JP4641168B2 - 基板の処理装置 - Google Patents

Description

この発明は処理槽内を搬送される基板をたとえば薬液などの処理液で処理する基板の処理装置に関する。

たとえば液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、基板としてのガラス基板や半導体ウエハをエッチング処理したり、エッチング後にマスクとして使用されたレジストの剥離処理をしたり、エッチングや剥離処理が行なわれた基板を洗浄処理するという工程がある。このような基板の処理工程では、基板を一枚ずつ搬送しながら処理する枚葉方式が採用されている。

枚葉方式によって基板を処理する場合、基板を搬送しながらその上下面或いは上面にシャワ−ノズルから処理液を噴射して処理する処理装置が知られている。この処理装置は処理槽を有する。処理槽内には上記基板の搬送方向に沿って搬送ローラを有する搬送軸が所定間隔で回転駆動可能に設けられている。したがって、上記基板は回転駆動される搬送軸に設けられた搬送ローラによって処理槽内を搬送されるようになっている。

処理槽内で基板を処理液によって処理すると、基板に噴射された処理液がミスト状となってチャンバ内を浮遊する。チャンバ内を浮遊するミスト状の処理液は、処理後の基板に付着し、基板を汚染する原因となる。とくに洗浄処理された基板にミスト状の処理液が付着すると、品質の低下や不良品の発生を招くということがあり、好ましくない。そこで、処理槽には排気ダクトを接続し、チャンバ内に生じるミスト状の処理液を含む雰囲気を排気する構成となっている。

従来、処理槽は耐薬品性を備えた材料、たとえば塩化ビニルなどの合成樹脂製の板材によって箱型状に形成されている。そして、処理槽はその大きさに応じて板材の厚さを変え、その板材によってたとえば処理槽内で生じる雰囲気の流れによる加わる風圧などに対し、損傷することのない剛性を持たせるようにしていた。つまり、処理槽は単体で使用に耐え得る剛性を備えるようにしていた。

ところで、最近では上記基板の大型化が著しく、液晶表示装置に用いられる基板の場合、２ｍ角以上の大きさになることがある。基板が大型化すれば、それに応じて処理槽も大型化させなければならない。処理槽を大型化する場合、この処理槽に単体で使用に耐え得る剛性を備えるためには板材の厚さを数十ｍｍの厚さにしなければならない。

しかしながら、処理槽を構成する板材を厚くして剛性を備えるようにすると、処理槽の高重量化を招くことになるから、工場からの出荷時などの取り扱いが困難になるということがある。しかも、処理槽を形成する板材の面積が大きくなるため、その板材を厚くしても、十分な剛性が得難く、処理槽内に生じる気流などの影響を受けて変形を繰り返し、板材相互の接続部分が損傷する虞がある。

この発明は、処理槽が大型化しても、板材を厚くすることなく剛性を備えることができるようにした基板の処理装置を提供することにある。

この発明は、基板を処理するための処理装置であって、
板材によって上面が開口した箱型状に形成され一側面に上記基板の搬入口、他側面に搬出口が形成された処理槽と、
上記処理槽の上部の外周面に沿って一体的に設けられこの処理槽を形成する板材を補強する補強フレームと、
この補強フレームに取り付けられ上記処理槽の上面開口を開閉する蓋部材を具備し、
上記処理槽は平面形状が矩形状であって、上記補強フレームは、上記処理槽の外周面の角部に設けられる４本の角筒状の支柱部材と、上記処理槽の４つの外面の上部に設けられ両端部が各角部に位置する上記支柱部材に連結されて上記処理槽と対応する矩形枠状をなした４本の角筒状の横部材とによって構成されていて、
上記処理槽の上部の内周面には全周にわたって吸引ダクトが一体的に設けられ、この吸引ダクトの上記基板の搬送方向と交差する方向に対応する部分のそれぞれの内面には上記処理槽内の雰囲気を吸引する複数の吸引口が形成され、この吸引口から吸引された処理槽内の雰囲気は上記吸引ダクトに接続された排気ダクトによって排出される構成であることを特徴とする基板の処理装置にある。

上記処理槽の上記搬入口と搬出口が形成された幅方向と交差する前後方向の両端部の底部には、クリーンルーム内の架台を構成する受け部材に係合する段部が上記幅方向の全長にわたって形成されていて、
上記補強フレームの上記支柱部材の下端は上記受け部材に取付け固定されることが好ましい。

上記吸引ダクトには複数の上記吸引口が形成されていて、各吸引口は開度調整可能な構成であることが好ましい。

この発明によれば、処理槽を形成する板材を補強フレームで補強するようにしたから、大型の処理槽であっても、板材を厚くして高重量化を招くことなく、剛性を高めることが可能となる。

以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
図１はこの発明の処理装置の概略的構成を示す斜視図であって、この処理装置は処理槽１を備えている。処理槽１は、たとえば塩化ビニルなどの合成樹脂製の板材によって上面が開口し平面形状が矩形状をなした箱型状に形成されている。

つまり、処理槽１は、図３に示す基板Ｗの搬送方向に位置する第１の側板１ａと第２の側板１ｂ、これら側板１ａ，１ｂと交差する方向に位置する前板１ｃと後板１ｄ及び底板１ｅとによって上述した箱型状に形成されている。

上記処理槽１の第１の側板１ａと第２の側板１ｂとには、それぞれスリット状の搬入口２と搬出口３とが上記基板Ｗの搬送方向と交差する前後方向に対して所定の角度で傾斜して形成されている。この実施の形態では上記搬入口２と搬出口３は処理槽１の後方から前方に向かって低く傾斜して形成されている。

上記底板１ｅの上記前後方向の両端部にはそれぞれ段部４が形成されている。処理槽１をクリーンルーム内に設置する際、クリーンルーム内の架台を構成する受け部材５（図１に鎖線で示す）に上記段部４を係合させる。それによって、処理槽１を上記受け部材５に安定した状態で設置できるようになっている。

上記処理槽１の外面には補強フレーム７が設けられる。この補強フレーム７は、アルミニウムなどの軽量な金属によって角筒状に形成された４本の支柱部材８を有する。各支柱部材８は上記処理槽１の角部に配置されている。隣り合う角部に配置された一対の支柱部材８の上部には、同じくアルミニウムなどの金属によって角筒状に形成された４本の横部材９が両端を連結して設けられている。

各横部材９は、それぞれ第１、第２の側板１ａ，１ｂ、前板１ｃ及び後板１ｄの上部外面に一側面を接触させ、その側面を図示しないねじで各板に連結固定している。それによって、処理槽１と補強フレーム７とは一体化され、処理槽１の第１、第２の側板１ａ，１ｂ、前板１ｃ及び後板１ｄは上記補強フレーム７によって補強されている。

なお、上記支柱部材８は下端が上記受け部材５に取り付け固定される。それによって、補強フレーム７と受け部材５とが一体化され、補強フレーム７の剛性が高まるから、補強フレーム７による処理槽１の補強強度も向上することになる。

つまり、処理槽１は、この処理槽１を構成する第１、第２の側板１ａ，１ｂ、前板１ｃ、後板１ｄ及び底板１ｅを厚くしなくとも、上記補強フレーム７によって剛性を備えることができるようになっている。

上記処理槽１の内周面の上部には、角筒状の部材を矩形枠状に配置した吸引ダクト１１が設けられている。図２は吸引ダクト１１を実線で示し、処理槽１を鎖線で示している。図３は処理槽１を前後方向に対して直交する横方向に沿う縦断面で、上記吸引ダクト１１は補強フレーム７を形成する横部材９よりも断面形状が大きな角筒状をなしている。

上記吸引ダクト１１は、たとえば処理槽１と同じ塩化ビニルなどの材料によって形成されていて、その外周面を第１、第２の側板１ａ，１ｂ、前板１ｃ及び後板１ｄの内面に接触させ、図示せぬねじなどで固定されている。

処理槽１の内周面の上部に、この処理槽１と一体的に吸引ダクト１１を設けることで、この吸引ダクト１１によって処理槽１は補強される。そのことによっても、処理槽１は第１、第２の側板１ａ，１ｂ、前板１ｃ及び後板１ｄを厚くせずに、剛性を備えることができる。

図２に示すように、上記吸引ダクト１１の上記前板１ｃと上記後板１ｄとに対応する部分の内面には、それぞれ一対の吸引口１２が所定間隔で開口形成されている。各吸引口１２はスライド弁１３によって開度が設定できるようになっている。

上記吸引ダクト１１の上記後板１ｄの内面に設けられた部分には外部から排気ダクト１４が接続されている。この排気ダクト１４は図示せぬ排気ファンに接続されている。排気ファンが作動すれば、上記処理槽１内の雰囲気が上記吸引ダクト１１に形成された吸引口１２から吸引されて排気される。

吸引ダクト１１の上記前板１ｃと上記後板１ｄとに対応する部分にはそれぞれスライド弁１３によって開度調整可能な一対の吸引口１２が処理槽１の左右方向に所定間隔で形成されている。したがって、各吸引口１２の開度を調整すれば、処理槽１内の雰囲気を、この処理槽１内の前後方向及び左右方向からほぼ均一に排気することができるようになっている。

上記吸引ダクト１１の内面には、処理槽１の幅方向中央に前後方向に沿って断面Ｕ字状の支持部材１５が架設されている。上記処理槽１の第１の側板１ａと第２の側板１ｂとの外面に設けられた上記補強フレーム７の一対の横部材９の上面にはそれぞれ蓋部材１６が一端部をヒンジ１７によって回動可能に連結されている。

図３に示すように、各蓋部材１６の他端部はＬ字状に折曲された係合部１８に形成されていて、この上記係合部１８は蓋部材１６をほぼ水平に倒伏させると、上記支持部材１５に係合して上記処理槽１の上面開口を気密に閉塞するようになっている。蓋部材１６の上面には把手１９が設けられ、この蓋部材１６を開閉するときに用いられる。

蓋部材１６は補強フレーム７の横部材９に取り付けられている。そのため、蓋部材１６を開閉することで発生するモーメントは上記横部材９が受け、処理槽１の第１、第２の側板１ａ，１ｂに加わることがないから、その分、第１、第２の側板１ａ，１ｂを厚くせずにすむ。

図３に示すように、上記処理槽１内には、搬送ローラ２１が軸方向に所定間隔で設けられた搬送軸２２が処理槽１の前後方向に沿って設けられている。この搬送軸２２は、上記搬入口２及び搬出口の傾斜角度に対応する角度で傾斜して回転可能に支持されている。各搬送軸２２は図示しない駆動機構によって回転駆動される。

それによって、上記搬送軸２２を回転駆動すれば、上記搬入口２から処理槽１内に搬入された基板Ｗは上記搬送軸２２に設けられた搬送ローラ２１によって処理槽１の前後方向に対して傾斜して搬送され、上記搬出口３から搬出される。基板Ｗは処理槽１内を搬送される間に、この処理槽１内の基板Ｗの上面側に設けられた図示しないシャワーノズルから噴射される処理液によって処理されるようになっている。

このように構成された処理装置によれば、処理槽１を単体では高い剛性を得ることができない厚さの合成樹脂製の板材によって形成しても、この処理槽１は補強フレーム７によって補強されている。つまり、第１、第２の側板１ａ，１ｂ、前板１ｃ及び後板１ｄの外面の上部外面に、４本の支柱部材８によって矩形枠状に連結された横部材９をそれぞれ固定するようにした。

そのため、処理槽１を形成する板材を厚くすることなく、補強フレーム７によって所定の剛性を持たせることができるから、処理槽１の高重量化を招くことなく、第１、第２の側板１ａ，１ｂ、前板１及び後板１ｄの剛性を高めることができる。

上記補強フレーム７の支柱部材８と横部材９とはアルミニウムによって角筒状に形成されている。そのため、軽量であるにも係わらず、高い剛性を備えているから、そのことによっても、高重量化を招くことなく、処理槽１の剛性を高めることができる。

上記補強フレーム７の支柱部材８を処理装置が設置される架台の受け部材５に固定したため、この受け部材５によって補強フレーム７の剛性を高めることができる。補強フレーム７の剛性を高めることができれば、この補強フレーム７による処理槽１の補強も確実となる。

処理槽１の上部開口を開閉する蓋部材１６を上記補強フレーム７の横部材９に取り付けるようにした。そのため、蓋部材１６を開閉する際に生じるモーメントが処理槽１に直接加わることがないから、その分、処理槽１を形成する板材を薄くすることが可能となる。

しかも、蓋部材１６の荷重の一部又は全部を補強フレーム７で支持するようにしているので、処理槽１に蓋部材１６の荷重がほとんど加わらない。そのため、処理槽１を形成する板材を薄くすることが可能である。

処理槽１の上部の内周面全体に吸引ダクト１１を上記処理槽１と一体的に設けたので、この吸引ダクト１１によっても処理槽１を補強することができるから、それによっても処理槽１を形成する板材を薄くすることが可能となる。

吸引ダクト１１には、処理槽１の前板１ｃと後板１ｄとに対応する部分にそれぞれスライド弁１２によって開度調整が可能な一対の吸引口１２を形成し、処理槽１内の雰囲気を吸引口１２を通じて排気ダクト１４へ排出するようにした。

４つの吸引口１２は処理槽１の前後方向と左右方向とに分かれて形成されている。そのため、各吸引口１２の開度をそれぞれ設定することで、処理槽１内の雰囲気を前後左右方向から均一に排出することができる。

すなわち、処理槽１内の雰囲気を全体にわたって均一に排出できることで、基板Ｗを処理液で処理したときに処理槽１内にミストが発生しても、そのミストを処理槽１内に滞留させることなく排出することが可能となる。それによって、処理槽１内で処理された基板Ｗにミストが付着し、汚れの原因になるのを防止できる。

この発明は上記一実施の形態に限定されず、たとえば処理槽を形成する板材は合成樹脂に限られず、耐蝕性を有する金属で形成された板材であってもよい。また、補強フレームは４本の支柱部材と横部材とで形成したが、支柱部材の数は５本以上であってもよく、たとえば処理槽１の前板と後板との幅方向中央部にそれぞれ支柱部材を設けることで、６本としてもよい。

また、上記一実施の形態では蓋部材１６が一端部をヒンジ１７によって回動可能に連結されるようにしたが、蓋部材の一部又は全部を補強フレームで支持する構成であればよい。

この発明の一実施の形態を示す処理装置の斜視図。 吸引ダクトを実線で示し、処理槽を鎖線で示した処理装置の斜視図。 基板の搬送方向に沿う処理装置の縦断面図。 蓋部材の一部を残して破断した処理装置の平面図。

符号の説明

１…処理槽、２…搬入口、３…搬出口、５…受け部材、７…補強フレーム、８…支柱部材９…横部材、１１…吸引ダクト、１２…吸引口、１３…スライド弁、１４…排気ダクト、１５…支持部材、１６…蓋部材。

Claims (2)

1. 基板を処理するための処理装置であって、
   板材によって上面が開口した箱型状に形成され一側面に上記基板の搬入口、他側面に搬出口が形成された処理槽と、
   上記処理槽の上部の外周面に沿って一体的に設けられこの処理槽を形成する板材を補強する補強フレームと、
   この補強フレームに取り付けられ上記処理槽の上面開口を開閉する蓋部材を具備し、
   上記処理槽は平面形状が矩形状であって、上記補強フレームは、上記処理槽の外周面の角部に設けられる４本の角筒状の支柱部材と、上記処理槽の４つの外面の上部に設けられ両端部が各角部に位置する上記支柱部材に連結されて上記処理槽と対応する矩形枠状をなした４本の角筒状の横部材とによって構成されていて、
   上記処理槽の上部の内周面には全周にわたって吸引ダクトが一体的に設けられ、この吸引ダクトの上記基板の搬送方向と交差する方向に対応する部分のそれぞれの内面には上記処理槽内の雰囲気を吸引する複数の吸引口が形成され、この吸引口から吸引された処理槽内の雰囲気は上記吸引ダクトに接続された排気ダクトによって排出される構成であることを特徴とする基板の処理装置。
2. 上記処理槽の上記搬入口と搬出口が形成された幅方向と交差する前後方向の両端部の底
   部には、クリーンルーム内の架台を構成する受け部材に係合する段部が上記幅方向の全長
   にわたって形成されていて、
   上記補強フレームの上記支柱部材の下端は上記受け部材に取付け固定されることを特徴
   とする請求項１記載の基板の処理装置。

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