JPH06190346A - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の表面に損傷を与えることなく洗浄むら
を低減させられる基板洗浄装置を提供する。 【構成】 ガラス基板Ｇを搬送手段で搬送すると、下部
エアーナイフおよび上部エアーナイフ間に位置する。ク
リーンエアをガラス基板Ｇに吹き付け、クリーンエアを
基板ガラスＧの塵埃を吹き飛ばすとともに、回転ブラシ
11をガラス基板Ｇの搬送方向と反対になるように回転さ
せ、ガラス基板Ｇにこびりついた汚れを掻き落とす。回
転ブラシ11は両端部に比べ中央部を縮径して構成したた
め、ガラス基板Ｇの搬送方向の両側を保持して、搬送方
向の中央にたわみｂが生じても、回転ブラシ11とガラス
基板Ｇとの接触圧は、ガラス基板Ｇの中央部および両端
部で均一になる。回転ブラシ11がガラス基板Ｇの全面に
接触するので、洗浄むらを解消できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、たとえば液晶表示装置
などを構成するガラス基板の洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種のガラス基板などを洗浄す
る洗浄装置としては、たとえば特開昭６３−４９２８５
号公報記載の構成が知られている。この特開昭６３−４
９２８５号公報に記載のものは、ガラス基板を搬送手段
により搬送し、この搬送手段の下方にこの搬送手段の搬
送方向に回転軸を直交させた回転ブラシを設け、この回
転ブラシをガラス基板の下方に当接させてガラス基板を
洗浄するものである。

【０００３】また、他の従来の洗浄装置としては、たと
えば特開平１−２４２１８４号公報に記載の構成が知ら
れている。この特開平１−２４２１８４号公報記載のも
のは、特開昭６３−４９２８５号公報に記載のもののガ
ラス基板の上方にも回転ブラシを設け、ガラス基板を上
下方向から挟持するようにして、ガラス基板を洗浄する
ものである。

【０００４】そして、これら特公昭６３−４９２８５号
公報および特開平１−２４２１８４号公報に記載のもの
は、図３に示すように、ほぼ円柱状の外周面の洗浄用の
回転ブラシ１を、ガラス基板Ｇに下面から当接させ、回
転ブラシ１を回転させてガラス基板Ｇを洗浄するもので
ある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開昭６３−４９２８５号公報および特開平１−２４２１
８４号公報記載の構成の場合には、洗浄後のガラス基板
１をガラス基板表面検査装置により測定したところ、図
４に示すように、斜線のないガラス基板Ｇの中央部の洗
浄はごみが除去されて比較的よく行われているものの、
斜線で示す搬送方向の両側の部分は十分にごみが除去さ
れておらず、洗浄むらが生じ、基板組立時にごみ不良を
起しかねない。

【０００６】すなわち、図３に示すように、ガラス基板
Ｇのたわみｂによる洗浄むらが生じていると考えられ
る。そこで、回転ブラシ１のガラス基板Ｇに対する接触
圧を高めることも考えられるが、ガラス基板Ｇに対する
接触圧が高いとガラス基板１の表面に損傷を与えてしま
う問題を有している。

【０００７】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、基板の表面に損傷を与えることなく洗浄むらを低減
させることができる基板洗浄装置を提供することを目的
とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板の両端部
を支持し搬送する搬送手段と、この搬送手段の下方に配
置され前記基板の搬送方向に対して交差する方向に回転
軸を有する円柱状の洗浄ブラシとを備えた基板洗浄装置
において、前記洗浄ブラシは、両端部に比べ中央部を縮
径して構成したものである。

【０００９】

【作用】本発明は、搬送手段の下方に配置され基板の搬
送方向に対して交差する方向に回転軸を有する円柱状の
洗浄ブラシは、両端部に比べ中央部を縮径したため、基
板がたわんで搬送方向の両側の部分が中央の部分より高
い位置に位置しても、洗浄ブラシを基板に接触させる接
触圧を向上させることなく、洗浄ブラシを基板の全面に
接触させることができ、基板の表面に損傷を与えること
なく洗浄むらを解消できる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の基板洗浄装置の一実施例を図
面を参照して説明する。

【００１１】図２に示すように、洗浄ブラシである回転
ブラシ11は回転自在に設けられ、この回転ブラシ11に対
して軸方向を平行に、ガラス基板Ｇを保持して搬送する
つば付きローラ12からなる搬送手段13が配設されてい
る。また、つば付きローラ12は、ガラス基板Ｇの裏面側
に、搬送方向に対して直交する方向に回転軸を有して設
けられている。なお、回転ブラシ11は、つば付きローラ
12と反対方向に回転され、すなわち、搬送手段13の搬送
方向に対して反対向きに回転される。

【００１２】また、回転ブラシ11は、図１に示すよう
に、略円柱状で両端部に対して中央部は縮径され、上面
は両端部分が中央部より高い位置にくるように略弧を描
いて形成され、搬送手段13による搬送方向の両側を保持
している。なお、実験によれば中央部と両端部分の高さ
の比率としては、５０：５１〜２：３が好適である。

【００１３】さらに、回転ブラシ11の近傍で、搬送され
るガラス基板Ｇの上下には、クリーンエアを吹き出す突
出ノズルとなる上方が開口して断面コ字状に設けられた
下部エアーナイフ14および下方が開口して断面コ字状に
設けられた上部エアーナイフ15が配設されている。ま
た、回転ブラシ11は、下部エアーナイフ14の開口内に収
納されている。

【００１４】次に、上記実施例の動作について説明す
る。

【００１５】まず、つば付きローラ12が回転するとガラ
ス基板Ｇが搬送され、下部エアーナイフ14および上部エ
アーナイフ15間に位置し、クリーンエアをガラス基板Ｇ
に吹き付け、クリーンエアを基板ガラスＧの塵埃を吹き
飛ばすとともに、回転ブラシ11をガラス基板Ｇの搬送方
向と反対になるように回転させ、ガラス基板Ｇにこびり
ついた汚れなどを掻き落とす。

【００１６】また、回転ブラシ11は両端部に比べ中央部
を低く構成した状態になっているため、ガラス基板Ｇの
搬送方向の両側が保持されて、図３に示すように、搬送
手段13の搬送方向の中央にたわみｂが生じても、回転ブ
ラシ11とガラス基板Ｇとの接触圧は、ガラス基板Ｇの中
央部および両端部で均一になっている。したがって、回
転ブラシ11がガラス基板Ｇの全面に接触するので、洗浄
むらを解消できる。特に、液晶表示装置などを構成する
ガラス基板Ｇにおいては、ガラス基板Ｇの損傷がなくな
るので、ガラス基板Ｇからの発塵およびガラス基板Ｇの
表面の均一性を妨げることがなくなるので、表示品位の
向上を図ることができる。

【００１７】さらに、上述した構成とすることにより、
クリーンエアを突出する突出ノズルである下部エアーナ
イフ14および上部エアーナイフ15を任意の位置に配置さ
せることができるため、洗浄効率の低下もない。

【００１８】

【発明の効果】本発明の基板洗浄装置によれば、搬送手
段の下方に配置され基板の搬送方向に対して交差する方
向に回転軸を有する円柱状の洗浄ブラシは、両端部に比
べ中央部を縮径したため、基板がたわんで搬送方向の両
側の部分が中央の部分より高い位置に位置しても、洗浄
ブラシを基板に接触させる接触圧を向上させることな
く、洗浄ブラシを基板の全面に接触させることができ、
基板の表面に損傷を与えることなく洗浄むらを解消でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板洗浄装置の一実施例を示す構成図
である。

【図２】同上斜視図である。

【図３】従来例のガラス基板と回転ブラシとの関係を示
す説明図である。

【図４】図３に示す状態で洗浄されたガラス基板をガラ
ス基板表面検査装置で測定した結果を示す説明図であ
る。

【符号の説明】

11 洗浄ブラシとしての回転ブラシ 13 搬送手段 Ｇ ガラス基板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の両端部を支持し搬送する搬送手段
   と、この搬送手段の下方に配置され前記基板の搬送方向
   に対して交差する方向に回転軸を有する円柱状の洗浄ブ
   ラシとを備えた基板洗浄装置において、 前記洗浄ブラシは、両端部に比べ中央部を縮径して構成
   したことを特徴とする基板洗浄装置。