JP2512015B2 - 基板の洗浄装置 - Google Patents
基板の洗浄装置Info
- Publication number
- JP2512015B2 JP2512015B2 JP62245157A JP24515787A JP2512015B2 JP 2512015 B2 JP2512015 B2 JP 2512015B2 JP 62245157 A JP62245157 A JP 62245157A JP 24515787 A JP24515787 A JP 24515787A JP 2512015 B2 JP2512015 B2 JP 2512015B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cleaning
- brush
- rough
- brushes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 59
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 54
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガラス基板等の特に液晶基板等の片面に有
機，無機材料からなる膜が形成されている基板の洗浄装
置に関するものである。
機，無機材料からなる膜が形成されている基板の洗浄装
置に関するものである。
従来の技術 液晶用ガラス基板やIC用ウェハー等の素材基板は、特
に基板表面に付着した異物が問題となり、不良を発生さ
せる原因となっている。例えば液晶用ガラス基板では、
異物としてガラスチッピングや、金属粉が付着した状態
でパネル化を行なうと、この異物周辺が配向不良を発生
させたり、異物が基板の画素を覆うために点欠陥となっ
たりする。この不良を発生させる異物の大きさは数ミク
ロンが影響する。このことから従来では高圧の純水や、
ガスを噴出し異物を飛ばすハイプレッシャー方式の装置
や第５図にあるブラシ21を用いて載置された基板１の上
を純水をかけながらこすり落とす装置がある。
に基板表面に付着した異物が問題となり、不良を発生さ
せる原因となっている。例えば液晶用ガラス基板では、
異物としてガラスチッピングや、金属粉が付着した状態
でパネル化を行なうと、この異物周辺が配向不良を発生
させたり、異物が基板の画素を覆うために点欠陥となっ
たりする。この不良を発生させる異物の大きさは数ミク
ロンが影響する。このことから従来では高圧の純水や、
ガスを噴出し異物を飛ばすハイプレッシャー方式の装置
や第５図にあるブラシ21を用いて載置された基板１の上
を純水をかけながらこすり落とす装置がある。
発明が解決しようとする問題点 このような従来の基板洗浄装置では、最近の高密度化
に伴う微少な不良異物を除去することが難しく、ハイプ
レッシャー方式では、かなり高圧にしないと微少異物に
かかる圧力が小さいことから除去できず、液晶基板のよ
うな片面に透明電極層や配向膜層、あるいは保護膜層が
100Å〜1000Åで形成されているものは、膜が傷つきや
すく噴出圧力に限界がある。そのため基板接触する材料
が選択でき、膜に傷をつけない第５図のようなブラシ洗
浄装置があるが、この装置では、基板を載置する面は洗
浄できず、この面に付着した異物は、パネル製造中、搬
送途中において膜面に転移する。又、ブラシの接点での
回転方向と、基板の送り方向が同一であると、ブラシの
異物除去がブラシ毛足によるたたき落とし，吸着，こす
り落とし等の力によるものであるため、こすりのものは
基板上を異物が移動するだけで除去できない。又ブラシ
毛足に吸着した異物がブラシ回転の遠心力で飛ばないも
のは、１回転後逆に異物つきブラシとなり基板に対し、
再付着したり、傷をつけたりする等の問題がある。本発
明はかかる点に鑑み、液晶基板等に付着した異物を再付
着させることなく確実に除去できる洗浄装置を提供する
ものである。
に伴う微少な不良異物を除去することが難しく、ハイプ
レッシャー方式では、かなり高圧にしないと微少異物に
かかる圧力が小さいことから除去できず、液晶基板のよ
うな片面に透明電極層や配向膜層、あるいは保護膜層が
100Å〜1000Åで形成されているものは、膜が傷つきや
すく噴出圧力に限界がある。そのため基板接触する材料
が選択でき、膜に傷をつけない第５図のようなブラシ洗
浄装置があるが、この装置では、基板を載置する面は洗
浄できず、この面に付着した異物は、パネル製造中、搬
送途中において膜面に転移する。又、ブラシの接点での
回転方向と、基板の送り方向が同一であると、ブラシの
異物除去がブラシ毛足によるたたき落とし，吸着，こす
り落とし等の力によるものであるため、こすりのものは
基板上を異物が移動するだけで除去できない。又ブラシ
毛足に吸着した異物がブラシ回転の遠心力で飛ばないも
のは、１回転後逆に異物つきブラシとなり基板に対し、
再付着したり、傷をつけたりする等の問題がある。本発
明はかかる点に鑑み、液晶基板等に付着した異物を再付
着させることなく確実に除去できる洗浄装置を提供する
ものである。
問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するために、基板の両面を
同時に粗洗浄し、その後膜面を仕上げ用ブラシで仕上げ
洗浄し、それぞれの洗浄方向は基板の進行方向に対し、
相対方向にブラシを回転させ、このブラシの外周接線方
向でブラシの回転方向と逆方向から洗浄水を供給する構
成とした装置である。
同時に粗洗浄し、その後膜面を仕上げ用ブラシで仕上げ
洗浄し、それぞれの洗浄方向は基板の進行方向に対し、
相対方向にブラシを回転させ、このブラシの外周接線方
向でブラシの回転方向と逆方向から洗浄水を供給する構
成とした装置である。
作用 本発明は上記した構成で、基板の両面を同時洗浄し、
両面に付着した異物を同時に除去し、更に膜面に対し
て、仕上げ洗浄を行ない微少異物を完全に除去する。更
に、それぞれのブラシの回転方向は基板の進行方向と相
対方向にあるため基板上の異物は基板上を移動し、残留
することなく基板から押し出される。又ブラシに異物が
付着したものは、接線方向へ噴出される洗浄水のため
に、除去され、基板に再付着することがない。
両面に付着した異物を同時に除去し、更に膜面に対し
て、仕上げ洗浄を行ない微少異物を完全に除去する。更
に、それぞれのブラシの回転方向は基板の進行方向と相
対方向にあるため基板上の異物は基板上を移動し、残留
することなく基板から押し出される。又ブラシに異物が
付着したものは、接線方向へ噴出される洗浄水のため
に、除去され、基板に再付着することがない。
実 施 例 以下本発明の一実施例を第１図〜第４図で説明する。
第１図は粗洗浄部を示すものであり、基板１は搬送ベル
ト２上に載置され第２図に示す押し込み板３の緩衝ベー
ス４上に位置している。押し込み板３は爪５により搬送
ベルト２に係止している。この押し込み板３は、粗洗浄
ブラシ6,7により搬送ベルト２が途切れた後に基板１を
押し込み基板位置を保つものである。粗洗浄ブラシ6,7
は基板１の両面を同時に洗浄できるよう対峙され、基板
１の搬送方向と相対方向に回転し材質はナイロンやレー
ヨン等で作成されている。粗洗浄ブラシ6,7の外周接線
方向に洗浄水を供給するノズル8,9が設けられている。1
0,11は防壁であり、洗浄後の飛散した汚れた洗浄水を洗
浄後の基板１にかからない様設けている。粗洗浄を終え
た基板１は軸12をスライドでき反転できるチャックベー
ス13上で真空チャックされる。その後チャックベース13
は反転し軸12をスライドし仕上げ洗浄へと搬送される。
第３図が仕上げ洗浄部であり、仕上げブラシ14も粗洗浄
と同様に基板１の搬送方向と相対方向に回転し、又ノズ
ル15,防壁16,17を設けている。この様な構成で洗浄動作
を説明すると、まず搬送ベルト２に載置された基板１は
片面に透明電極や配向膜等が形成された膜層18を有した
もので、その膜層18を上面に向け載置されている。搬送
ベルト２を駆動し、基板１を粗洗浄ブラシ6,7間に搬送
する。基板１は、両面同時に洗浄され基板１に付着した
異物を除去する。この時基板１は粗洗浄ブラシ6,7が搬
送方向と相対する方向に回転しているため押しもどす力
が発生するが、押し込み板３には押されるため押しもど
されることはない。又、洗浄時は基板１全体に粗洗浄ブ
ラシ6,7が接触するよう基板ガイドをなくし、洗浄しな
い部分をなくすとともにガイドによるチョピングの発生
をなくしているため、粗洗浄ブラシ6,7部分は基板１が
保持されなく不安定であることから、押し込み板３の緩
衝ベース４で保持している。次に粗洗浄ブラシ6,7は基
板１上の異物をブラシの毛足により除去するが、その異
物は、粗洗浄ブラシに付着するものもあり、質量が大き
いものは、粗洗浄ブラシ6,7の回転（約3000rpm）により
遠心力で飛ばされるが、質量の軽いものは、残留する。
この残留したものは、洗浄水の噴出で除去し、基板１に
再付着させない構成としている。次に粗洗浄を終えた基
板１は、チャックベース13に保持され反転後仕上げ洗浄
へと搬送される。ここでチャックベース13を反転させる
のは、仕上げブラシ14が基板１上に位置すると、重力に
より異物や、汚れた洗浄水の落下付着がある可能性から
仕上げでは、下部からの洗浄を行なっている。
第１図は粗洗浄部を示すものであり、基板１は搬送ベル
ト２上に載置され第２図に示す押し込み板３の緩衝ベー
ス４上に位置している。押し込み板３は爪５により搬送
ベルト２に係止している。この押し込み板３は、粗洗浄
ブラシ6,7により搬送ベルト２が途切れた後に基板１を
押し込み基板位置を保つものである。粗洗浄ブラシ6,7
は基板１の両面を同時に洗浄できるよう対峙され、基板
１の搬送方向と相対方向に回転し材質はナイロンやレー
ヨン等で作成されている。粗洗浄ブラシ6,7の外周接線
方向に洗浄水を供給するノズル8,9が設けられている。1
0,11は防壁であり、洗浄後の飛散した汚れた洗浄水を洗
浄後の基板１にかからない様設けている。粗洗浄を終え
た基板１は軸12をスライドでき反転できるチャックベー
ス13上で真空チャックされる。その後チャックベース13
は反転し軸12をスライドし仕上げ洗浄へと搬送される。
第３図が仕上げ洗浄部であり、仕上げブラシ14も粗洗浄
と同様に基板１の搬送方向と相対方向に回転し、又ノズ
ル15,防壁16,17を設けている。この様な構成で洗浄動作
を説明すると、まず搬送ベルト２に載置された基板１は
片面に透明電極や配向膜等が形成された膜層18を有した
もので、その膜層18を上面に向け載置されている。搬送
ベルト２を駆動し、基板１を粗洗浄ブラシ6,7間に搬送
する。基板１は、両面同時に洗浄され基板１に付着した
異物を除去する。この時基板１は粗洗浄ブラシ6,7が搬
送方向と相対する方向に回転しているため押しもどす力
が発生するが、押し込み板３には押されるため押しもど
されることはない。又、洗浄時は基板１全体に粗洗浄ブ
ラシ6,7が接触するよう基板ガイドをなくし、洗浄しな
い部分をなくすとともにガイドによるチョピングの発生
をなくしているため、粗洗浄ブラシ6,7部分は基板１が
保持されなく不安定であることから、押し込み板３の緩
衝ベース４で保持している。次に粗洗浄ブラシ6,7は基
板１上の異物をブラシの毛足により除去するが、その異
物は、粗洗浄ブラシに付着するものもあり、質量が大き
いものは、粗洗浄ブラシ6,7の回転（約3000rpm）により
遠心力で飛ばされるが、質量の軽いものは、残留する。
この残留したものは、洗浄水の噴出で除去し、基板１に
再付着させない構成としている。次に粗洗浄を終えた基
板１は、チャックベース13に保持され反転後仕上げ洗浄
へと搬送される。ここでチャックベース13を反転させる
のは、仕上げブラシ14が基板１上に位置すると、重力に
より異物や、汚れた洗浄水の落下付着がある可能性から
仕上げでは、下部からの洗浄を行なっている。
次に特許請求の範囲第２項，第３項について説明する
と、粗洗浄ブラシ6,7において、６は基板の膜層18に当
接するため、例えば基板１がガラスでできているもので
あれば、粗洗浄ブラシ７は当接部がガラスなので、硬度
の高い材質（例えばポリプロピレン等）で作成し、膜層
側と当接する粗洗浄ブラシ６は膜層を傷つけないナイロ
ン，レーヨン等の低硬度のものを使用することにより、
洗浄効果はあがる。又、第４図に示す装置は、搬送ベル
ト2,粗洗浄ブラシ6,7,チャックベース13,仕上げブラシ1
4,圧縮ガスによる水切りノズル19,乾燥炉20で構成した
ものであるが、基板１が粗洗浄ブラシ6,7に搬送する方
向と、仕上げブラシへの搬送を基板位相を90度かえたも
ので、こうすることにより、異なる方向から基板上の異
物をブラシで接触するため、より洗浄効果があがる。
と、粗洗浄ブラシ6,7において、６は基板の膜層18に当
接するため、例えば基板１がガラスでできているもので
あれば、粗洗浄ブラシ７は当接部がガラスなので、硬度
の高い材質（例えばポリプロピレン等）で作成し、膜層
側と当接する粗洗浄ブラシ６は膜層を傷つけないナイロ
ン，レーヨン等の低硬度のものを使用することにより、
洗浄効果はあがる。又、第４図に示す装置は、搬送ベル
ト2,粗洗浄ブラシ6,7,チャックベース13,仕上げブラシ1
4,圧縮ガスによる水切りノズル19,乾燥炉20で構成した
ものであるが、基板１が粗洗浄ブラシ6,7に搬送する方
向と、仕上げブラシへの搬送を基板位相を90度かえたも
ので、こうすることにより、異なる方向から基板上の異
物をブラシで接触するため、より洗浄効果があがる。
発明の効果 以上の様な構成の装置であれば、基板の両面に付着し
た異物を同時に除去でき、ブラシ洗浄時の異物や汚れた
洗浄水の再付着がなく、微少異物のない膜層つきの基板
を提供できる。
た異物を同時に除去でき、ブラシ洗浄時の異物や汚れた
洗浄水の再付着がなく、微少異物のない膜層つきの基板
を提供できる。
第１図は本発明の粗洗浄部の側面図、第２図は搬送ベル
ト上の押し込み板の斜視図、第３図は仕上げ洗浄部の側
面図、第４図は他の実施例における洗浄装置の上面図、
第５図は従来装置の斜視図である。 １……基板、３……押し込み板、6,7……粗洗浄ブラ
シ、13……チャックベース、14……仕上げブラシ、8,9,
15……ノズル。
ト上の押し込み板の斜視図、第３図は仕上げ洗浄部の側
面図、第４図は他の実施例における洗浄装置の上面図、
第５図は従来装置の斜視図である。 １……基板、３……押し込み板、6,7……粗洗浄ブラ
シ、13……チャックベース、14……仕上げブラシ、8,9,
15……ノズル。
Claims (3)
- 【請求項１】基板を搬送する手段と、基板の両面に同時
に接触し、前記基板の搬送方向と相対する方向に回転す
る少なくとも２個以上の粗洗浄用ブラシと、この粗洗浄
用ブラシを通過後、前記基板の１面と接触する、少なく
とも１個以上の仕上げ用ブラシと、これらブラシの外周
接線方向へ洗浄水を供給する供給手段からなる基板の洗
浄装置。 - 【請求項２】粗洗浄用ブラシの材質を基板の表，裏面で
異ならせた特許請求の範囲第１項記載の基板の洗浄装
置。 - 【請求項３】基板の搬送方向を、粗洗浄用ブラシと、仕
上げ用ブラシでそれぞれ位相を変えて接触させるよう構
成した特許請求の範囲第１項記載の基板の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62245157A JP2512015B2 (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 | 基板の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62245157A JP2512015B2 (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 | 基板の洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6489388A JPS6489388A (en) | 1989-04-03 |
| JP2512015B2 true JP2512015B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=17129462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62245157A Expired - Fee Related JP2512015B2 (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 | 基板の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2512015B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100398894B1 (ko) * | 2001-01-02 | 2003-09-19 | 주식회사 주연엔지니어링 | 초 박판형 피시비 기판 제조 공정중 표면 처리 공정에 사용되는 정면기의 구동장치 |
| JP4494847B2 (ja) * | 2004-04-07 | 2010-06-30 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
| JP4668350B1 (ja) * | 2010-05-28 | 2011-04-13 | イーティーシステムエンジニアリング株式会社 | 半導体ウェーハの分離装置 |
| JP7193830B2 (ja) * | 2018-02-28 | 2022-12-21 | 紀伊産業株式会社 | 物品清掃装置 |
| CN109225979A (zh) * | 2018-10-11 | 2019-01-18 | 德清誉丰装饰材料有限公司 | 一种贴面板生产用木屑清理装置 |
-
1987
- 1987-09-29 JP JP62245157A patent/JP2512015B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6489388A (en) | 1989-04-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100488437B1 (ko) | 세정장치 | |
| US6990704B2 (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method | |
| KR102316901B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
| JP2512015B2 (ja) | 基板の洗浄装置 | |
| JP2003170124A (ja) | 板状チップの表面洗浄方法及び装置 | |
| JPH07283185A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JP3046003B2 (ja) | 電子デバイス用ガラス基板及びその製造方法 | |
| JP4200565B2 (ja) | 電子部品の洗浄方法 | |
| JP3442930B2 (ja) | 液晶表示パネルの洗浄方法 | |
| US4701973A (en) | Bottle duster | |
| US4854441A (en) | Bottle duster | |
| US5076303A (en) | Bottle duster | |
| JPH10261605A (ja) | 半導体処理装置 | |
| JPH09162159A (ja) | 回転式基板乾燥装置 | |
| JP5302781B2 (ja) | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを格納した記憶媒体 | |
| JPH09171983A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JPS60240129A (ja) | スクラブ洗浄装置 | |
| JPH08267024A (ja) | スクラブ洗浄装置 | |
| JP3493676B2 (ja) | 半導体基板の洗浄方法および洗浄装置 | |
| JP2000150441A (ja) | ローラブラシ洗浄装置 | |
| JPH09326377A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2628168B2 (ja) | 半導体ウエーハの表面処理装置 | |
| JPH0766161A (ja) | ウエ−ハ枚葉洗浄装置 | |
| JPH0710382B2 (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
| JPS6143430A (ja) | カセツト洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |