KR940022733A - 기판처리장치 - Google Patents

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KR940022733A
KR940022733A KR1019940004721A KR19940004721A KR940022733A KR 940022733 A KR940022733 A KR 940022733A KR 1019940004721 A KR1019940004721 A KR 1019940004721A KR 19940004721 A KR19940004721 A KR 19940004721A KR 940022733 A KR940022733 A KR 940022733A
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마사시 사와무라
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이시다 아키라
다이닛뽕 스크린 세이조오 가부시키가이샤
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Abstract

기판처리장치는 다수매의 웨이퍼(W)를 순수중에 침지하는 로더(1)과 이면세정부(2), 표면세정부(3), 수세건조장치(4)와 반송장치(6)을 구비한다. 이면세정장치(2)는 로더(1)에서 꺼내진 웨이퍼(W)에 순수를 공급하는 것에 의해 웨이퍼(W)의 이면을 아래에서 브러쉬로 세정한다. 표면세정장치(3)는 이면세정장치(2)에 의해 세정후의 웨이퍼(W)에 순수를 공급하는 것에 의해, 웨이퍼(W)의 표면을 위에서 브러쉬로 세정한다. 수세건조장치(4)는 세정이 종료한 웨이퍼(W)를 수세한 후, 건조한다. 반송장치(6)는 로더(1), 이면세정장치(2), 표면세정장치(3) 및 수세건조장치(4)의 각각의 사이에 배치되며, 웨이퍼(W)에 순수를 공급하면서 웨이퍼(W)를 반송한다. 이것에 의해 웨이퍼(W)의 세정처리에서 웨이퍼(W)의 건조가 방지된다.

Description

기판처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일실시예에 따른 기판처리장치의 사시도.
제2도는 제1도의 종단면 개략도.
제3도는 로더(Loader)를 나타내는 부분 사시도.
제4도는 로더를 나타내는 종단면도.
제4a도는 수조를 나타내는 사시도.
제5도는 로더를 나타내는 평면도.
제6도는 반송장치의 평면도.
제7도는 반송장치의 측면도.
제8도는 다관절 로보트의 일부 절개 측면도.
제9도는 다관절 로보트의 일부 절개 평면도.
제10도는 다관절 로보트의 배관도.
제11도는 이면 세정장치의 부분사시도.
제12도는 제11도의 부분 종단면도.
제13도는 웨이퍼 파지 기구의 사시도.
제14도는 브러쉬 회전기구의 일부 절개사시도.
제15도는 표면세정장치의 부분 사시도.
제16도는 수세 및 건조장치의 부분사시도.
제17도는 이면세정장치의 변형예의 부분평면도.
제18도는 롤러의 변형예의 측면도이다.

Claims (24)

  1. 상단하단으로 기판을 수납하기 위한 기판수납부로부터 상기 기판을 회수하여, 공업용 기판을 준비하는 과정에서 복수 기판의 각각의 양측표면을 처리하기 위한 기판처리장치에 있어서, 기판면 처리액에 상기 기판수납부를 침지하기 위한 기판침지부와, 상기 기판수납부에의 회수된 기판상에 표면처리액을 공급하는 제1기판처리 프로세스를 행하기 위한 제1기판처리부와, 상기 기판침지부와 상기 제1기판처리부 사이에 배치되며, 상기 기판에 표면처리액을 공급하기 위한 제1표면처리액 공급수단을 포함하는 제1기판 반송부를 구비한 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판수납부는 상기 상하다단으로 상기 기판의 회수와 수납용 통로로서 측면개구를 가지는 하우징을 구비하며, 사익 기판침지부는, 상기 기판을 표면처리액을 수납하여 상기 기판수납부를 침지하기 위한 수조와, 상기 수조에서 침지시 상기 기판수납부를 상하로 이동하기 위한 수납부 상승수단과, 상기 기판침지부의 뒤쪽방향에서 기판저장 하우징의 상기 측면 개구에서 흐르는 상기 수조의 기판 표면처리액의 액면부근에서 수류를 형성하기 위한 수류형성수단을 구비하는 기판처리장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 수류형성수단은 높이조절 가능한 상기 수조상에 둑을 가지는 기판처리장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 기판침지부는 상기 기판표면처리액을 저류하여 상기 기판수납부를 침지하기 위한 수조와, 상기 수조에서 침지할시 상기 기판수납부를 상하로 이동하기 위한 수납부 승강수단을 구비하고, 상기 제1기판반송부는 상기 기판수납부 내로 침입하여, 상기 기판수납부에서 기판을 아래에서 지지하고 상기 기판수납부에 상하다단으로부터 단독으로 기판을 회수하기 위한 다관절 구조를 가지는 기판회수 수단을 수단인 기판처리장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 액공급수단은 상기 제1기판반송부에 의해 반송된 상기 기판이 건조하는 것을 방지하도록한 수단인 기판처리장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1기판반송부는, 상기 기판을 흡착하기 위한 흡착통로와, 상기 흡착통로에서 네가티브 압력을 발생하기 위한 상기 흡착통로와 연통하는 네가티브 압력발생수단과, 상기 네가티브 암력 발생 수단에 의해 발생된 네가티브 압력을 계측하기 위한 네가티브 압력계측수단과, 상기 흡착통로를 통해서 상기 네가티브 압력 계측수단내로 빨아들이어서 상기 네가티브 압력 발생수단과 상기 네가티브압력에 계측수단과 사이에 남아있는 기판표면처리액을 배제하기 위한 액배제수단을 더 구비하는 기판처리장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 액공급수단은 상기 기판에 순수를 분무하기 위한 분무노즐을 포함하는 기판처리장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 기판은 원형이고, 상기 분무노즐은 상기 기판보다 큰 구경을 가진 원뿔형으로 순수를 분사하도록한 기판처리장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제1기판처리부에서 상기 제1기판처리 프로세스로부터 회수된 기판상에 표면 처리액을 공급해서 제2기판처리 프로세스를 행하는 제2기판처리부와, 상기 제1 및 제2기판처리부 사이에 배치되고, 상기 제1기판처리 프로세스로부터 회수된 상기 기판에 표면처리액을 공급하기 위한 제2표면처리액 공급수단을 포함하는 제2기판반송부를 더 구비하는 기판처리장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제1기판처리부는 상기 기판의 이면을 세정하기 위한 장치이고, 상기 제2기판처리부는 상기 제1기판처리부에 의해 이면을 세정된 상기 기판의 상방으로부터 상기이면의 반대면의 표면을 세정하기 위한 장치인 기판처리장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 기판은 원형이고, 상기 제1기판처리부는, 측면에서 상기 기판을 파지하기 위한 기판파지수단과, 상기 기판파지수단에 파지된 기판의 이면에 맞닿아 있고 상기 기판의 주면을 회전중심축이 교차하도록 실장되는 원형브러쉬와, 상기 기판과 상기 원형브러쉬를 상대회전시키도록 한 회전수단과, 상기 기판과 상기 원형브러쉬를 상대적으로 요동시키는 요동수단을 구비하는 기판처리장치.
  12. 제10항에 있어서, 상기 기판은 원형이고, 상기 제1기판처리부는, 상기 기판 가장자리에 맞닿는 면과, 기판의 주면의 상방에서 기판중심 방향으로 향해서 경사지고 수평으로 서로 대향되어 있는 크램프를 가지고, 상기 기판의 이면 전면이 방해없이 하측으로 노출되도록 상기 기판의 가장자리에서 상기 기판을 파지하는 기판파지수단과 상기 파지수단에 의해 파지될 때 상기 기판의 이면을 세정하기 위한 원형브러쉬를 구성비하는 기판처리장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 크램프의 각각은 상기 기판을 파지하기 위해 하부에 기판과 같은 원통면의 일부를 형성하는 맞닿는면을 포함하는 기판처리장치.
  14. 제12항에 있어서, 상기 원형브러쉬는 상기 브러쉬의 중앙에서 순수분무노즐을 가지는 기판처리장치.
  15. 제10항에 있어서, 상기 기판은 원형이고, 상기 제1기판처리부는, 상기 기판 가장자리를 파지하기 위한 복수의 롤러와, 상기 롤러를 회전자유롭게 지지하는 지지부와, 상기 기판파지수단에 의해 파지될 때 상기 기판의 이면을 세정하는 원형브러쉬로 구성비하는 기판처리장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 원형브러쉬는 상기 브러쉬의 중앙에서 순수공급노즐을 가지는 기판처리장
  17. 제10항에 있어서, 상기 기판은 원형이고, 상기 제2기판처리부는, 상기 기판을 파지하기 위한 기판파지수단과, 상기 기판주면에 회저축이 교차하도록 배치된 회전암과, 상기 회전암에 장착되고, 상기 파지수단에 의해 파지될 때 기판의 주면에 맞닿을 수 있으며, 표면처리액을 배출하기 위한 중앙액출구를 가지는 원형브러쉬와, 상기 기판과 상기 원형브러쉬를 상대회전시키는 회전수단과, 상기 중앙액 출구에서 표시처리액을 흐르게하기 위한 액배출수단을 구비하는 기판처리장치.
  18. 제7항에 있어서, 상기 회전암은 상기 원형 브러쉬가 상기 기판의 주면을 따라서, 상기 기판의 중심에서 바깥가장자리로 이도하도록 회전하도록한 기판처리장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 회전수단은 상기 기판파지수단이 상기 기판의 주위에 상기 기판을 회전하고, 상기 원형브러쉬가 상기 브러쉬의 중심주위를 회전하도록 상기 기판 및 상기 원형브러쉬를 회전시키도록한 기판처리장치.
  20. 공업용으로 준비된 기판을 처리를 하기 위한 기판처리장치에 있어서, 표면처리액으로 기판을 세정하는 프로세스에서 기판을 처리하기 위한 기판처리수단과, 기판수납부에서 상기 기판처리수단으로 상기 기판을 반송하기 위한 내액(耐液)성을 가진 기판반송수단과, 상기 기판반송수단에 의해 반송중에 상기 기판이 건조되는 것을 방지하기 위해서 상기기판에 액을 공급하기 위한 액공급수단을 구비하는 기판처리장치.
  21. 제20항에 있어서, 상기 기판을 지지하기 위해 상기 내액성을 가진 기판반송 수단에 상기 기판을 흡착하는 네가티브압력을 가하도록 설치된 흡착경로와, 상기 흡착통로에서 네가티브 압력을 발생하기 위한 상기 흡착통로와 연통하는 네가티브 압력 발생수단과, 상기 네가티브압력 발생수단에 의해 생성되는 네가티브 압력을 계측하기 위한 네가티브 압력계측수단과, 상기 흡착통로를 통해서 상기 네가티브압력 계측수단내로 빨아들이어서, 상기 네가티브 압력 발생수단과 상기 네가티브 압력계측 수단사이에 남아 있는 기판표면처리액을 배제하기 위한 액배출수단을 구비하는 기판처리장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 액공급수단은 상기기판에 순수를 분무하기 위한 분무노즐을 포함하는 기판처리장치.
  23. 제22항에 있어서, 상기 기판은 원형이고, 상기 분무노즐은 상기 기판보다 큰 직경을 가진 원뿔모양으로 순수를 분사하도록한 기판처리장치.
  24. 제23항에 있어서, 상기 기판반송수단은 선단에 상기 흡착통로가 개구하는 수평방향으로 연장되는 반송암을 포함하는 기판처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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