按壓所述基板的凸面；以及第二軸，與所述按壓輥成同軸地設置，其中所述搬送輥是將在所述寬度方向上隔開地設置的兩個作為一組，而沿所述搬送方向配置有多組，在各組的兩個所述搬送輥，設有在所述寬度方向上隔開的兩根所述第一軸，所述搬送輥與所述按壓輥的隔開距離具有沿著所述搬送方向而變短的部分，及所述搬送輥被設置成，藉由被所述基板的端部施力而能夠移動。
  6. 一種基板搬送裝置，搬送具有翹曲的基板，所述基板搬送裝置包括： 多個搬送輥，具有從凹面側支撐所述基板的圓柱部，藉由所述圓柱部以軸為中心旋轉，從而搬送所述基板；第一軸，與所述搬送輥成同軸地，沿著與所述基板的搬送方向正交的寬度方向而設；按壓輥，按壓所述基板的凸面；第二軸，與所述按壓輥成同軸地設置；以及導輥，所述導輥被設在沿所述基板的搬送方向排列的多個所述第一軸間，藉由被所述基板的沿著所述搬送方向的端部施力而能夠移動，其中所述搬送輥是將在所述寬度方向上隔開地設置的兩個作為一組，而沿所述搬送方向配置有多組，在各組的兩個所述搬送輥，設有在所述寬度方向上隔開的兩根所述第一軸，及所述搬送輥與所述按壓輥的隔開距離具有沿著所述搬送方向而變短的部分。
  7. 一種基板處理裝置，具有矯正室與處理室，所述矯正室設有如請求項1至6中任一項所述的基板搬送裝置，其中所述矯正室具有所述搬送輥與所述按壓輥的隔開距離沿著所述搬送方向而變短的部分，所述處理室具有流體供給部，所述流體供給部對於通過了所述矯正室的所述基板，從隔開的各組搬送輥之間供給流體。
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