JPH0710382B2 - 基板洗浄装置および基板洗浄方法 - Google Patents
基板洗浄装置および基板洗浄方法Info
- Publication number
- JPH0710382B2 JPH0710382B2 JP6855888A JP6855888A JPH0710382B2 JP H0710382 B2 JPH0710382 B2 JP H0710382B2 JP 6855888 A JP6855888 A JP 6855888A JP 6855888 A JP6855888 A JP 6855888A JP H0710382 B2 JPH0710382 B2 JP H0710382B2
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- brushes
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガラス基板等の特に液晶基板等の片面に有
機、無機材料からなる膜が形成されている基板の洗浄装
置に関するものである。
機、無機材料からなる膜が形成されている基板の洗浄装
置に関するものである。
従来の技術 液晶用ガラス基板や、IC用ウェハー等の素材基板は、特
に基板表面に付着した異物が問題となり、不良を発生さ
せる原因となっている。例えば液晶用ガラス基板では、
異物として、ガラステッピングや、金属粉が付着した状
態でパネル化を行なうと、この異物周辺が配向不良を発
生させたり、異物が基板の画素を覆うために点欠陥とな
ったりする。このことから従来では高圧の純水やガスを
噴出し異物を飛ばすハイプレッシャー方式の装置や第４
図にあるブラシ12を用いて載置された基板１の上を純水
をかけながらこすり落とす方法があった。
に基板表面に付着した異物が問題となり、不良を発生さ
せる原因となっている。例えば液晶用ガラス基板では、
異物として、ガラステッピングや、金属粉が付着した状
態でパネル化を行なうと、この異物周辺が配向不良を発
生させたり、異物が基板の画素を覆うために点欠陥とな
ったりする。このことから従来では高圧の純水やガスを
噴出し異物を飛ばすハイプレッシャー方式の装置や第４
図にあるブラシ12を用いて載置された基板１の上を純水
をかけながらこすり落とす方法があった。
発明が解決しようとする課題 このような従来の基板洗浄では、最近の高密度化に伴う
微少異物を除去することが難しく、ハイプレッシャー方
式では、かなり高圧にしないと微少異物にかかる圧力が
小さいことから、除去できず、液晶基板のように片面に
透明電極層や配向膜層、あるいは、保護層が100Å〜100
0Åで形成されているものは、膜が傷つきやすく、噴出
圧力に限界がある。その為基板に接触する材料が選択で
き、膜に傷をつけない第４図の様なブラシ洗浄装置があ
るが、この装置では、基板載置面は洗浄できず、この面
に付着した異物は、パネル製造中、搬送途中において、
膜面に転移する。又ブラシの接点ての回転方向と、基板
の送り方向が同一であると、ブラシの異物除去がブラシ
毛足によるたたき落とし、吸着、こすり落とし等の力に
よるものであるため、こすりのものは、基板上を異物が
移動するだけで除去できない。又ブラシ毛足に吸着した
異物がブラシ回転の遠心力で飛ばないものは、１回転後
逆に異物つきブラシとなり、基板に対し再付着したり、
傷をつけたりする等の問題がある。
微少異物を除去することが難しく、ハイプレッシャー方
式では、かなり高圧にしないと微少異物にかかる圧力が
小さいことから、除去できず、液晶基板のように片面に
透明電極層や配向膜層、あるいは、保護層が100Å〜100
0Åで形成されているものは、膜が傷つきやすく、噴出
圧力に限界がある。その為基板に接触する材料が選択で
き、膜に傷をつけない第４図の様なブラシ洗浄装置があ
るが、この装置では、基板載置面は洗浄できず、この面
に付着した異物は、パネル製造中、搬送途中において、
膜面に転移する。又ブラシの接点ての回転方向と、基板
の送り方向が同一であると、ブラシの異物除去がブラシ
毛足によるたたき落とし、吸着、こすり落とし等の力に
よるものであるため、こすりのものは、基板上を異物が
移動するだけで除去できない。又ブラシ毛足に吸着した
異物がブラシ回転の遠心力で飛ばないものは、１回転後
逆に異物つきブラシとなり、基板に対し再付着したり、
傷をつけたりする等の問題がある。
本発明はかかる点に鑑み、液晶基板等に付着した異物を
再付着させることなく、確実に除去できる基板洗浄装置
を提供するものである。
再付着させることなく、確実に除去できる基板洗浄装置
を提供するものである。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するために、本発明の基板洗浄装置は、
基板の両面を粗洗浄ブラシで同時に粗洗浄し、その後膜
面を仕上げブラシで洗浄する構成となっており、また、
本発明の基板洗浄方法は、ブラシに突入する基板姿勢を
洗浄面積が除々に大きくなるように搬送し、ブラシ間を
通過させる方法となっている。
基板の両面を粗洗浄ブラシで同時に粗洗浄し、その後膜
面を仕上げブラシで洗浄する構成となっており、また、
本発明の基板洗浄方法は、ブラシに突入する基板姿勢を
洗浄面積が除々に大きくなるように搬送し、ブラシ間を
通過させる方法となっている。
作用 本発明は上記した構成および方法により、基板の両面を
同時に洗浄し、両面に付着した異物を同時に除去する。
基板はブラシに突入する時、基板姿勢を所定角度傾けて
いるため、ブラシに容易に突入し、又、基板を搬送する
搬送手段の基板当接カ所をブラシ間で異ならせるため、
基板が搬送手段で覆われているブラシ未接触部をなくす
ことができ、確実な洗浄効果が得られる。
同時に洗浄し、両面に付着した異物を同時に除去する。
基板はブラシに突入する時、基板姿勢を所定角度傾けて
いるため、ブラシに容易に突入し、又、基板を搬送する
搬送手段の基板当接カ所をブラシ間で異ならせるため、
基板が搬送手段で覆われているブラシ未接触部をなくす
ことができ、確実な洗浄効果が得られる。
実施例 以下本発明の一実施例を第１図〜第３図を用いて説明す
る。
る。
第１図〜第３図において、略矩形の基板１はその対角線
が搬送方法と平行になるように第１ベルト２上に載置さ
れ、後部を支持部材３にて支持している。第１ベルト２
と支持部材３は同速度で矢印Ａ方向へ進み、粗洗浄ブラ
シ4,5の間へ基板１を突入させる。６は純水供給ノズル
で純水を供給する。この時基板１は粗洗浄ブラシ4,5の
回転方向が相対する方向に回転しているため、強い抵抗
を受けるが、洗浄当初単位時間当りの洗浄面積が徐々に
大きくなるように、基板１はその姿勢が搬送方向に対し
所定角度傾けられ、つまり対角側で突入することから、
突入直前は抵抗が弱く、ある程度粗洗浄ブラシ4,5の中
へ入ってから抵抗が強くなるため、基板１がはじかれる
ことなく突入できる。又、基板支持部３の厚さは、基板
１が上下動した時にはずれないように、基板１厚みより
若干厚く構成されている。このため、基板１の異物が基
板支持部３の段差に集められて残留することがあるが、
基板支持部３の形状もその当接部が斜めに形成され、各
２辺の中央部にのみ当接するため、異物は対角側へ流さ
れてブラシ4,5により容易に除去できる。次に搬送用の
ベルトは、第１ベルト２が粗洗浄ブラシ５に入り込んで
おり、基板１の支持を行なって、両面同時ブラシ洗浄を
安定したものとしているが、第１ベルト２と基板１の当
接部分は粗洗浄ブラシ５が接触せず、未洗浄部となって
いる。この部分を、次の粗洗浄ブラシ7,8の間のプーリ
ー９で第２ベルト10に基板１を移し変え、未洗浄部を洗
浄する。こうして、粗洗浄ブラシ4,5,7,8で基板１の両
面を同時に洗浄することで、それぞれの面の異物がお互
いに回り込むことなく除去できる。その後、再度基板１
の膜面１′を仕上げブラシ11で洗浄する。
が搬送方法と平行になるように第１ベルト２上に載置さ
れ、後部を支持部材３にて支持している。第１ベルト２
と支持部材３は同速度で矢印Ａ方向へ進み、粗洗浄ブラ
シ4,5の間へ基板１を突入させる。６は純水供給ノズル
で純水を供給する。この時基板１は粗洗浄ブラシ4,5の
回転方向が相対する方向に回転しているため、強い抵抗
を受けるが、洗浄当初単位時間当りの洗浄面積が徐々に
大きくなるように、基板１はその姿勢が搬送方向に対し
所定角度傾けられ、つまり対角側で突入することから、
突入直前は抵抗が弱く、ある程度粗洗浄ブラシ4,5の中
へ入ってから抵抗が強くなるため、基板１がはじかれる
ことなく突入できる。又、基板支持部３の厚さは、基板
１が上下動した時にはずれないように、基板１厚みより
若干厚く構成されている。このため、基板１の異物が基
板支持部３の段差に集められて残留することがあるが、
基板支持部３の形状もその当接部が斜めに形成され、各
２辺の中央部にのみ当接するため、異物は対角側へ流さ
れてブラシ4,5により容易に除去できる。次に搬送用の
ベルトは、第１ベルト２が粗洗浄ブラシ５に入り込んで
おり、基板１の支持を行なって、両面同時ブラシ洗浄を
安定したものとしているが、第１ベルト２と基板１の当
接部分は粗洗浄ブラシ５が接触せず、未洗浄部となって
いる。この部分を、次の粗洗浄ブラシ7,8の間のプーリ
ー９で第２ベルト10に基板１を移し変え、未洗浄部を洗
浄する。こうして、粗洗浄ブラシ4,5,7,8で基板１の両
面を同時に洗浄することで、それぞれの面の異物がお互
いに回り込むことなく除去できる。その後、再度基板１
の膜面１′を仕上げブラシ11で洗浄する。
なお、第１〜第３図に示す実施例では、第１ベルト２、
第２ベルト10が、粗洗浄ブラシ５と８に入り込んでお
り、この部分のブラシは毛足を切断しておく等の処置が
必要であるが、粗洗浄ブラシ５と８の密度を、基板１の
膜面側１′に接触するブラシ4,7の密度より少ないもの
で構成すれば、毛足を切断することなく、ブラシ5,8中
にベルト1,2を入れることが可能である。更に、第１図
〜第３図では、ベルト2,10を図示上わかりやすく径の大
きいものにしているが、スチールワイヤー等の細い径の
ものだと、よりブラシ5,8を傷めることなく構成でき
る。
第２ベルト10が、粗洗浄ブラシ５と８に入り込んでお
り、この部分のブラシは毛足を切断しておく等の処置が
必要であるが、粗洗浄ブラシ５と８の密度を、基板１の
膜面側１′に接触するブラシ4,7の密度より少ないもの
で構成すれば、毛足を切断することなく、ブラシ5,8中
にベルト1,2を入れることが可能である。更に、第１図
〜第３図では、ベルト2,10を図示上わかりやすく径の大
きいものにしているが、スチールワイヤー等の細い径の
ものだと、よりブラシ5,8を傷めることなく構成でき
る。
なお、本実施例では、基板１の形状は矩形であったが、
三角形等の多角形，円形，楕円形のものでも良く、また
この場合、粗洗浄ブラシ4,5の洗浄面積が徐々に大きく
なるように支持部材３の基板との当接部分の形状を形成
すれば良い。
三角形等の多角形，円形，楕円形のものでも良く、また
この場合、粗洗浄ブラシ4,5の洗浄面積が徐々に大きく
なるように支持部材３の基板との当接部分の形状を形成
すれば良い。
発明の効果 以上の様に本発明によれば、基板の安定した搬送で、基
板の両面に付着した異物を同時に除去でき、確実な洗浄
効果を得るとともに、傷等のない基板を提供できる。
板の両面に付着した異物を同時に除去でき、確実な洗浄
効果を得るとともに、傷等のない基板を提供できる。
第１図は本発明の一実施例における基板洗浄装置の粗洗
浄部、仕上洗浄部を示す斜視図、第２図は同粗洗浄部の
上面図、第３図は同粗洗浄部の側面図、第４図は従来例
を示す斜視図である。 １……基板、２……第１ベルト、３……支持部材、4,5,
7,8……粗洗浄ブラシ、10……第２ベルト、11……仕上
げブラシ。
浄部、仕上洗浄部を示す斜視図、第２図は同粗洗浄部の
上面図、第３図は同粗洗浄部の側面図、第４図は従来例
を示す斜視図である。 １……基板、２……第１ベルト、３……支持部材、4,5,
7,8……粗洗浄ブラシ、10……第２ベルト、11……仕上
げブラシ。
Claims (4)
- 【請求項１】基板の両面に同時に接触し、前記基板の搬
送方向と相対する方向に回転する複数対の粗洗浄用ブラ
シと、この粗洗浄用ブラシを通過した前記基板の少なく
とも１面と接触する、少なくとも１個以上の仕上げ用ブ
ラシと、前記粗洗浄用ブラシに突入する基板姿勢をブラ
シの回転軸に対し、所定角度傾けて支持する支持手段
と、前記複数対の粗洗浄ブラシで基板と接触する当接位
置を異ならせる搬送手段とを備えてなる基板洗浄装置。 - 【請求項２】粗洗浄用ブラシの密度を基板の表面，裏面
で異ならせた請求項１に記載の基板洗浄装置。 - 【請求項３】基板の両面に接触し、前記基板の搬送方向
と相対する方向に回転する少なくとも一対の粗洗浄用ブ
ラシの間に洗浄面積が除々に大きくなるように前記基板
を搬送する搬送手段を備えた基板洗浄装置。 - 【請求項４】基板の両面に接触し、前記基板の搬送方向
と相対する方向に回転する少なくとも一対の粗洗浄用ブ
ラシの間に洗浄面積が除々に大きくなるように前記基板
を搬送させて通過させ、その後、仕上げ用ブラシで前記
基板の少なくとも一面を洗浄する基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6855888A JPH0710382B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6855888A JPH0710382B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01242184A JPH01242184A (ja) | 1989-09-27 |
| JPH0710382B2 true JPH0710382B2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=13377211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6855888A Expired - Fee Related JPH0710382B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0710382B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7806986B2 (en) | 2006-09-15 | 2010-10-05 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method using the same |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050109371A1 (en) | 2003-10-27 | 2005-05-26 | Applied Materials, Inc. | Post CMP scrubbing of substrates |
| JP4579071B2 (ja) * | 2005-07-06 | 2010-11-10 | ヒューグルエレクトロニクス株式会社 | 基板用搬送除塵装置 |
| CN110052467A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-07-26 | 佛山单常科技有限公司 | 一种智能化玻璃清洗设备 |
-
1988
- 1988-03-22 JP JP6855888A patent/JPH0710382B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7806986B2 (en) | 2006-09-15 | 2010-10-05 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01242184A (ja) | 1989-09-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |