JPH02251275A - ウェハの洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、薄膜磁気ヘッド等に用いられるウェハの、特
にメツキ処理後のウニへの洗浄方法に関するものであっ
て、ウェハのメツキ層下層の金属下地面に生じるしみや
むらを防止し、長時間の洗浄によってもメツキ層と金属
下地面とが剥離を起こさないようにするものである。

［従来の技術］ 薄膜磁気ヘッ、ド等に用いられるウエノ１は、一般にウ
ェハ基体に金属下地を施しその金・属下地面の一部ある
いは全部にメツキ処理を施してなるものである。

このようなメツキ処理後のウェハの洗浄においては、従
来よりウェハ表面に純水を吹き付ける方法が採用されて
いる。

第３図はこのウェハの洗浄方法において用いられている
ウェハ洗浄装置の一例を示すものである。

図中符号ｌがウェハ２を載せて回転・させる回転スピナ
ーである。また符号３は、その一端がジェットノズル４
となっている純水搬送管で、このジェットノズル４が上
記回転スピナー１の上面に向くように、かっこのジェッ
トノズル４が回転スピナー１の上面を水平に動くことが
できるように、回転スピナー１の近くに配設されている
。またこの純水搬送管３のもう一方の端部は高圧ポンプ
５を介して純水タンク６に連結されている。

このようなウェハ洗浄装置によれば、上記高圧ポンプ５
を作動させることによって純水タンク６から圧縮された
純水を純水搬送管３内に圧送し、純水搬送管３内を搬送
された純水がジェットノズル４から、上記回転スピナー
■によって回に中のウェハ２表面に噴射される。これに
よって、ウェハ２表面の汚れが吹き飛ばされると同時に
ウェハ２表面が純水置換されるので、ウェハ２を洗浄す
ることができる。

［発明が解決しようとする課題］ ところが、このような装置を用いた方法では、ウェハ２
の金属下地面が純水中に溶存している微量の酸素によっ
て酸化や電気化学的な反応を起こすため、しみやむら等
の発生の原因となる欠点があった。また長時間この洗浄
を続けると、金属下地面が露出している部分と、メツキ
処理の施された部分との境界部において、メツキ層が剥
離を起こすといった不都合もあった。

［課題を解決するための手段］ 本発明では、このような事情に鑑み鋭意検討を行った結
果、純水中の酸素を窒素置換して除去し、この純水をウ
ェハ表面に吹き付けることにより上記課題を解決できる
ことを見出だした。

［作用］ 以上のように、純水中に溶存している微量酸素を窒素置
換して除去した無酸素状態の純水を用いるので、金属下
地面が酸化や電気化学的反応を起こしてしみやむら等が
発生する不都合が解消され、またウェハの金属下地面と
メツキ層との間の剥離も防止できる。

以下、本発明を実施例を示して、図面に基づき詳しく説
明する。

［実施例］ 第１図は、本発明において用いられるウェハ洗浄装置の
一実施例を示すものである。この装置が第３図に示した
従来の装置と異なる点は、主に純水タンク６と高圧ポン
プ５との間に窒素バブリング装置７を設けたことである
。

第２図は、窒素バブリング装置７の一例を示すものであ
る。この窒素バブリング装置７は、概ね、底部に窒素吹
き込み管８を配設した純水槽９と、この純水槽９の上面
を覆う上１１０と、純水槽９内の純水の水位を一定に保
つためのレベルコントローラ１１とを有してなるもので
ある。この純水槽９の一側面の底部近くには、純水人口
１２が設けられ、またこの純水人口１２の設けられた面
の対面でかつ純水人口１２より上位には純水出口１３が
設けられている。そしてこの純水人口１３がコントロー
ルバルブ１４を介して純水タンク６に、また純水出口１
３が高圧ポンプ５に連結されており、これによって純水
タンク６から純水槽９内へ、さらに純水槽９から高圧ポ
ンプ５へと純水を順送りできるようになっている。また
この純水槽９の外部にはレベルコントローラｌ　１が配
置されて、上記コントロールバルブ１４に連結されてい
るとともに、このレベルコントローラ１１に接続された
レベルセンサ１５が上記純水槽９内に挿入されている。

そしてこのレベルセンナ１５によって検知された純水槽
９内の純水の水位に応じて適宜コントロールバルブ１４
が開閉して上記水位が一定に保たれるように、上記レベ
ルコントローラ１１が作動するようになっている。純水
槽９底部に配設された窒素吹き込み管８は、その一部が
輪を形成して端部を一つ有し、この端部が純水槽９の外
部と連結して外部から窒素を純水槽９内部に封入できる
ような窒素封入口１６となっている。また窒素吹き込み
管８には、純水槽９上方へ向けて径０．５〜２１１１１
程度の孔１７．１７・・・が多数形成されており、この
孔１７．１７・・・から純水槽９内の純水中に窒素が吹
き込まれるようになっている。

ここで上記窒素吹き込み管８は、純水槽９内に均一に窒
素を吹き込むことができる点で、純水槽９底部のなるべ
く広範囲を覆うような形状とされるのが好ましく、先に
述べたような形状以外にも、例えば渦巻き状や蛇行状の
形状とされてもよい。

また一つの端部を有する形状のみに限られず、この管８
に設けられた孔１７．１７・・・から窒素を純水中に吹
き込んで窒素バブルしつつ管８内の圧力が常にある程度
の加圧状態を保持できるような形状であれば、二つの端
部を有するものであってもかまわない。”またこの窒素
吹き込み管８に設けられた孔１７．１７・・・は、純水
槽９内に均一に窒素を吹き込むことができる点で、窒素
吹き込み管８の上面部に均等な間隔をあけて規則的に数
多く並設されるのが好ましい。また純水槽９上面の上蓋
ｔＯには、純水１ＩＩ９の外部と連結する脱気０１８が
設けられ、純水槽９内が加圧になった場合に、この脱気
口１８から窒素が漏れ出るようになっている。

このような窒素バブリング装置７にあっては、窒素封入
口１６より窒素吹き込み管８内に送られた窒素が多数の
孔１７．１７・・・から純水槽９内の純水中に吹き込ま
れてバブリングするので、純水中の溶存酸素が窒素置換
される。換言すれば、純水中に溶存していた微量な酸素
が除去されて、無酸素状態の純水となる。またこの純水
槽９内の純水は、純水人口１２から送られ、レベルコン
トローラ１１によってその水位を一定に保持されながら
純水出口１３より排出されるため、連続的に次々と無酸
素状態の純水とされて上記高圧ポンプ５へ供給される。

本発明では、このように窒素バブリング装置Ｉ７を用い
て純水中の溶存酸素を窒素置換して無酸素状態とした後
、この純水を高圧ポンプ５により圧縮純水として純水搬
送管３内に供給する。そして純水搬送管３内を搬送され
た純水を、純水搬送管先端のジェヴトノズル４から、回
転スピナー１によって回転中のウェハ２表面に吹き付け
る。これによってウェハ２表面の汚れが吹き飛ばされる
と同時に、ウェハ２表面を純水置換して洗浄することが
できる。また、このようにして洗浄した後、純水の噴射
を止めた後もウェハ２を引き続き回転スピナー１により
回転させれば、純水が円周方向に吹き飛ばされて、ウェ
ハ２表面を乾燥させることもできる。

このように、純水中の酸素を窒素置換して除去し、この
純水をウェハ２表面に吹き付けることによって、純水中
の溶存酸素の影響によりウェハ２の金属下地面が酸化や
電気化学的な反応を起こすことがなくなるので、しみや
むら等の発生の原因となるなどの不都合が解消される。

また長時間の洗浄の後にも、金属下地面とメツキ層との
間の剥離が起こらないようになる利点もある。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明は純水中の酸素を窒素置換
して除去し、この純水をウェハ表面に吹き付けるので、
ウェハの金属下地面が酸化や電気化学的な反応を起こし
てしみやむら等の発生の原因となるなどの不都合が解消
される。また長時間洗浄を行っても、金属下地面とメツ
キ層との間の剥離が起こらないようになる利点もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明において用いられるウェハ洗浄装置の
一実施例を示す概略構成図であり、第２図は、窒素バブ
リング装置の一実施例を示す概略構成図であり、 第３図は、従来のウェハの洗浄方法において用いられて
いるウェハ洗浄装置の一例を示す概略構成図である。 ２・・・・・・ウェハ。 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 純水中の酸素を窒素置換して除去し、この純水をウェハ
   表面に吹き付けることを特徴とするウェハの洗浄方法。