JP4974587B2 - 処理装置 - Google Patents
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Description
図1から図5を参照して、本発明に基づく実施の形態1における処理装置について説明する。本実施の形態における処理装置は、被処理基板の主表面に対してプラズマ処理を行なうための装置である。
図6から図8を参照して、本発明に基づく実施の形態2における処理装置について説明する。図6は、本実施の形態における処理装置の概略断面図である。図7は、図6におけるVII−VII線に関する矢視断面図である。図8は、図6におけるVIII−VIII線に関する矢視断面図である。
図9および図10を参照して、本発明に基づく実施の形態3における処理装置について説明する。図9は、本実施の形態における処理装置の概略断面図である。図10は、図9におけるX−X線に関する矢視断面図である。処理装置が、被処理基板を処理するための処理ユニットを複数備えることは、実施の形態2における処理装置と同様である。本実施の形態における処理装置は、搬送コロの他に補助コロを備える。
Claims (3)
- 被処理基板を搬送するための搬送コロと、
前記搬送コロを回転可能に支持するためのシャフトと、
前記被処理基板に対して処理を行なうための処理ユニットと、
設置面から立設するように形成された第1のベース部材と第2のベース部材と
を備え、
前記処理ユニットは、前記搬送コロによって前記被処理基板が搬送されるときに処理を行なうように配置され、
前記シャフトおよび前記処理ユニットの各々の一端は、共通の一の前記第1のベース部材に直接支持されており、
前記シャフトおよび前記処理ユニットの各々の他端は、共通の一の前記第2のベース部材に直接支持されており、
前記シャフトおよび前記処理ユニットの各々は、前記第1のベース部材および前記第2のベース部材の間を渡されている、処理装置。 - 前記第1のベース部材および前記第2のベース部材に支持された、前記処理ユニットとは異なる中間支持部材を備え、
前記シャフトは、両側の端部を避けた部分が前記中間支持部材に支持された、請求項1に記載の処理装置。 - 複数の前記処理ユニットと、
複数の前記シャフトと
を備え、
複数の前記処理ユニットの各々と複数の前記シャフトの各々との一端は、共通の一の前記第1のベース部材に直接支持されており、
複数の前記処理ユニットの各々と複数の前記シャフトの各々との他端は、共通の一の前記第2のベース部材に直接支持されている、
複数の前記処理ユニットの各々および複数の前記シャフトの各々は、前記第1のベース部材および前記第2のベース部材の間を渡されている、請求項1に記載の処理装置。
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