JPS61249581A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPS61249581A JPS61249581A JP60090997A JP9099785A JPS61249581A JP S61249581 A JPS61249581 A JP S61249581A JP 60090997 A JP60090997 A JP 60090997A JP 9099785 A JP9099785 A JP 9099785A JP S61249581 A JPS61249581 A JP S61249581A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaned
- container
- cleaning liquid
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフォトマスクジ２ンク、フオトマスク等および
これらのガラス基板等の被洗浄物を洗浄する洗浄装置に
関し、特に浸漬法によって洗浄された被洗浄物を次工程
に搬送すると共にこの搬送中においても被洗浄物を洗浄
し、表面を乾燥させないようにした洗浄装置に関するも
のである。
これらのガラス基板等の被洗浄物を洗浄する洗浄装置に
関し、特に浸漬法によって洗浄された被洗浄物を次工程
に搬送すると共にこの搬送中においても被洗浄物を洗浄
し、表面を乾燥させないようにした洗浄装置に関するも
のである。
従来、この種の洗浄装置としては第５図に示すものが知
られている。すなわち、この洗浄装置１は、複数個の被
洗浄物（例えばフォトマスクブランク）２を板厚方向に
所定の間隙をおいて略垂直に収納する容器３と、この容
器３を着脱自在に保持する容器保持部４と、この容器保
持部４を前記容器３と共に搬送する搬送部５を備え、前
記容器３を洗浄槽６内の洗浄液（例えば純水）Ｔ中に浸
漬し、かつ前記搬送部５の上下動によシ該容器３を容器
保持部４と共に上下に移動させながら前記被洗浄物２を
所要時間洗浄するもので、洗浄後は洗浄液Ｔから容器３
を取シ出して次の洗浄槽（図示せず）に移し、同様の洗
浄を行うようにしている。
られている。すなわち、この洗浄装置１は、複数個の被
洗浄物（例えばフォトマスクブランク）２を板厚方向に
所定の間隙をおいて略垂直に収納する容器３と、この容
器３を着脱自在に保持する容器保持部４と、この容器保
持部４を前記容器３と共に搬送する搬送部５を備え、前
記容器３を洗浄槽６内の洗浄液（例えば純水）Ｔ中に浸
漬し、かつ前記搬送部５の上下動によシ該容器３を容器
保持部４と共に上下に移動させながら前記被洗浄物２を
所要時間洗浄するもので、洗浄後は洗浄液Ｔから容器３
を取シ出して次の洗浄槽（図示せず）に移し、同様の洗
浄を行うようにしている。
しかるに従来のこの種の洗浄装置においては、第１の洗
浄槽から第２の洗浄槽へ被洗浄物２を移送するとき、一
度は大気中に被洗浄物が出るため、洗浄槽間の移送距離
、移送時間により、被洗浄物に付着している洗浄液が乾
いたシ装置内のダストが被洗浄物に付着し、被洗浄物の
表面を汚すという問題があった。
浄槽から第２の洗浄槽へ被洗浄物２を移送するとき、一
度は大気中に被洗浄物が出るため、洗浄槽間の移送距離
、移送時間により、被洗浄物に付着している洗浄液が乾
いたシ装置内のダストが被洗浄物に付着し、被洗浄物の
表面を汚すという問題があった。
すなわち、次の洗浄槽へ移送するときに、未だ除去され
ていない汚物、異物が存在している部分が乾いてしまっ
た）、装置内のダストを取シ込んで乾いてしまうと、次
工程で洗浄しても容易に除去できず汚れとして残ってし
まうものである。
ていない汚物、異物が存在している部分が乾いてしまっ
た）、装置内のダストを取シ込んで乾いてしまうと、次
工程で洗浄しても容易に除去できず汚れとして残ってし
まうものである。
本発明に係る洗浄装置は上述したような問題を解決すべ
くなされたもので、被洗浄物を収容する容器を保持する
ための容器保持部と、この容器保持部を前記容器と共に
搬送する搬送部とを備え、前記容器内の前記被洗浄物を
洗浄する洗浄装置において、前記被洗浄物に向けて洗浄
液を噴射する洗浄液噴射手段を前記容器保持部もしくは
前記搬送部に配設したものである。
くなされたもので、被洗浄物を収容する容器を保持する
ための容器保持部と、この容器保持部を前記容器と共に
搬送する搬送部とを備え、前記容器内の前記被洗浄物を
洗浄する洗浄装置において、前記被洗浄物に向けて洗浄
液を噴射する洗浄液噴射手段を前記容器保持部もしくは
前記搬送部に配設したものである。
本発明においては容器保持部もしくは搬送部に洗浄液噴
射手段を設けているので、搬送中においても被洗浄物を
洗浄することができ、被洗浄物表面の乾きを防止して未
だ除去されず付着している汚物、異物を除去でき、また
ダス゛トの付着を防止する。
射手段を設けているので、搬送中においても被洗浄物を
洗浄することができ、被洗浄物表面の乾きを防止して未
だ除去されず付着している汚物、異物を除去でき、また
ダス゛トの付着を防止する。
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明に係る洗浄装置の一実施例を示す浸漬洗
浄状態の正面図、第２図は第１図■−■線断面図である
。これらの図において、複数個の被洗浄物２を収容する
容器３を容器保持部４で保持し、この容器保持部４を前
記容器３と共に搬送部５によって搬送する構造、および
容器３を洗浄槽６内の洗浄液Ｔ中に浸漬し、かつ容器３
を上下動させて被洗浄物２を洗浄し、その後洗浄槽６の
上方に容器３を取り出して次の洗浄槽に移送する手順は
従来と全く同様である。
浄状態の正面図、第２図は第１図■−■線断面図である
。これらの図において、複数個の被洗浄物２を収容する
容器３を容器保持部４で保持し、この容器保持部４を前
記容器３と共に搬送部５によって搬送する構造、および
容器３を洗浄槽６内の洗浄液Ｔ中に浸漬し、かつ容器３
を上下動させて被洗浄物２を洗浄し、その後洗浄槽６の
上方に容器３を取り出して次の洗浄槽に移送する手順は
従来と全く同様である。
ここで、第５図に示した従来装置と異なる点は、第３図
および第４図に示すように容器３の移送中において該容
器３内の被洗浄物２に向けて洗浄液（例えば純水）８を
噴射し、該被洗浄物２を洗浄する洗浄液噴射手段１０を
配設した点にある。前記洗浄液噴射手Ｒ１０は、前記容
器保持部４間に横架されたパイプ１１と、このパイプ１
１の下面側に該パイプ１１の長手方向に適宜な間隔をお
いて取付けられた複数個（本実施例では３つの場合を示
す）の噴射ノズル１２と、パイプ１１の一端に接続され
た配管１３を備え、前記洗浄液８が図示しないポンプに
よシ前記配管１３を介して前記パイプ１１に供給される
ように構成されている。
および第４図に示すように容器３の移送中において該容
器３内の被洗浄物２に向けて洗浄液（例えば純水）８を
噴射し、該被洗浄物２を洗浄する洗浄液噴射手段１０を
配設した点にある。前記洗浄液噴射手Ｒ１０は、前記容
器保持部４間に横架されたパイプ１１と、このパイプ１
１の下面側に該パイプ１１の長手方向に適宜な間隔をお
いて取付けられた複数個（本実施例では３つの場合を示
す）の噴射ノズル１２と、パイプ１１の一端に接続され
た配管１３を備え、前記洗浄液８が図示しないポンプに
よシ前記配管１３を介して前記パイプ１１に供給される
ように構成されている。
前記パイプ１１の他端は前記容器保持部４によって閉塞
されている。前記噴射ノズル１２は前記パイプ１１に形
成されたねじ孔（図示せず）にねじ込まれるかもしくは
溶接等によって該パイプ１１に取付けられ、噴射角度θ
１．θ、（例えばθ１、θ。
されている。前記噴射ノズル１２は前記パイプ１１に形
成されたねじ孔（図示せず）にねじ込まれるかもしくは
溶接等によって該パイプ１１に取付けられ、噴射角度θ
１．θ、（例えばθ１、θ。
共に３０’程度）で洗浄ｖＬａを噴射するように構成さ
れている。この場合、噴射角度θ１、θ、は、洗浄液噴
射手段１０の取付は高さ、ノズル数、ノズル間隔等によ
っても異なるが、要は容器３全体に洗浄ｗＬ８を噴射す
るに十分な角度であればよい。
れている。この場合、噴射角度θ１、θ、は、洗浄液噴
射手段１０の取付は高さ、ノズル数、ノズル間隔等によ
っても異なるが、要は容器３全体に洗浄ｗＬ８を噴射す
るに十分な角度であればよい。
なお、前記配管１３は搬送部５と一体的に移動される。
かくしてこのような構成からなる洗浄装置によれば、洗
浄槽６から容器３を取シ出した後火の洗浄槽に移動する
過程において洗浄液噴射手段１０から噴射される洗浄液
８で被洗浄物２を洗浄しているので、洗浄液Ｔによって
洗浄されず被洗浄物２に未だ付着している汚物、異物等
を確実に取シ除くことができ、また被洗浄物２０表面が
乾くことがないので、ダスト等が付着することもなく、
したがって移送中における被洗浄物２の汚れを防止する
ことができる。
浄槽６から容器３を取シ出した後火の洗浄槽に移動する
過程において洗浄液噴射手段１０から噴射される洗浄液
８で被洗浄物２を洗浄しているので、洗浄液Ｔによって
洗浄されず被洗浄物２に未だ付着している汚物、異物等
を確実に取シ除くことができ、また被洗浄物２０表面が
乾くことがないので、ダスト等が付着することもなく、
したがって移送中における被洗浄物２の汚れを防止する
ことができる。
なお、本実施例では噴射ノズル１２を３個取付ける場合
について説明したが、不発明はこの数に何ら特定される
ものではなく、被洗浄物２の大きさ１個数等に応じて最
も効果的に洗浄し得る数であれによい。また１本実施例
は噴射ノズル１２をパイプ１１に取付けたが、単にパイ
プ１１に小孔を複数個設け、これらの孔から洗浄液８を
噴射させてもよい。
について説明したが、不発明はこの数に何ら特定される
ものではなく、被洗浄物２の大きさ１個数等に応じて最
も効果的に洗浄し得る数であれによい。また１本実施例
は噴射ノズル１２をパイプ１１に取付けたが、単にパイ
プ１１に小孔を複数個設け、これらの孔から洗浄液８を
噴射させてもよい。
また、本実施例においては、洗浄槽６による第ｌの浸漬
洗浄工程と次の洗浄槽による第２の浸漬洗浄工程とが同
一の洗浄液を用いているので、洗浄液噴射手段１０から
噴射される洗浄液８も同じものを用いたが、前記第１お
よび第２の浸漬洗浄工程とが異なる洗浄液を使用すると
き、例えば第１の浸漬洗浄工程が純水、第２の浸漬洗浄
工程がアルコールのときは、被洗浄物２が搬送部５によ
って第２の洗浄槽上に移送されるまでは純水を噴射ノズ
ル１２から噴射し、該第２の洗浄槽上に到達したときは
、アルコールを噴射するようにするとよい。このように
すれば、第２の浸漬洗浄工程において被洗浄物を洗浄槽
内のアルコールに浸漬する前に、該被洗浄物をアルコー
ルになじませておくことができるので、よシ洗浄効果を
上げることができる。なお、このとき噴射される洗浄液
（純水とアルコール）を、別々の洗浄液噴射手段から噴
射させてもよい。すなわち、一つのパイプからは純水を
噴射し、この一つのパイプに並列的に取シ付けられたも
う一つのパイプからはアルコールを噴射することである
。また、このときそれぞれのパイプに取シ付けられた噴
射ノズルからの洗浄液は、このパイプの中心線を中心と
して該パイプを回転すれば、良好に被洗浄物に噴射され
るようになる。また、洗浄液噴射手段１０による洗浄液
８の噴射開始時期は、容器３を洗浄槽６内の洗浄ＩＩＩ
！Ｔから出しはじめた時からが望ましく、そうすること
によシ被洗浄物２にダスト等が付着する機会をよシ少な
くすることができる。
洗浄工程と次の洗浄槽による第２の浸漬洗浄工程とが同
一の洗浄液を用いているので、洗浄液噴射手段１０から
噴射される洗浄液８も同じものを用いたが、前記第１お
よび第２の浸漬洗浄工程とが異なる洗浄液を使用すると
き、例えば第１の浸漬洗浄工程が純水、第２の浸漬洗浄
工程がアルコールのときは、被洗浄物２が搬送部５によ
って第２の洗浄槽上に移送されるまでは純水を噴射ノズ
ル１２から噴射し、該第２の洗浄槽上に到達したときは
、アルコールを噴射するようにするとよい。このように
すれば、第２の浸漬洗浄工程において被洗浄物を洗浄槽
内のアルコールに浸漬する前に、該被洗浄物をアルコー
ルになじませておくことができるので、よシ洗浄効果を
上げることができる。なお、このとき噴射される洗浄液
（純水とアルコール）を、別々の洗浄液噴射手段から噴
射させてもよい。すなわち、一つのパイプからは純水を
噴射し、この一つのパイプに並列的に取シ付けられたも
う一つのパイプからはアルコールを噴射することである
。また、このときそれぞれのパイプに取シ付けられた噴
射ノズルからの洗浄液は、このパイプの中心線を中心と
して該パイプを回転すれば、良好に被洗浄物に噴射され
るようになる。また、洗浄液噴射手段１０による洗浄液
８の噴射開始時期は、容器３を洗浄槽６内の洗浄ＩＩＩ
！Ｔから出しはじめた時からが望ましく、そうすること
によシ被洗浄物２にダスト等が付着する機会をよシ少な
くすることができる。
また、上記実施例は洗浄液噴射手段１０を容器保持部４
に配設したが、搬送部５に取付けてもよいことは勿論で
ある。
に配設したが、搬送部５に取付けてもよいことは勿論で
ある。
以上述べたように本発明に係る洗浄装置は容器内に収納
され洗浄槽間の移動期間中における被洗浄物を、前記容
器の容器保持部もしくは搬送部に配設した洗浄液噴射手
段から噴射される洗浄液で洗浄するように構成したので
、未だ除去されず被洗浄物に付着している汚物、異物等
を除去でき、また被洗浄物の表面が乾燥しないためダス
トが付着することもなく、シたがって搬送中における被
洗浄物の汚れを確実に防止でき、フォトマスク。
され洗浄槽間の移動期間中における被洗浄物を、前記容
器の容器保持部もしくは搬送部に配設した洗浄液噴射手
段から噴射される洗浄液で洗浄するように構成したので
、未だ除去されず被洗浄物に付着している汚物、異物等
を除去でき、また被洗浄物の表面が乾燥しないためダス
トが付着することもなく、シたがって搬送中における被
洗浄物の汚れを確実に防止でき、フォトマスク。
マスクブランク、ガラス基板等の洗浄に好適である。
第１図は本発明に係る洗浄装置の一実施例を示す浸漬洗
浄状態の正面図、第２図は第１図■−■線断面図、第３
図は同装置の搬送中の洗浄状態を示す一部破断正面図、
第４図は第３図ＩＶ−ｆｆ線断百図、第５図は洗浄装置
の従来例を示す断面図である。 ２・・・・被洗浄物、３・・・・容器、４・・・・容器
保持部、５・・・・搬送部、６・・・・洗浄槽、７．８
・・・・洗浄液、１０・・・・洗浄液噴射手段、１１・
拳・−パイプ、１２・・・Φ噴射ノズル、１３・・・・
配管。
浄状態の正面図、第２図は第１図■−■線断面図、第３
図は同装置の搬送中の洗浄状態を示す一部破断正面図、
第４図は第３図ＩＶ−ｆｆ線断百図、第５図は洗浄装置
の従来例を示す断面図である。 ２・・・・被洗浄物、３・・・・容器、４・・・・容器
保持部、５・・・・搬送部、６・・・・洗浄槽、７．８
・・・・洗浄液、１０・・・・洗浄液噴射手段、１１・
拳・−パイプ、１２・・・Φ噴射ノズル、１３・・・・
配管。
Claims (1)
- 被洗浄物を収容する容器を保持するための容器保持部
と、この容器保持部を前記容器と共に搬送する搬送部と
を備え、前記容器内の前記被洗浄物を洗浄する洗浄装置
において、前記被洗浄物に向けて洗浄液を噴射する洗浄
液噴射手段を前記容器保持部もしくは前記搬送部に配設
したことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60090997A JPS61249581A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60090997A JPS61249581A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61249581A true JPS61249581A (ja) | 1986-11-06 |
Family
ID=14014137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60090997A Pending JPS61249581A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61249581A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62189732A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-19 | Rohm Co Ltd | 半導体ウエハ用洗浄装置 |
| JPS63301526A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-08 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | 基板の液切り方法 |
| JPH0320030A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-29 | Matsushita Electron Corp | ウェハ洗浄方法 |
| JPH03283535A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Tokyo Electron Ltd | ウエット洗浄装置 |
| JPH0536662A (ja) * | 1991-08-01 | 1993-02-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエハ洗浄方法及び装置 |
| JPH0568952A (ja) * | 1991-09-11 | 1993-03-23 | U S Chem:Kk | 被洗浄物の洗浄方法及び装置 |
| JP2012170850A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 表面処理設備 |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP60090997A patent/JPS61249581A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62189732A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-19 | Rohm Co Ltd | 半導体ウエハ用洗浄装置 |
| JPS63301526A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-08 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | 基板の液切り方法 |
| JPH0320030A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-29 | Matsushita Electron Corp | ウェハ洗浄方法 |
| JPH03283535A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Tokyo Electron Ltd | ウエット洗浄装置 |
| JPH0536662A (ja) * | 1991-08-01 | 1993-02-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエハ洗浄方法及び装置 |
| JPH0568952A (ja) * | 1991-09-11 | 1993-03-23 | U S Chem:Kk | 被洗浄物の洗浄方法及び装置 |
| JP2012170850A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 表面処理設備 |
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