JP4768556B2 - 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 - Google Patents
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Description
本発明は、液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法に関し、特に、液晶パネルを構成する基板を洗浄するための基板洗浄装置及び該装置を用いた基板の洗浄方法に関する。
ＡＶ機器やＯＡ機器の表示装置として、薄型、軽量、低消費電力等の利点から液晶表示装置が広く用いられている。この液晶表示装置は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子がマトリクス状に形成された一方の基板（以下、ＴＦＴ基板と呼ぶ。）と、カラーフィルター（ＣＦ）やブラックマトリクス（ＢＭ）等が形成された他方の基板（以下、ＣＦ基板と呼ぶ。）との間に液晶が挟持された液晶パネルを備えている。
上記液晶パネルは、洗浄・乾燥を行ったＴＦＴ基板及びＣＦ基板の対向面に配向膜を印刷／焼成し、配向膜にラビング処理を施した後、ラビング布の繊維或いは配向膜の削れ屑等を除去するためにラビング後洗浄・乾燥を行い、ＴＦＴ基板又はＣＦ基板の一方の基板にスペーサ散布及びスペーサ固着作業を行うと共に、他方の基板にシール材塗布、トランスファー塗布を行い、その後、液晶を滴下して両基板を重ね合わせるという手順で形成される。
ここで、上記液晶パネルは、一方又は双方の基板に設けた電極間に生じる電界によって液晶分子の配向方向を制御して表示を行うものであり、ＴＦＴ基板やＣＦ基板に異物が残留すると、基板間のギャップが変化して表示品位が低下することから、特に、サイズの大きい液晶パネルでは基板の洗浄が重要であり、従来より様々な方法で基板洗浄が行われている。
例えば、基板を一枚ずつ水平方向に搬送しながら処理を行う基板洗浄装置を用いた方法として、純水又は薬液を基板に噴射して洗浄するスプレー方式や、ロールブラシを用いて機械的に異物を取り除くブラシ方式、これらを組み合わせた方法などがある。このような基板洗浄装置では、基板の裏面洗浄を行う際にガラス基板は裏面方向から浮き上がる方向の力を受けるため、基板の浮き上がりを防止しながら、基板の搬送が行えるようになっている（上記ブラシ方式の基板洗浄装置に関しては、例えば、下記特許文献１参照）。
上記洗浄方式の中で、ブラシ方式はロールブラシで機械的に異物を取り除くことから洗浄能力が高いと言えるが、この方式でも、洗浄処理を行う工程によっては十分な洗浄効果、特に、裏面洗浄効果が得られない場合がある。この従来の課題を図９及び図１０を参照して説明する。図９は、従来のブラシ洗浄ユニットの構成を模式的に示す側面図である。また、図１０（ａ）は、ロールブラシを模式的に示す図であり、（ｂ）はロールブラシをガラス基板に押し込んだ状態を示す図である。
図９に示すように、従来のブラシ洗浄ユニット１は、ブラシ洗浄機構部とスプレー洗浄機構部と搬送機構部とで構成され、ブラシ洗浄機構部は、ガラス基板３の裏面（下面）に回転しながら接触するロールブラシ１０と、ロールブラシ１０を昇降させるロールブラシ昇降機構７とを備え、スプレー洗浄機構部は、ガラス基板３の上面に配置された噴射口から水や薬液を噴射して上面を洗浄する上スプレー６ａと、ガラス基板３の下面に配置された噴射口から水や薬液を噴射して下面を洗浄する下スプレー６ｂとを備え、搬送機構部は、ガラス基板３をロールブラシ１０の長手に略直交する方向に移動させる搬送ローラ４と、ガラス基板３の浮き上がりを防止する浮き上がり防止ローラ５とを備えている。
上記構成のブラシ洗浄ユニット１を用いて、ガラス基板３の裏面洗浄をブラシ方式にて行う場合、裏面洗浄の効果を向上させるためにロールブラシ１０をガラス基板３の裏面側に押し込む必要がある。しかしながら、ガラス基板３はその端部が搬送ローラ４と浮き上がり防止ローラ５とによって保持されているだけであり、ガラス基板３の表面側からの保持力が十分でないため、ロールブラシ１０の押し込み圧力に対してガラス基板３自体が上方向に反るように凸状に変形する。一方、図１０（ａ）に示すようにロールブラシ１０はその径が長手方向で等しいため、図１０（ｂ）に示すようにガラス基板３の端部と中央部とで押し込み量９ｂと９ｃとに差が生じ、ガラス基板３の端部に比べて中央部が十分に洗浄されないという問題が生じる。
また、ガラス基板３の中央部でも十分な洗浄効果が得られるように押し込み量を大きくすると、ガラス基板３の端部の押し込み量が大きくなりすぎると共に反りがより大きくなるため、ガラス基板３へのストレスが増加し、その結果、例えば、配向膜の配向方向に乱れが生じたり、ＴＦＴの動作不良が生じるなど、品質上の問題が生じる恐れがある。
このような問題は、ブラシ洗浄ユニット１を用いる洗浄全般で生じるが、特に、ガラス基板３の大型化及び薄型化に伴って顕著に現れ、ガラス基板３の表面に配向膜処理などの皮膜処理を行った後の洗浄において重大な問題となる。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであって、その主たる目的は、洗浄対象となる基板に過度のストレスを与えることなく、基板全面を均一に洗浄することができる液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法、特に、基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は、基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置において、前記ロールブラシは、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成され、前記ブラシ部材の長さを変えることにより、前記ロールブラシの長手方向の端部から中央部に向かって徐々に径が大きくなるように形成されているものである。
また、本発明は、基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置において、前記ロールブラシは、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成され、前記ロールブラシの長手方向の端部から中央部に向かって前記ブラシ部材の硬度又は密度が徐々に大きくなるように形成されているものである。
また、本発明は、基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置において、前記ロールブラシは、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成され、前記ロールブラシの長手方向の中央部の前記ブラシ部材が、端部の前記ブラシ部材に比べて相対的に堅い材料で形成されているものである。
また、本発明の方法は、基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、前記ロールブラシを、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成し、前記ブラシ部材の長さを変えることにより、前記ロールブラシの長手方向の端部から中央部に向かって徐々に径が大きくなるように形成し、その中央部が前記ロールブラシと反対側に反った前記基板に略均一な押圧力で接触させて洗浄を行うものである。
また、本発明の方法は、基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、前記ロールブラシを、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成し、前記ロールブラシの長手方向の端部から中央部に向かって前記ブラシ部材の硬度又は密度が徐々に大きくなるように形成し、その中央部が前記ロールブラシと反対側に反った前記基板に略均一な押圧力で接触させて洗浄を行うものである。
また、本発明の方法は、基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、前記ロールブラシを、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成し、前記ロールブラシの長手方向の中央部の前記ブラシ部材を、端部の前記ブラシ部材に比べて相対的に堅い材料で形成し、その中央部が前記ロールブラシと反対側に反った前記基板に略均一な押圧力で接触させて洗浄を行うものである。
このように、本発明では、基板の表面又は裏面の少なくとも一方の面に接触するロールブラシを、その長手方向の端部から中央部に向かって徐々に径が大きくなるように形成したり、その長手方向の端部から中央部に向かって徐々に硬度や密度が大きくなるように形成したり、その長手方向の中央部を端部に比べて相対的に堅いブラシ部材で形成することにより、ロールブラシと反対側に反った凸状の基板の全面に対して均一にロールブラシを押し込むことができるため、基板に過度のストレスを与えることなく、基板全面を均一に洗浄することができる。
本発明の基板洗浄装置及び基板洗浄方法によれば、基板に過度のストレスを与えることなく、基板全面を均一に洗浄することができ、表示品位に優れた液晶パネルを歩留まりよく製造することができる。
その理由は、ブラシ洗浄機構部のロールブラシを、その長手方向の端部から中央部に向かって徐々に径が大きくなるように形成することにより、ロールブラシと反対側に反った凸状の基板の全面に対して均一にロールブラシを押し込むことができるからである。
また、ロールブラシを、その長手方向の端部から中央部に向かって徐々に硬度や密度が大きくなるように形成することによっても、ロールブラシと反対側に反った凸状の基板の全面に対して均一にロールブラシを押し込むことができるからである。
更に、ロールブラシの長手方向の中央部を端部に比べて相対的に堅いブラシ部材で形成することによっても、ロールブラシと反対側に反った凸状の基板の全面に対して均一にロールブラシを押し込むことができるからである。
本発明の基板洗浄装置は、その好ましい一実施の形態において、ブラシ洗浄機構部とスプレー洗浄機構部と搬送機構部とを有するブラシ洗浄ユニットを備え、ブラシ洗浄機構部は、被洗浄対象のガラス基板に回転しながら接触するロールブラシと、ロールブラシを昇降させる昇降機構部とを有し、スプレー洗浄機構部は、ガラス基板に水や薬液を噴射する上スプレー及び下スプレーを有し、搬送機構部は、ガラス基板を搬送するための搬送ローラと浮き上りを防止するための浮き上がり防止ローラとを有する。そして、ロールブラシは、ガラス基板がロールブラシと反対側に反って凸状に変形しても押し込み量が均一になるように、その長手方向の端部から中央部に向かって徐々に径が大きく、又は、徐々に硬度や密度が大きくなるように形成する。これにより、ガラス基板に対するロールブラシの押し込み量、即ち、押し込み圧力の均一化を図ることができ、ガラス基板に過度のストレスを与えることなく、ガラス基板全面を均一に洗浄することができる。以下、図面を参照して具体的に説明する。
まず、本発明の第１の実施例に係る基板洗浄装置及び基板洗浄方法について、図１乃至図５を参照して説明する。図１は、本実施例に係るガラス基板洗浄装置のブラシ洗浄ユニットの構成を模式的に示す側面図である。また、図２（ａ）は、ロールブラシを模式的に示す図、（ｂ）はロールブラシをガラス基板に押し込んだ状態を示す図であり、図３は、本実施例のブラシ洗浄ユニットをロールブラシの長手方向から見た側面図である。また、図４は、液晶パネルの製造手順を示すフロー図であり、図５は、洗浄対象となるガラス基板の構成例を示す斜視図である。
一般に、液晶表示装置を構成する液晶表示パネルは、薄膜トランジスタ等のスイッチング素子がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタやブラックマトリクス等が形成されたＣＦ基板とを有し、これらの基板の対向面には配向処理（ラビング処理）が施された配向膜が形成されている。そして、両基板の間には所定の形状のポリマービーズ、シリカビーズ等の絶縁性のスペーサが配置されて所定のギャップが形成され、そのギャップに封止された液晶の配向方向を、少なくとも一方の基板に形成した電極による電界で制御することによって画像が表示される。
上記液晶パネルは、図４に示す工程を経て製造される。すなわち、ＴＦＴ基板及びＣＦ基板に対して、パネル組み立て工程の最初の工程である基板洗浄・乾燥工程において、基板表面を清浄化するための洗浄及び乾燥を実施する。次に、配向膜印刷工程において、基板表面部に配向材を塗布し焼成して配向膜を形成する。次に、ラビング処理工程において、前記配向膜に対して液晶配向を制御するためにラビング処理を施す。次に、ラビング後洗浄・乾燥工程において、前記ラビング処理工程で付着したラビング布の繊維或いは配向膜の削れ屑等を除去するために洗浄・乾燥を行う。そして、ＴＦＴ基板又はＣＦ基板の一方の基板（図ではＴＦＴ基板）にシール材塗布、トランスファー塗布を行うと共に他方の基板（図ではＣＦ基板）にスペーサ散布／固着を行い、その後、液晶を滴下して両基板を重ね合わせる。
ここで、液晶表示パネルの高品質・高歩留まりを担保するためには、基板表面部に汚染物質を付着させない状態で各工程を実施する必要があり、上記洗浄工程、特にラビング後洗浄において、液晶パネルに過度のストレスを与えることなく、基板全面を均一に洗浄することが重要である。そこで、本実施例では、図１及び図３に示すようなブラシ洗浄ユニット１を使用する。
このブラシ洗浄ユニット１は、ブラシ洗浄機構部とスプレー洗浄機構部と搬送機構部とを備え、ブラシ洗浄機構部は、中央部がなだらかに凸になる形状のロールブラシ２と、ロールブラシ２を昇降させる昇降機構部７とを備え、スプレー洗浄機構部は、ガラス基板３の上部及び下部に設けられた噴射口（図示せず）から水や薬液を噴射する上スプレー６ａ及び下スプレー６ｂを備え、搬送機構部は、ガラス基板３を搬送するための搬送ローラ４と浮き上りを防止するための浮き上がり防止ローラ５とを備える。また、図２（ａ）に示すように、上記ロールブラシ２は、回転軸を中心にして回転するシャフトと、シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成され、ブラシ部材は、例えば、線状又は短冊状に加工されたポリプロピレンや塩化ビニールなどで構成される。
次に、上記構成のブラシ洗浄ユニット１の動作について説明する。図４に示す液晶パネル製造工程のラビング後洗浄工程は、図５に示すようにガラス基板３の表面に配向膜８を形成した後の洗浄であるため、ガラス基板３の裏面洗浄を行う場合、ガラス基板３両端部の浮き上りを防止するために浮き上がり防止ローラ５にて保持を行っている。しかしながら、ガラス基板３中央部の保持に関しては、上スプレー６ａの水圧のみであるため、ガラス基板３の変形を回避することができず、その結果、従来はロールブラシ昇降機構７でロールブラシ１０の位置を調整しても、図１０（ｂ）に示すようにロールブラシ２の押し込み量が不均一になり、その結果、十分な洗浄効果を得られなかった。
そこで、本実施例では、図２（ａ）に示すように、その長手方向の端部から中央部に向かって徐々に径が大きくなるようにロールブラシ２を構成し、図２（ｂ）に示すように、ガラス基板３の裏面に対して均一な押し込み量９ａでロールブラシ２を押し込めるようにし、ラビング後の洗浄工程においても、ガラス基板３の表面の配向膜８にダメージを与えることなく十分な裏面洗浄効果が得られるようにしている。その際、ロールブラシ昇降機構７にてロールブラシ２の押し込み量を調整することにより、最適な洗浄効果を得ることが出来る。なお、ロールブラシ２の径を変化させる方法としては、例えば、ブラシ材料の長さを変化させたり、シャフトの径を変化させるなどの方法を用いることができる。
このように、ロールブラシ２の押し込みによってガラス基板３がロールブラシ２と反対側に反った場合でも、ガラス基板３の形状に左右されず、ロールブラシ２をガラス基板３の全面に均一に接触させることができるため、図２（ｂ）に示すような均一な押し込み量９ａを実現することができ、ガラス基板３の裏面を均一に洗浄することができる。
なお、ロールブラシ２の径の変動量は、ブラシ材料の硬度や密度、ガラス基板３の厚さや組成、浮き上がり防止ローラ５による保持力の大きさ、上スプレー６ａ及び下スプレー６ｂによる噴射の強さなどに応じて適宜設定することができる。また、図では、ロールブラシ２の外形が円弧状になるようにしたが、径が直線状に変化するようにしてもよいし、径が階段状に変化するようにしてもよい。
次に、本発明の第２の実施例に係る基板洗浄装置及び基板洗浄方法について、図６乃至図８を参照して説明する。図６（ａ）及び図７（ａ）は、ロールブラシを模式的に示す図であり、図６（ｂ）、図７（ｂ）及び図８はロールブラシをガラス基板に押し込んだ状態を示す図である。
前記した第１の実施例ではロールブラシの径を長手方向で変化させる構成としたが、ロールブラシの硬度や密度、材質を変更することによっても、裏面洗浄効果を改善することが出来る。
例えば、ガラス基板裏面に対する押し込み量、即ち、ガラス基板裏面に加わる応力の均一化を実現する為に、図６に示すように、ロールブラシ２ａを、その長手方向の端部から中央部に向かって徐々に硬度が大きくなるように形成することによっても、ロールブラシの径を変化させる場合と同様の効果が得られる。具体的には、ロールブラシ２ａは、シャフトの周囲に、線状又は短冊状のポリプロピレンや塩化ビニールなどのブラシ部材を植え付けた構造であることから、ブラシ部材の径（短冊の場合は厚み又は幅）を端部で小さく中央部で大きくすることによって、端部のブラシ材はガラス基板３に押圧されて変形して、中央部のブラシ部材が上側に反ったガラス基板３に接触し易くなり、その結果、ガラス基板３の全面にロールブラシ２ａを接触させることができる。
また、図７に示すように、ロールブラシ２ｂの密度を端部から中央部に向かって徐々に大きくすることによっても、ロールブラシの径を変化させる場合と同様の効果が得られる。具体的には、長手方向の端部ではシャフトの周りにブラス部材を粗く植え付け、中央部ではブラシ部材を密に植え付けることによって、端部のブラシ材はガラス基板３に押圧されて変形して、中央部のブラシ部材が上側に反ったガラス基板３に接触し易くなり、その結果、ガラス基板３の全面にロールブラシ２ｂを接触させることができる。
また、図８に示すように、ロールブラシ２ｃを構成するブラシ部材自体を端部と中央部とで異なる材料で形成することによっても、ロールブラシの径を変化させる場合と同様の効果が得られる。具体的には、ガラス基板３の端部では相対的に柔らかい材料からなるブラシ部材を用い、中央部では相対的に堅い材料からなるブラシ部材を用いることによって、端部のブラシ材はガラス基板３に押圧されて変形して、中央部のブラシ部材が上側に反ったガラス基板３に接触し易くなり、その結果、ガラス基板３の全面にロールブラシ２ｃを接触させることができる。
このように、長手方向の端部から中央部に向かって硬度や密度が徐々に大きくなるようにロールブラシ２ａ、２ｂを形成したり、端部は相対的に柔らかいブラシ材料を用い、中央部に相対的に硬いブラシ部材を用いることにより、ガラス基板３の全面においてロールブラシが接触し易くなり、これにより、基板に過度のストレスを与えることなく、基板全面を均一に洗浄することができる。
なお、上記各実施例では、液晶パネルを構成するＴＦＴ基板やＣＦ基板を洗浄する場合について述べたが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、任意の基板の洗浄に対して同様に適用することができる。また、上記各実施例では、ガラス基板の裏面にロールブラシを接触させて洗浄を行う構成を示したが、ガラス基板の表面側にロールブラシを接触させて洗浄を行う場合でも同様に適用することができる。
本発明は、ロールブラシで基板を洗浄する任意の基板洗浄装置及び基板洗浄方法に利用可能であり、特に、カラーフィルタ製造工程の洗浄、ＴＦＴ製造工程のＰＲ工程やパネルラビング後洗浄などに使用される液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法に利用可能である。
１ ブラシ洗浄ユニット
２、２ａ、２ｂ、２ｃ ロールブラシ
３ ガラス基板
４ 搬送ローラ
５ 浮き上り防止ローラ
６ａ 上スプレー
６ｂ 下スプレー
７ ロールブラシ昇降機構
８ 配向膜
９ａ、９ｂ、９ｃ 押し込み量
１０ ロールブラシ
２、２ａ、２ｂ、２ｃ ロールブラシ
３ ガラス基板
４ 搬送ローラ
５ 浮き上り防止ローラ
６ａ 上スプレー
６ｂ 下スプレー
７ ロールブラシ昇降機構
８ 配向膜
９ａ、９ｂ、９ｃ 押し込み量
１０ ロールブラシ
Claims (6)
- 基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置において、
前記ロールブラシは、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成され、前記ブラシ部材の長さを変えることにより、前記ロールブラシの長手方向の端部から中央部に向かって徐々に径が大きくなるように形成されていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置において、
前記ロールブラシは、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成され、前記ロールブラシの長手方向の端部から中央部に向かって前記ブラシ部材の硬度又は密度が徐々に大きくなるように形成されていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置において、
前記ロールブラシは、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成され、前記ロールブラシの長手方向の中央部の前記ブラシ部材が、端部の前記ブラシ部材に比べて相対的に堅い材料で形成されていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、
前記ロールブラシを、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成し、前記ブラシ部材の長さを変えることにより、前記ロールブラシの長手方向の端部から中央部に向かって徐々に径が大きくなるように形成し、その中央部が前記ロールブラシと反対側に反った前記基板に略均一な押圧力で接触させて洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。 - 基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、
前記ロールブラシを、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成し、前記ロールブラシの長手方向の端部から中央部に向かって前記ブラシ部材の硬度又は密度が徐々に大きくなるように形成し、その中央部が前記ロールブラシと反対側に反った前記基板に略均一な押圧力で接触させて洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。 - 基板の表面又は裏面の一方の面にロールブラシを接触させて洗浄を行うブラシ洗浄機構部と、前記基板の端部を保持すると共に前記基板を前記ロールブラシの長手に略直交する方向に搬送する搬送機構部とを少なくとも備える基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、
前記ロールブラシを、回転軸を中心にして回転するシャフトと、前記シャフトの周囲に植え付けられたブラシ部材とで構成し、前記ロールブラシの長手方向の中央部の前記ブラシ部材を、端部の前記ブラシ部材に比べて相対的に堅い材料で形成し、その中央部が前記ロールブラシと反対側に反った前記基板に略均一な押圧力で接触させて洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。
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