JPH01242184A - 基板洗浄装置および基板洗浄方法 - Google Patents
基板洗浄装置および基板洗浄方法Info
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- JPH01242184A JPH01242184A JP6855888A JP6855888A JPH01242184A JP H01242184 A JPH01242184 A JP H01242184A JP 6855888 A JP6855888 A JP 6855888A JP 6855888 A JP6855888 A JP 6855888A JP H01242184 A JPH01242184 A JP H01242184A
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- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ガラス基板等の特に液晶基板等の片面に有機
、無機材料からなる膜が形成されている基板の洗浄装置
に関するものである。
、無機材料からなる膜が形成されている基板の洗浄装置
に関するものである。
従来の技術
液晶用ガラス基板や、ＩＣ用ウつ／・−等の素材基板は
、特に基板表面に付着した異物が問題となり、不良を発
生させる原因となっている。例えば液晶用ガラス基板で
は、異物として、ガラスチッピングや、金属粉が付着し
た状態でパネル化を行なうと、この異物周辺が配向不良
を発生させたり、異物が基板の画素を覆うために点欠陥
となったりする。このことから従来では高圧の純水やガ
スを噴出し異物を飛ばすハイプレッシャ一方式の装置や
第４図にあるブラシ１２を用いて載置された基板１の上
を純水をかけながらこすり落とす方法があった。
、特に基板表面に付着した異物が問題となり、不良を発
生させる原因となっている。例えば液晶用ガラス基板で
は、異物として、ガラスチッピングや、金属粉が付着し
た状態でパネル化を行なうと、この異物周辺が配向不良
を発生させたり、異物が基板の画素を覆うために点欠陥
となったりする。このことから従来では高圧の純水やガ
スを噴出し異物を飛ばすハイプレッシャ一方式の装置や
第４図にあるブラシ１２を用いて載置された基板１の上
を純水をかけながらこすり落とす方法があった。
発明が解決しようとする課題
このような従来の基板洗浄では、最近の高密度化に伴う
微少異物を除去することが難しく、ハイプレッシャ一方
式では、かなり高圧にしないと微少異物にかかる圧力が
小さいことから、除去できず、液晶基板のように片面に
透明電極層や配向膜層、あるいに、保護層が１００人〜
１０００人で形成されているものは、膜が傷つきやすく
、噴出圧力に限界がある。その為基板に接触する材料が
選択でき、膜に傷をつけない第４図の様なブラシ洗浄装
置があるが、この装置では、基板載置面は洗浄できず、
この面に付着した異物は、パネル製造中、搬送途中にお
いて、膜面に転移する。又ブラシの接点での回転方向と
、基板の送り方向が同一であると、ブラシの異物除去が
ブラシ毛足によるたたき落とし、吸着、こすり落とし等
の力によるものであるため、こすりのものは、基板上を
異物が移動するだけで除去できない。又ブラシ毛足に吸
着した異物がブラシ回転の遠心力で飛ばないものは、１
回転後逆に異物つきブラシとなり、基板に対し再付着し
たり、傷？つけたりする等の問題がある。
微少異物を除去することが難しく、ハイプレッシャ一方
式では、かなり高圧にしないと微少異物にかかる圧力が
小さいことから、除去できず、液晶基板のように片面に
透明電極層や配向膜層、あるいに、保護層が１００人〜
１０００人で形成されているものは、膜が傷つきやすく
、噴出圧力に限界がある。その為基板に接触する材料が
選択でき、膜に傷をつけない第４図の様なブラシ洗浄装
置があるが、この装置では、基板載置面は洗浄できず、
この面に付着した異物は、パネル製造中、搬送途中にお
いて、膜面に転移する。又ブラシの接点での回転方向と
、基板の送り方向が同一であると、ブラシの異物除去が
ブラシ毛足によるたたき落とし、吸着、こすり落とし等
の力によるものであるため、こすりのものは、基板上を
異物が移動するだけで除去できない。又ブラシ毛足に吸
着した異物がブラシ回転の遠心力で飛ばないものは、１
回転後逆に異物つきブラシとなり、基板に対し再付着し
たり、傷？つけたりする等の問題がある。
本発明はかかる点に鑑み、液晶基板等に付着した異物を
再付着させることなく、確実に除去できる基板洗浄装置
を提供するものである。
再付着させることなく、確実に除去できる基板洗浄装置
を提供するものである。
課題を解決するだめの手段
上記課題を解決するために、本発明の基板洗浄装置は、
基板の両面を粗洗浄ブラシで同時に粗洗浄し、その後膜
面を仕上げブラシで洗浄する構成となっており、また、
本発明の基板洗浄方法は、ブラシに突入する基板姿勢を
洗浄面積が除々に大きくなるように搬送し、ブラシ間を
通過させる方法となっている。
基板の両面を粗洗浄ブラシで同時に粗洗浄し、その後膜
面を仕上げブラシで洗浄する構成となっており、また、
本発明の基板洗浄方法は、ブラシに突入する基板姿勢を
洗浄面積が除々に大きくなるように搬送し、ブラシ間を
通過させる方法となっている。
作用
本発明は上記した構成および方法により、基板の両面を
同時に洗浄し、両面に付着した異物を同時に除去する。
同時に洗浄し、両面に付着した異物を同時に除去する。
基板はブラシに突入する時、基板姿勢を所定角度傾けて
いるため、ブラシに容易に突入し、又、基板ヲ鍜送する
搬送手段の基板当接カ所をブラシ間で異ならせるため、
基板が搬送手段で覆われているブラシ未接触部上なくす
ことができ、確実な洗浄効果が得られる。
いるため、ブラシに容易に突入し、又、基板ヲ鍜送する
搬送手段の基板当接カ所をブラシ間で異ならせるため、
基板が搬送手段で覆われているブラシ未接触部上なくす
ことができ、確実な洗浄効果が得られる。
実施例
以下本発明の一実施例を第１図〜第３図を用いて説明す
る。
る。
第１図〜第３図において、略矩形の基板１はその対角線
が搬送方向と平行になるように第１ベルト２上に載置さ
れ、後部を支持部材３にて支持している。第１ベルト２
と支持部材３は同速度で矢印入方向へ進み、粗洗浄ブラ
シ４，５の間へ基板１を突入させる。６は純水供給ノズ
ルで純水を供給する。この時基板１は粗洗浄ブラシ４，
６の回転方向が相対する方向に回転しているため、強い
抵抗を受けるが、洗浄当初単位時間当りの洗浄面積が徐
々に大きくなるように、基板１はその姿勢が搬送方向に
対し所定角度傾けられ、つまり対角側で突入することか
ら、突入直前は抵抗が弱く、ある程度粗洗浄ブラシ４，
６の中へ入ってから抵抗が強くなるため、基板１がはじ
かれることなく突入できる。又、基板支持部３の厚さは
、基板１が上下動した時にはずれないように、基板１厚
みより若干厚く構成されている。このため、基板１の異
物が基板支持部３の段差に集められて残留することがあ
るが、基板支持部３の形状もその当接部が斜めに形成さ
れ、各２辺の中央部にのみ当接するため、異物は対角側
へ流されてブラシ４，５によシ容易に除去できる。次に
搬送用のベルトは、第１ベルト２が粗洗浄ブラシ５に入
り込んでおり、基板１の支持を行なって、両面同時ブラ
シ洗浄を安定したものとしているが、第１ベルト２と基
板１の当接部分は粗洗浄ブラシ５が接触せず、未洗１４
）部となっている。この部分を、次の粗洗浄ブラシ７．
８の間のプーリー９で第２ベルト１０に基板１全移し変
え、未洗浄部を洗浄する。こうして、粗洗浄ブラシ４，
５，７．８で基板１の両面を同時に洗浄することで、そ
れぞれの面の異物がお互いに回り込むことなく除去でき
る。その後、再Ｉｆ基板１の膜面１′を仕上げブラシ１
１で洗浄する。
が搬送方向と平行になるように第１ベルト２上に載置さ
れ、後部を支持部材３にて支持している。第１ベルト２
と支持部材３は同速度で矢印入方向へ進み、粗洗浄ブラ
シ４，５の間へ基板１を突入させる。６は純水供給ノズ
ルで純水を供給する。この時基板１は粗洗浄ブラシ４，
６の回転方向が相対する方向に回転しているため、強い
抵抗を受けるが、洗浄当初単位時間当りの洗浄面積が徐
々に大きくなるように、基板１はその姿勢が搬送方向に
対し所定角度傾けられ、つまり対角側で突入することか
ら、突入直前は抵抗が弱く、ある程度粗洗浄ブラシ４，
６の中へ入ってから抵抗が強くなるため、基板１がはじ
かれることなく突入できる。又、基板支持部３の厚さは
、基板１が上下動した時にはずれないように、基板１厚
みより若干厚く構成されている。このため、基板１の異
物が基板支持部３の段差に集められて残留することがあ
るが、基板支持部３の形状もその当接部が斜めに形成さ
れ、各２辺の中央部にのみ当接するため、異物は対角側
へ流されてブラシ４，５によシ容易に除去できる。次に
搬送用のベルトは、第１ベルト２が粗洗浄ブラシ５に入
り込んでおり、基板１の支持を行なって、両面同時ブラ
シ洗浄を安定したものとしているが、第１ベルト２と基
板１の当接部分は粗洗浄ブラシ５が接触せず、未洗１４
）部となっている。この部分を、次の粗洗浄ブラシ７．
８の間のプーリー９で第２ベルト１０に基板１全移し変
え、未洗浄部を洗浄する。こうして、粗洗浄ブラシ４，
５，７．８で基板１の両面を同時に洗浄することで、そ
れぞれの面の異物がお互いに回り込むことなく除去でき
る。その後、再Ｉｆ基板１の膜面１′を仕上げブラシ１
１で洗浄する。
なお、第１〜第３図に示す実施例では、第１ベルト２、
第２ベルト１０が、粗洗浄ブラシ５と８に入り込んでお
り、この部分のブラシは毛足を切断しておく等の処置が
必要であるが、粗洗浄ブラン５と８の密度を、基板１の
膜面側１′に接触するブラシ４．７の密度より少ないも
ので構成すれば、毛足を切断することなく、ブラシ５，
８中にベルト１．２（ｉ７入れることが可能である。更
に、第１図〜第３図では、ペルｌ−２，１０を図示上わ
かりやすく径の大きいものにしているが、スチールワイ
ヤー等の細い径のものだと、よりブラシ６．８金傷める
ことなく構成できる。
第２ベルト１０が、粗洗浄ブラシ５と８に入り込んでお
り、この部分のブラシは毛足を切断しておく等の処置が
必要であるが、粗洗浄ブラン５と８の密度を、基板１の
膜面側１′に接触するブラシ４．７の密度より少ないも
ので構成すれば、毛足を切断することなく、ブラシ５，
８中にベルト１．２（ｉ７入れることが可能である。更
に、第１図〜第３図では、ペルｌ−２，１０を図示上わ
かりやすく径の大きいものにしているが、スチールワイ
ヤー等の細い径のものだと、よりブラシ６．８金傷める
ことなく構成できる。
なお、本実施例では、基板１の形状は矩形であったが、
三角形等の多角形１円形、楕円形のものでも良く、また
この場合、粗洗浄ブラシ４，５の洗浄面積が徐々に犬き
くなるように支持部材３の基板との当接部分の形状を形
成すれば良い。
三角形等の多角形１円形、楕円形のものでも良く、また
この場合、粗洗浄ブラシ４，５の洗浄面積が徐々に犬き
くなるように支持部材３の基板との当接部分の形状を形
成すれば良い。
発明の効果
以上の様に本発明によれば、基板の安定した搬送で、基
板の両面に付着した異物を同時に除去でき、確実な洗浄
効果を得るとともに、傷等のない基板を提供できる。
板の両面に付着した異物を同時に除去でき、確実な洗浄
効果を得るとともに、傷等のない基板を提供できる。
第１図は本発明の一実施例における基板洗浄装置の粗洗
ル部、仕上洗浄部を示す斜視図、第２図は同粗洗浄部の
上面図、第３図は同粗洗浄部の側面図、第４図は従来例
を示す斜視図である。 １・・・・基板、２・・・・・第１ベルト、３・・・・
支持部材、４，５，７．８・・・・・・粗洗浄ブラシ、
１０・・・・第２ベルト、１１・・・・・・仕上げブラ
シ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−−基 板 ？−プーリ １０−一一才？ベルト １１−ｍ−仕上げブラシ 第１図 ！ ”°゛ 基 楳 第３図
ル部、仕上洗浄部を示す斜視図、第２図は同粗洗浄部の
上面図、第３図は同粗洗浄部の側面図、第４図は従来例
を示す斜視図である。 １・・・・基板、２・・・・・第１ベルト、３・・・・
支持部材、４，５，７．８・・・・・・粗洗浄ブラシ、
１０・・・・第２ベルト、１１・・・・・・仕上げブラ
シ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−−基 板 ？−プーリ １０−一一才？ベルト １１−ｍ−仕上げブラシ 第１図 ！ ”°゛ 基 楳 第３図
Claims (4)
- （１）基板の両面に同時に接触し、前記基板の搬送方向
と相対する方向に回転する複数対の粗洗浄用ブラシと、
この粗洗浄用ブラシを通過した前記基板の少なくとも１
面と接触する、少なくとも１個以上の仕上げ用ブラシと
、前記粗洗浄用ブラシに突入する基板姿勢をブラシの回
転軸に対し、所定角度傾けて支持する支持手段と、前記
複数対の粗洗浄ブラシで基板と接触する当接位置を異な
らせる搬送手段とを備えてなる基板洗浄装置。 - （２）粗洗浄用ブラシの密度を基板の表面、裏面で異な
らせた請求項１に記載の基板洗浄装置。 - （３）基板の両面に接触し、前記基板の搬送方向と相対
する方向に回転する少なくとも一対の粗洗浄用ブラシの
間に洗浄面積が除々に大きくなるように前記基板を搬送
する搬送手段を備えた基板洗浄装置。 - （４）基板の両面に接触し、前記基板の搬送方向と相対
する方向に回転する少なくとも一対の粗洗浄用ブラシの
間に洗浄面積が除々に大きくなるように前記基板を搬送
させて通過させ、その後、仕上げ用ブラシで前記基板の
少なくとも一面を洗浄する基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6855888A JPH0710382B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6855888A JPH0710382B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01242184A true JPH01242184A (ja) | 1989-09-27 |
| JPH0710382B2 JPH0710382B2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=13377211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6855888A Expired - Fee Related JPH0710382B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0710382B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007014846A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Hugle Electronics Inc | 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 |
| US8372210B2 (en) | 2003-10-27 | 2013-02-12 | Applied Materials, Inc. | Post CMP scrubbing of substrates |
| CN110052467A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-07-26 | 佛山单常科技有限公司 | 一种智能化玻璃清洗设备 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4768556B2 (ja) | 2006-09-15 | 2011-09-07 | Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
-
1988
- 1988-03-22 JP JP6855888A patent/JPH0710382B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8372210B2 (en) | 2003-10-27 | 2013-02-12 | Applied Materials, Inc. | Post CMP scrubbing of substrates |
| JP2007014846A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Hugle Electronics Inc | 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 |
| JP4579071B2 (ja) * | 2005-07-06 | 2010-11-10 | ヒューグルエレクトロニクス株式会社 | 基板用搬送除塵装置 |
| CN110052467A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-07-26 | 佛山单常科技有限公司 | 一种智能化玻璃清洗设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0710382B2 (ja) | 1995-02-08 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |