JPH03284386A

JPH03284386A - 洗浄用処理槽

Info

Publication number: JPH03284386A
Application number: JP8082690A
Authority: JP
Inventors: Hisaaki Miyasako; 久顕宮迫; Harumichi Hirose; 広瀬　治道; Hitoshi Sato; 均佐藤; Choichi Kimura; 木村　長市
Original assignee: Shibaura Engineering Works Co Ltd
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 1990-03-30
Filing date: 1990-03-30
Publication date: 1991-12-16

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、液晶表示素子に使用するガラス基板やシリコ
ンウェハー、セラミックチップ（以下、基板という）等
を洗浄する洗浄ラインあるいは現像する現像ライン等に
設けられた洗浄用処理槽に関する。

（従来の技術）従来、例えば液晶表示素子には基板（ガラス基板）が使
用されており、この基板にゴミ、ケバなどの不純物が付
着していると製造工程のすべてにおいて予期しないトラ
ブル（例えば液晶分子の配向むら、シール不良、セグメ
ント電極とコモン電極間の短絡等）の原因となる。

このため、従来では液晶表示素子の製造工程の最初に例
えば第４図に示すような洗浄ラインを設けて基板の洗浄
を行なっている。

すなわち、矢印ａ方向よりラインへ搬入された基板は、
ますローダｂによりシャワー室Ｃへ搬入されて基板表面
に処理液（洗剤液）がかけられ、次にブラシ洗浄室ｄで
ブラシにより洗浄された後、液切室ｅで基板に付着した
処理液の液切りが、例えば冷風等を利用して行なわれる
。

その後、ジェット洗浄室ｆで純水等のジェット流により
洗浄され、さらにシャワー室ｇ、超音波洗浄室りを経て
乾燥室ｉで乾燥された後、アンローダｊにより乾燥室１
より搬出されるようになっている。

また、現像ラインにおいては、現像後の基板が洗浄用処
理槽（シャワー室）で洗浄されるようになっている。尚
、上記各処理槽（各室）の配列等は顧客により興なる場
合がある。

また、上記洗浄ライン、現像ラインのシャワー室などに
は第５図に示すような処理槽ｋが設けられている。

上記処理槽には上面が開口していて、開口部は開閉自在
な蓋体１により閉鎖されていると共に、処理槽に内には
洗浄すべき基板ｍを搬送する搬送装置ｎと、その上下方
向に基板ｍへ向けて処理液を噴出するシャワーノズル０
（このシャワーノズル０は上側だけの場合もある）が設
けられている。

（発明が解決しようとする課題）上記従来の処理槽にでは、開口部を閉塞する蓋体１が平
板状をなしていて、かつ水平に開口部上に載置されてい
るため、シャワーノズル。より噴出した処理液の一部が
蓋体１の内面に付着して、これが水滴となって基板ｍ上
へ落下するため、この水滴により基板ｍ上に処理むらが
発生して基板ｍの品質低下や不良品の発生の原因となる
不具合があった。

本発明は、上記不具合を解消するためになされたもので
、蓋体に付着した処理液が水滴となって基板上へ落下す
ることのない洗浄用処理槽を提供することを目的とする
ものである。

（課題を解決するための手段）本発明は、上記目的を達成するために、上面に開閉自在
な蓋体が設けられた処理槽内に、洗浄すべき基板を搬送
する搬送装置と、上記基板に向けて処理液を吹きかける
シャワーノズルとを設け、上記蓋体の取付面を上記基板
面に対して傾斜するように構成しである。また、蓋体の
内側に、波板により形成された内蓋を上記波板の山及び
谷が上記蓋体の傾斜方向と平行になるように設けた構成
にしである。

（作用）蓋体の取付面を基板面に対して傾斜するようにする。こ
とにより、蓋体内面に付着した処理液は、蓋体の傾斜に
沿って最下部側へ移動し、搬送装置の側方へ落下するの
で、水滴が基板上へ滴下することがない。

また、蓋体の内側に内蓋を設けた場合は処理液は内蓋に
付着後、内蓋の山に沿って集められた後、傾斜に沿って
移動するようになる。

（実施例）以下、本発明の実施例を第１図乃至第３図を参照して詳
述する。

第１図は洗浄ラインまたは現像ラインに設けられた処理
槽ｌの断面図であり、処理槽１内には基板２の搬送装置
３が設置されている。

上記搬送装置３は図示しない駆動源により回転される多
数の回転軸３ａが搬送方向と直交する方向に設けられて
いて、これら回転軸３ａに基板２を搬送するローラ３ｂ
が取付けられている。

また、上記搬送装置３の上方及び下方には搬送波ｆ３に
より搬送される基板２に向けて上下方向より処理液を吹
きかけることにより、基板２を洗浄するシャワーノズル
４が設けられている。

一方、上記処理槽１は上面が開口していて、開口縁部の
一側部が低くなるように傾斜されており、この開口縁部
には、開口縁に沿って凹溝１ａが全周に亘って形成され
ている。

そして、この凹溝１ａに蓋体５の外周縁に折曲げ形成さ
れたフランジ５ａが嵌合されるようになっている。

上記蓋体５は平板より形成されていて、外周縁に設けら
れたフランジ５ａを処理槽１上面の凹溝１ａ内に上方よ
り嵌入すると、この蓋体の表面は、基板面に対して傾斜
されるようになっており、蓋体５の最下部側には下方へ
向けて液切板５ｂが突設されている。

次に作用を説明すると、搬送装置３により処理槽１内へ
搬入された基板２は、シャワーノズル４より基板２に向
けて噴出される処理液により洗浄されるが、このときシ
ャワーノズル４より噴出された処理液の一部が蓋体５の
内側にも付着する。

しかし、蓋体５は基板面に対して傾斜しているため、蓋
体５に付着した水滴５ｃは傾斜に沿って最下部側へ移動
し、最下部に設けられた液切板５ｂにより搬送装置３の
側方に落下されるため、基板２上に水滴５Ｃが落下する
のを防止することができる。

一方、第２図及び第３図は処理槽１の別の実施例を示す
もので、次にこれを説明すると、処理槽１の開口部を閉
鎖する蓋体５の内側に蓋体５と平行になるよう内Ｍ６が
設けられている。

この内１１６は第３図に示すようにアクリル樹脂により
成形された波板よりなり、波板の山６ａ及び谷６ｂが傾
斜方向と平行になるように両端部が処理槽１の内面に突
設された取付片ＩＣに上方より係止されている。

これによって、処理液は内１１６表面に付着すると共に
、付着した処理液の水滴５Ｃは、下面の山６ａ部分に集
められた後、傾斜に沿って最下部側へ移動し、搬送装置
３の側方へ落下する。

（発明の効果）本発明は、以上詳述したように、処理槽上面の蓋体の取
付面を基板面に対して傾斜するようにし、蓋体により閉
鎖したことから、シャワーノズルより噴出された処理液
の一部が蓋体内面に付着しても、傾斜に沿って蓋体の最
下部側へ移動するため、基板上へ滴となって落下するこ
とがない。

これによって基板に処理むらが発生して、品質を低下さ
せたり、不良品の原因となるなどの不具合を解消するこ
とができる。

また、蓋体の内側に波板状の内蓋を取付けることにより
、内蓋に付着した処理液は内蓋の山部に集められた後、
傾斜に沿って移動するため、内蓋に付着した処理液を上
記平板の場合に比し効率よく搬送装置の側方へ落下させ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す洗浄用処理槽の断面図
、第２図は本発明の他の実施例を示す洗浄用処理槽の断
面図、第３図は第２図１−１［線に沿う断面図、第４図
は洗浄ラインを示す説明図、第５図は従来の処理槽の断
面図である。１・・・処理槽、　　２・・・基板、３・・・搬送装置、　４・・・シャワーノズル、５・・
・蓋体、６・・・内蓋。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）上面に開閉自在な蓋体が設けられた処理槽内に、
洗浄すべき基板を搬送する搬送装置と、上記基板に向け
て処理液を吹きかけるシャワーノズルとを設け、上記蓋
体の取付面を上記基板面に対して傾斜するようにして設
けてなる洗浄用処理槽。
（２）蓋体の内側に、波板により形成された内蓋を上記
波板の山及び谷が上記蓋体の傾斜方向と平行になるよう
に設けてなる請求項１記載の洗浄用処理槽。