JP4946707B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents

基板洗浄装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4946707B2
JP4946707B2 JP2007206072A JP2007206072A JP4946707B2 JP 4946707 B2 JP4946707 B2 JP 4946707B2 JP 2007206072 A JP2007206072 A JP 2007206072A JP 2007206072 A JP2007206072 A JP 2007206072A JP 4946707 B2 JP4946707 B2 JP 4946707B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
cleaning
cleaning cloth
cleaned
protrusion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007206072A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009043859A (ja
Inventor
真五 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2007206072A priority Critical patent/JP4946707B2/ja
Publication of JP2009043859A publication Critical patent/JP2009043859A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4946707B2 publication Critical patent/JP4946707B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

本発明は、液晶ディスプレイ用やプラズマディスプレイ用のガラス基板などの各種基板の被洗浄表面を洗浄する基板洗浄装置に関するものである。
従来、上記ガラス基板の製造工程においては、図13に示すように、ガラス基板41の側縁部に形成された電極42に各種部品44を実装する工程がある。その実装工程では、工程(a)で、供給されたガラス基板41における電極42が配置されている側縁部に付着している異物を除去する洗浄工程を行い、次に工程(b)で、電極42が配置されている側縁部に異方性導電膜(ACF)43を貼り付けるACF貼付工程を行い、次に工程(c)で、電極配置位置に部品44を供給して仮圧着した後、部品の本硬化接合の為に仮圧着より高い熱と圧力を加えて本圧着する工程が行われる。
上記基板の側縁部の表面付着物を洗浄する基板洗浄装置として、押圧子の基板表面に対する対向面にテープ状の洗浄クロスを供給するとともに、押圧子における前記対向面より洗浄クロスの送り方向上手側で吐出ヘッドから洗浄クロスに向けて洗浄剤を吐出し、押圧子にて洗浄剤を含んだ洗浄クロスを基板の側縁部に押し付けた状態で押圧子と基板を相対移動させて基板の側縁部表面を洗浄するようにしたものが知られている(特許文献1参照)。
この種の従来例の基板洗浄装置の構成を、図14、図15を参照して説明する。基板洗浄装置は、基板51を洗浄動作に伴って移動させる移動手段52と、基板51の洗浄を行う洗浄機構部53とを備えている。移動手段52にて基板51の中央部を支持し、基板51の側縁部の被洗浄表面の一端を洗浄機構部53における洗浄部54に位置決めするとともに、洗浄動作に伴って洗浄部54が側縁部に沿って被洗浄表面の他端まで相対移動するように基板51を移動させるように構成されている。洗浄機構部53の洗浄部54は、基板51の端縁部の上下に対向するように配置された一対の押圧子55a、55bを備え、両押圧子55a、55bをチャック機構(図示せず)にて開閉駆動し、押圧子55a、55bにて基板1の側縁部の上下両面の被洗浄表面に洗浄クロス56を押し付けるように構成されている。
洗浄クロス56は、各押圧子55a、55bに対応して設けられた、供給リール57a、57bから適宜ガイドローラ58を介して洗浄動作毎にピッチ送りされて供給され、押圧子55a、55bにおける基板51の被洗浄表面に対向する対向面60の上手側に設けられた傾斜ガイド部59を通過して対向面60に導かれ、対向面60にて基板51の被洗浄表面に圧接されて洗浄を行い、その後適宜ガイドローラ58を介して回収リール61a、61bに巻き取られるように構成されている。そして、押圧子55a、55bの傾斜ガイド部59に設けられた吐出口62からピッチ送りされる前の洗浄クロス56に向けて洗浄剤が吐出される。63は、洗浄クロス56に所要量の洗浄剤が適正に吐出されたことを色変化で検出して確認する検出センサである。
特許第3503512号明細書
ところで、上記構成の基板洗浄装置においては、図16(a)に示すように、押圧子55a、55bの対向面60にて洗浄剤を含んだ洗浄クロス56を基板51の被洗浄表面に押し付けた状態で、基板51と押圧子55a、55bを相対移動させることで、洗浄クロス56にて基板51の被洗浄表面を洗浄しているが、洗浄作業の短時間化を図るために、基板51と押圧子55a、55bの相対移動速度を速くすると、図16(b)に示すように、押圧子55a、55bの対向面60に沿って洗浄クロス56が滑って横ずれし、その後の洗浄を適正に行うことができなくなるという問題が発生した。
なお、洗浄クロス56を押圧子55a、55bに強く接触させてその摩擦力で洗浄クロス56の横ずれを防止することも考えられる。しかし、そのためには洗浄クロス56に大きな張力を作用させる必要があり、そうすると洗浄クロス56の張力によって押圧子55a、55bを基板51の被洗浄表面から離間させる力が作用し、押圧子55a、55bを簡単な構成で基板51の被洗浄表面に適切な力で押し付けることが困難になるという問題が発生する。
本発明は、上記従来の問題に鑑み、基板の被洗浄表面を洗浄速度を上げても安定して洗浄することができる基板洗浄装置を提供することを目的とする。
本発明の基板洗浄装置は、基板の被洗浄表面に押圧される押圧子と、押圧子の被洗浄表面に対する対向面にテープ状の洗浄クロスを間欠的に送る洗浄クロス送給手段と、洗浄クロスに洗浄剤を吐出する洗浄剤供給手段と、押圧子を基板の被洗浄表面の長手方向に相対移動させる移動手段とを備え、押圧子の対向面に、押圧子の相対移動方向と直交する方向に延びる1つ又は複数の突部を形成したものである。
この構成によれば、押圧子の被洗浄表面に対する対向面に押圧子の相対移動方向と直交する突部が形成されているため、押圧子の基板に対する相対移動時に洗浄クロスが突部にて係止され、洗浄クロスに大きな張力を作用させなくても、洗浄クロスが相対移動方向に位置ずれするのを確実に防止することができ、洗浄クロスの張力及び押圧子の押し付け力を増大させることなく洗浄速度を上げても基板の被洗浄表面を安定して洗浄することができる。また、押圧子の対向面に比して面積の小さい突部の頂面にて洗浄クロスを基板の被洗浄表面に接触させるため、押圧子の押し付け力が小さくても洗浄に必要な接触圧を確保することができる。また、洗浄クロスの突部の側部近傍に洗浄剤が多く含浸した部分が発生することで、押圧子の相対移動時に突部と被洗浄表面の間に向けて洗浄剤が円滑に供給され、そのため洗浄作用がより効果的に発揮される。また、突部を複数設けると、洗浄クロスが接触して洗浄を行う箇所が複数に増加するため一層洗浄性能が向上し、特に基板が大型で被洗浄表面の長さが長く、洗浄すべき面積が大きいために洗浄クロスとして幅寸法の大きいものを適用する場合に特に効果的である。
また、一対の押圧子が、基板の被洗浄表面を有する側縁部を両面から挟むように配設され、移動手段は一対の押圧子を基板の前記側縁部に沿って相対移動させる構成であると、基板の側縁部の表裏両面の被洗浄表面を同時に洗浄できるとともに、基板の側縁部を裏面から支持する必要がないので、基板の支持構成を簡単にできて装置構成をコンパクトにできる。
また、洗浄クロス送給手段は、押圧子の相対移動方向と直交しかつ対向面と交差するように傾斜させて押圧子に形成されたガイド部を通して対向面に洗浄クロスを送給し、対向面における送給された洗浄クロスの幅方向中央部に対向する位置に1つ又は複数の突部を配置すると、洗浄機構を、基板上方でなく、基板の相対移動方向と直交する一側部に配置できるので、装置構成をコンパクトにでき、しかもその場合洗浄クロスの幅方向に押圧子が相対移動することになるが、洗浄クロスが突部にて係止され、洗浄クロスに大きな張力を作用させなくても、洗浄クロスが横ずれしてしまうのを確実に防止することができ、洗浄クロスの張力及び押圧子の押し付け力を増大させることなく洗浄速度を上げても基板の被洗浄表面を安定して洗浄することができる。
また、ガイド部の先端縁と連続する突部の先端面を、対向面に対して略垂直な面で構成すると、洗浄クロスの送給時に洗浄クロスがガイド部から突部の先端面を介して突部の頂面及び対向面に向けて鈍角な角部で折れ曲がって摺動するので、ガイド部から直接突部の頂面及び対向面に向けて鋭角に折れ曲がる場合に比して円滑に送給することができる。
また、突部は、その高さを洗浄クロスの厚さの3〜5倍とするのが好適である。3倍未満であると、洗浄クロスの位置ずれや横ずれを確実に防止できない恐れがあり、逆に5倍を超えて高すぎると、洗浄クロスの送給時に突部の一側に偏って送給されてしまったり、突部の手前で皺が発生して洗浄剤が均等に含浸しなかったりする恐れがある。
また、突部の両側に間隔をあけて洗浄クロスの両側縁の位置規制を行う、突部とほぼ同じ高さの規制突部を設けると、洗浄クロスの送給時に洗浄クロスが突部の存在によって偏りを生じるのを確実に防止することができる。
また、突部の頂面に、突部延出方向に延びる1つ又は複数の溝を設けると、洗浄クロスが接触して洗浄を行う箇所が複数に増加するとともに溝部で洗浄剤の保持性能が高くなるため、洗浄性能が向上する。特に、基板が大型で、洗浄表面の長さが長いために、洗浄クロスとして幅寸法の大きいものを適用する場合に特に効果的である。また、突部の頂面に、凹凸を設けても同様の効果が得られる。
また、規制突部の先端に、基板の被洗浄表面の一側縁に形成されている段差部の高さの複数倍の寸法の面取部を設けるのが好適である。基板の被洗浄表面の一側縁に形成されている段差部近傍まで洗浄するため、押圧子の突部の先端面を段差部に近接させて相対移動させると、押圧子の取付角度の微小な誤差によっても押圧子の両側部が、段差部に干渉する恐れがある。これに対して、押圧子の両側部に位置する規制突部に面取部を形成することで、段差部の逃がし空間が形成されて、押圧子と段差部の干渉を確実に防止することができる。
また、基板の被洗浄表面に押圧される押圧子と、押圧子の被洗浄表面に対する対向面にテープ状の洗浄クロスを間欠的に送る洗浄クロス送給手段と、洗浄クロスに洗浄剤を吐出する洗浄剤供給手段と、押圧子を基板の被洗浄表面の長手方向に相対移動させる移動手段とを備え、押圧子の対向面に、押圧子の相対移動方向と直交する方向に延びる1つ又は複数の突部を形成し、突部は、斜面の傾斜角が20〜40度の台形の断面形状であるのが好適である。傾斜角が上記角度範囲未満の場合、洗浄クロスの位置ずれや横ずれを確実に防止することができず、上記角度範囲を超えた場合、洗浄クロスに皺を発生させたり、偏ったりして円滑に送給することができない場合が発生する恐れがある。しかし、洗浄クロスの物性等によっては角部を円弧面や面取り形状とした略矩形の断面形状とすることも可能である。
本発明の基板洗浄装置によれば、押圧子の被洗浄表面に対する対向面に押圧子の相対移動方向と直交する突部が形成されているため、押圧子の基板に対する相対移動時に洗浄クロスが突部にて係止され、洗浄クロスに大きな張力を作用させなくても、洗浄クロスが移動方向に位置ずれするのを確実に防止することができ、洗浄クロスの張力及び押圧子の押し付け力を増大させることなく洗浄速度を上げても基板の洗浄表面を安定して洗浄することができる。
以下、本発明を、液晶表示パネルのガラス基板の側縁部の被洗浄表面を洗浄して付着した異物を除去する基板洗浄装置に適用した一実施形態について、図1〜図12を参照して説明する。
図1〜図4において、本実施形態の基板洗浄装置は、ガラス基板などの基板1を基板洗浄装置に搬入する基板搬送手段2と、基板搬送手段2から基板1を受け取って洗浄動作に伴う移動を行う移動手段3と、基板1の側端部の表裏両面の被洗浄表面の洗浄を行う洗浄機構部4とを備え、各々基台5上に配設されている。なお、基板1の搬出は、後続工程であるACF貼付装置(図示せず)に設けられた、基板搬送手段2と同様の基板搬送手段(図示せず)にて行われる。
基板搬送手段2は、基板1を載置して両持支持する一対の支持アーム6a、6aを有する基板載置部6と、基板載置部6を基板搬送方向であるX方向に往復移動させる駆動機構7にて構成されている。駆動機構7は、基板載置部6を移動自在に支持する支持レール部7aと、モータ7cにて駆動されて基板載置部6を移動させる送りねじ機構7bにて構成されている。
移動手段3は、基板1の中央部を載置支持する基板保持部8と、基板保持部8をX方向と、それに直行するY方向と、垂直なZ方向と、Z軸回りのθ方向の移動及び位置決めを行う移動テーブル9にて構成されている。この移動手段3は、基板1を基板保持部8上に保持し、基板1の側縁部の表裏両面の被洗浄表面の一端を洗浄機構部4における後述の洗浄部10に位置決めするとともに、洗浄動作に伴って洗浄部10が基板1の側縁部に沿って被洗浄表面の他端まで相対移動するように基板1を移動させる。その相対移動速度は、40〜250mm/s程度に設定され、好適には100〜250mm/s程度の高速に設定される。ここで洗浄動作に伴って基板1を移動させるとしたが、洗浄部10を移動させても良く、また更に、基板1と洗浄部10の移動の組合せでも良い。
洗浄機構部4について説明すると、洗浄部10は、図2〜図6に示すように、基板保持部8にて保持された基板1の側縁部の上下に対向するように配置された一対の押圧子11a、11bを備えている。押圧子11a、11bとしては、耐薬品性に優れるとともに摺動性に優れたポリアセタール(POM)などの材料で構成するのが好適である。そして、両押圧子11a、11bをチャック機構(図示せず)にて開閉駆動して、これら押圧子11a、11bにて基板1の側縁部の上下両面の被洗浄表面にテープ状の洗浄クロス12を押し付けるように構成されている。両押圧子11a、11bのチャック力は、4〜9N程度が好適である。なお、押圧子11a、11b及びチャック機構(図示せず)は、基板1の高さ位置との位置ずれを吸収できるように上下方向に弾性的に支持されている。
洗浄クロス12は、押圧子11a、11bにそれぞれ対応して設けられた、洗浄クロス送給手段としての供給リール13a、13bから適宜ガイドローラ14を介して押圧子11a、11bの相対移動方向と直交する方向から押圧子11a、11bに供給される。供給された洗浄クロス12は、押圧子11a、11bにおける基板1の被洗浄表面に対向する対向面15の上手側に傾斜形成されたガイド部16を通過して対向面15に導かれる。対向面15にて基板1の被洗浄表面に接触されて洗浄を行った後の洗浄クロス12は、適宜ガイドローラ14を介して回収リール17a、17bに巻き取られる。洗浄クロス12に作用させる張力は、0.5〜1.8N程度である。洗浄クロス12は、供給リール13a、13bと回収リール17a、17bにて1回の洗浄動作毎にピッチ送りされる。
押圧子11a、11bのガイド部16には、エタノールやイソプロピルアルコールなどの揮発性の洗浄剤を洗浄クロス12に向けて吐出するように、洗浄剤供給手段としての吐出口18が開口されている。洗浄剤は、洗浄クロス12がピッチ送りされる前に、洗浄剤供給部(図示せず)から供給配管及び押圧子11a、11bに設けられた流路を介して吐出口18に所定量づつ圧送されて洗浄テープ12に向けて吐出される。洗浄クロス12に洗浄剤が含まれると、洗浄クロス12の色調が変化する。押圧子11a、11bのガイド部16に対向して、洗浄クロス12の色調変化を検出する検出センサ19が配設され、洗浄クロス12に所要量の洗浄剤が適正に吐出されたことを確認できるように構成されている。
以上のような全体構成の基板洗浄装置において、図5、図6に詳細に示すように、押圧子11a、11bの対向面15に、押圧子11a、11bの相対移動方向と直交する方向に延びる突部20が形成されている。対向面15及び突部20の長さは、基板1の被洗浄表面の幅寸法より大きく設定されている。突部20の高さhは、洗浄クロス12の厚さの3〜5倍程度が好適であり、具体例では、洗浄クロス12の厚さが0.2〜0.3mmであるため、突部20の高さhを1mmに設定している。また、突部20の断面形状は、斜面の傾斜角αを30度程度の台形にするとともに、洗浄クロス12及びガイド部16の幅寸法wが10mmであるため、突部20の頂面の幅寸法dを2mmとし、突部20の底部の幅寸法を略5.5mmに設定している。なお、斜面の傾斜角αは20〜40度に設定すれば良い。また、突部20の先端のガイド部16の先端縁に連続する先端面21は、対向面15に対して略垂直な面で構成されている。
押圧子11a、11bの対向面15の両側部には、突部20の両側に間隔をあけて洗浄クロス12の両側縁の位置規制を行う規制突部22が設けられ、かつ規制突部22の先端には面取部23が設けられている。規制突部22の高さは突部20の高さhと同じ高さに設定され、突部20と規制突部22の頂面が同一平面上に位置するように構成されている。また、面取部23の寸法も規制突部22の高さとほぼ同一寸法に設定されている。なお、面取部23の寸法は、基板1の被洗浄表面の一側縁を形成している段差部1a(図9参照)の高さ、すなわち基板1を構成しているガラス基板の厚さの複数倍の寸法に設定すれば良い。因みに、具体例を示すと、ガラス基板の厚さは0.4mmで、面取部23の寸法を1.2mmに設定している。なお、ガラス基板の厚さは薄くなる傾向にあり、5インチ以下のサイズのガラス基板では0.15mm程度まで薄くなることが予測されている。尚、面取部23の寸法は少なくともガラス基板の厚さより大きいことが好ましい。
次に、以上の構成の基板洗浄装置にて基板1の側縁部の上下の洗浄表面を洗浄する工程を図7を参照して説明する。まず、基板1を基板搬送手段2にて基板洗浄装置に搬入する。搬入された基板1は移動手段3の基板保持部8上に受け取られ、移動手段3にて基板1の側縁部の一端が、洗浄部10における一対の押圧子11a、11bの間に位置するように位置決めされる。この搬入動作と並行して、ガイド部16に対向位置している洗浄クロス12に対して吐出口18から洗浄剤を吐出し、洗浄クロス12に所要量の洗浄剤を含ませた状態とする。なお、洗浄クロス12に含んだ洗浄剤の滲み24(図4参照)を検出センサ19にて検出することで、洗浄クロス12に洗浄剤を十分に含んでいることが確認される。その後、洗浄クロス12を所定量送給し、押圧子11a、11bの対向面15と基板1の被洗浄表面との間に洗浄剤を含んだ部分を送給する。
次に、洗浄部10のチャック機構(図示せず)にて一対の押圧子11a、11b間の隙間を閉じることで、図8、図9に示すように、押圧子11a、11bの対向面15に形成された突部20にて洗浄クロス12が基板1の被洗浄表面に接触された状態となる。このように押圧子11a、11bの突部20にて洗浄クロス12が基板1の被洗浄表面に接触されている状態で、移動手段3を作動させて基板1を移動させ、押圧子11a、11bを基板1の側縁部に沿って被洗浄表面の他端に向けて相対移動させることで、基板1の被洗浄表面を洗浄する。なお、この洗浄動作は、1方向の移動のみによって、あるいは1回又は複数回の往復移動によって行われる。
その後、チャック機構(図示せず)にて一対の押圧子11a、11bを開き、移動手段3にて基板1を洗浄部10から離間させ、後続工程のACF貼付装置の基板搬送装置(図示せず)に受け渡されて搬出される。そして、基板搬送手段2にて次の基板1が搬入され、また吐出口18から洗浄剤が吐出され、洗浄クロス12に洗浄剤が十分に含浸されていることが確認された後、供給リール13a、13bと回収リール17a、17bにて洗浄クロス12がピッチ送りされ、以上の洗浄工程が繰り返される。
以上の本実施形態によれば、押圧子11a、11bの被洗浄表面に対する対向面に、基板1と押圧子11a、11bの相対移動方向と直交する突部20が形成されているため、押圧子11a、11bの基板1に対する相対移動時に、図8に示すように、洗浄クロス12が突部20にて係止された状態となっているため、洗浄クロス12に例えば1.8Nを超えるような大きな張力を作用させ、それに対応して押圧子11a、11bのチャック力を9Nを超えて大きくしなくても、洗浄クロス12が移動方向に位置ずれするのを確実に防止することができる。かくして、洗浄クロス12の張力及び押圧子11a、11bの押し付け力を増大させることなく、押圧子11a、11bと基板1の相対移動速度を、例えば100mm/s以上の速度に上げても基板1の被洗浄表面を安定して洗浄することができ、洗浄時間の短縮化を図ることができる。
また、押圧子11a、11bの対向面15に比して面積の小さい突部20の頂面にて洗浄クロス12を基板1の被洗浄表面に接触させるようにしているため、押圧子11a、11bに作用させる押し付け力が小さくても洗浄に必要な接触圧を確保することができ、よりコンパクトな構成のチャック機構(図示せず)にて効率的に洗浄することができるとともに、押し付け力が小さくて良いので、基板1の厚さが上記のように薄くなっても損傷の恐れなく確実に洗浄することができる。また、洗浄クロス12における突部20の側部近傍部分に洗浄剤を多く含浸した状態が発生するので、押圧子11a、11bと基板1の相対移動に伴って、突部20と被洗浄表面との間に対する洗浄剤の供給が円滑に行われ、洗浄作用がより効果的に発揮される。
また、一対の押圧子11a、11bが、基板1の側縁部を両面から挟むように配設され、移動手段3は基板1の中央部を支持してその側縁部に沿って一対の押圧子11a、11bを相対移動させる構成であるため、基板1の側縁部を裏面から支持する必要がなく、基板1の支持構成も簡単で、装置構成をコンパクトにできる。また、洗浄クロス12を、押圧子11a、11bの相対移動方向と直交する方向からガイド部16を通して対向面15に送給するように構成しているので、洗浄機構部4を、基板1上方でなく、基板1の移動方向と直交する一側部に配置できて、装置構成をコンパクトにできる。しかも、その場合洗浄クロス12の幅方向に押圧子11a、11bが相対移動することになるが、対向面15における送給された洗浄クロス12の幅方向中央部に対向する位置に突部20が配置されているので、洗浄クロス12が突部20にて係止され、上記のように洗浄クロス12が横ずれするのを確実に防止することができる。かくして、基板1の側縁部の被洗浄表面を洗浄速度を上げても洗浄しても安定して洗浄することができる。
また、ガイド部16の先端縁と連続する突部20の先端面21を、対向面15に対して略垂直な面で構成しているので、洗浄クロス12の送給時に洗浄クロス12がガイド部16から突部20の先端面21を介して突部20の頂面及び対向面15に向けて鈍角な角部で折れ曲がって摺動するので、ガイド部16から直接突部20の頂面及び対向面16に向けて鋭角に折れ曲がる場合に比して円滑に送給することができる。
また、突部20の両側に間隔をあけて洗浄クロス12の両側縁の位置規制を行う、突部20とほぼ同じ高さの規制突部22を設けているので、ガイド部16と規制突部22にて、押圧子11a、11bにおける洗浄クロス12の送給経路のほぼ全長にわたって洗浄クロス12の両側がガイドされることで、洗浄クロス12の送給時に、洗浄クロス12が突部20の存在によって偏りを生じるのを確実に防止することができる。
また、突部20の高さhを、洗浄クロス12の厚さの3〜5倍、具体的には1mmに設定することで、他の不具合を生じることなく上記作用を確実に得ることができる。突部20の高さを5倍を超えて高くした場合、図10(a)に示すように、洗浄クロス12の両側縁と規制突部22との間の隙間fが大きく発生し、洗浄動作時の洗浄クロス12の横ずれ代が大きくなるとともに、特に図10(b)に示すように、洗浄クロス12の送給時に突部20の一側方に偏って送給される恐れがある。また、その対策として、図10(c)に示すように、ガイド部16の幅を対向面15に向けて漸次狭くなるように形成することも考えられるが、その場合洗浄クロス12に突部20の手前で皺が発生して吐出口18から吐出された洗浄剤が洗浄クロス12に均等に含浸させることができず、信頼性の高い洗浄ができなくなる恐れがある。一方、突部20の高さhが、図10(d)に示すように、洗浄クロス12の厚さの3倍未満であると、洗浄クロス12の横ずれを確実に防止できない恐れがあり、上記作用を確実に得ることができない。
また、突部20の断面形状を、斜面の傾斜角が20〜40度の台形としているので、洗浄クロス12の送給時に洗浄クロス12に皺を発生させたり、偏って送給されたりすることもない。上記斜面の傾斜角が上記角度範囲未満の場合には、洗浄クロス12の横ずれ防止効果が確実に発揮されなくなり、逆に上記角度範囲を超えた場合には、洗浄クロス12の送給時に上記のような不具合を生じる恐れがある。しかし、洗浄クロス12の物性によっては、突部20の断面形状を上記のような台形ではなく、角部を円弧面や面取り形状とした略矩形にしても、上記作用効果を奏しかつ不具合を生じないようにすることが可能なこともある。
また、液晶パネル等において、表示画面を大きく確保しながらコンパクトな構成とするため、表示画面の周囲の幅寸法を小さくすることが求められており、それに伴って、図9に示すように、基板1の段差部1aの近傍、例えば段差部1aから0.3mm以下の位置まで被洗浄表面を洗浄することが求められることがある。その場合、押圧子11a、11bの突部20の先端面21を段差部1aに近接させて位置させた状態で、基板1と押圧子11a、11bを相対移動させることになるが、その場合押圧子11a、11bの取付角度の微小な誤差によっても押圧子11a、11bの両側部が、段差部1aに干渉する恐れがある。これに対して、本実施形態では、規制突部22の先端に、基板1の被洗浄表面の一側縁を形成している段差部1aの高さの複数倍の寸法の面取部23を設けているので、この面取部23にて段差部1aの逃がし空間が形成されるため、押圧子11a、11bと段差部1aの干渉を確実に防止することができる。
以上の説明では突部20の頂面を全面にわたって平面にて構成した例を示したが、突部20の頂面に突部20の延出方向に延びる1つ又は複数の溝を設けても良い。そうすると、溝部で洗浄剤の保持性能が高くなるため、洗浄性能が向上する。特に、基板1が大型で、被洗浄表面の長さが長いために、洗浄クロス12として幅寸法の大きいものを適用する場合に特に効果的である。また、突部20の頂面に、凹凸を設けても同様の効果が得られる。しかし、その場合洗浄クロス12の送給時の抵抗力が大きくならないように工夫するのが好ましい。
また、押圧子11a、11bの対向面15に1つの突部20を設けた例を示したが、図11に示すように、突部20を複数設けても良い。そうすると、洗浄クロス12が接触して洗浄を行う箇所が複数に増加するため一層洗浄性能が向上し、特に基板1が大型で被洗浄表面の長さが長いために洗浄クロス12として幅寸法の大きいものを適用する場合に特に効果的である。
また、押圧子11a、11bの対向面15の両側部に規制突部22を設けた例を示したが、図12に示すように、規制突部22を設けていない構成としても良い。
さらに、上記実施形態の説明では、基板1の側端部の表裏両面の被洗浄表面に対向させて一対の押圧子11a、11bを配設して基板1の側端部に沿って相対移動させるように構成するとともに、押圧子11a、11bの相対移動方向と直交する方向から対向面15に洗浄クロス12を送給し、対向面15における送給された洗浄クロス12の幅方向中央部に対向する位置に突部20を設けた例を示したが、押圧子11a、11bの相対移動方向と平行する方向から、押圧子11a、11bの対向面15と基板1の被洗浄表面との間に洗浄クロス12を送給するようにしても良い。その場合、押圧子11a、11bの対向面15に押圧子11a、11bの相対移動方向に適宜間隔をあけて複数の突部20を配設すると、基板1が大型で被洗浄表面が長くても確実にかつ効率的に洗浄することができる。
また、上記実施形態では、一対の押圧子11a、11bにて洗浄テープ12を基板1の表裏両面の被洗浄表面に接触させた状態で、移動手段3にて一対の押圧子11a、11bを基板1の被洗浄表面に沿って相対移動させて洗浄するように構成した例を示したが、基板1の任意箇所に存在する被洗浄表面を洗浄するため、被洗浄表面の裏面を支持した状態で、被洗浄表面に対して押圧子を押し付けて相対移動させるようにするとともに、その被洗浄表面と押圧子の対向面15との間に洗浄クロス12を送給するように構成した基板洗浄装置に本発明を適用し、その対向面15に相対移動と直交する方向の突部20を設けても同様の作用効果を奏することができる。
本発明の基板洗浄装置によれば、押圧子の被洗浄表面に対する対向面に押圧子の相対移動方向と直交する突部が形成されているため、押圧子の基板に対する相対移動時に洗浄クロスが突部にて係止され、洗浄クロスに大きな張力を作用させなくても、洗浄クロスが移動方向に位置ずれするのを確実に防止することができ、洗浄クロスの張力及び押圧子の押し付け力を増大させることなく洗浄速度を上げても基板の洗浄表面を安定して洗浄することができるので、各種基板に各種部品を実装する部品実装装置に好適に利用することができる。
本発明の基板洗浄装置の一実施形態の全体概略構成を示す斜視図。 同実施形態の要部構成を示し、(a)は側面図、(b)は(a)のA−A矢視図。 図2(a)の部分拡大側面図。 同実施形態における洗浄部の構成を示す斜視図。 同実施形態における一対の押圧子の斜視図。 同実施形態における押圧子を示し、(a)は正面図、(b)は側面図。 同実施形態における基板洗浄動作のフロー図。 同実施形態における洗浄部の正面図。 同実施形態における洗浄部の縦断側面図。 同実施形態における押圧子の突部の高さによる作用説明図。 他の構成例の押圧子を適用した洗浄部の正面図。 さらに別の構成例の押圧子を適用した洗浄部の正面図。 ガラス基板に対する部品実装工程を説明する斜視図。 従来例の基板洗浄装置の要部構成を示す側面図。 同従来例の洗浄部の構成を示す斜視図。 同従来例における洗浄動作時の挙動の説明図。
符号の説明
1 基板
1a 段差部
3 移動手段
10 洗浄部
11a、11b 押圧子
12 洗浄クロス
13a、13b 供給リール(洗浄クロス送給手段)
15 対向面
16 ガイド部
18 吐出口(洗浄剤供給手段)
20 突部
21 先端面
22 規制突部
23 面取部

Claims (8)

  1. 基板の被洗浄表面に押圧される押圧子と、押圧子の被洗浄表面に対する対向面にテープ状の洗浄クロスを間欠的に送る洗浄クロス送給手段と、洗浄クロスに洗浄剤を吐出する洗浄剤供給手段と、押圧子を基板の被洗浄表面の長手方向に相対移動させる移動手段とを備え、押圧子の対向面に、押圧子の相対移動方向と直交する方向に延びる1つ又は複数の突部を形成し、
    一対の押圧子が、基板の被洗浄表面を有する側縁部を両面から挟むように配設され、移動手段は一対の押圧子を基板の前記側縁部に沿って相対移動させるものであり、
    洗浄クロス送給手段は、押圧子の相対移動方向と直交しかつ対向面と交差するように傾斜させて押圧子に形成されたガイド部を通して対向面に洗浄クロスを送給し、対向面における送給された洗浄クロスの幅方向中央部に対向する位置に1つ又は複数の突部を配置したことを特徴とする基板洗浄装置。
  2. ガイド部の先端縁と連続する突部の先端面を、対向面に対して略垂直な面で構成したことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
  3. 突部は、その高さが洗浄クロスの厚さの3〜5倍であることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
  4. 突部の両側に間隔をあけて洗浄クロスの両側縁の位置規制を行う、突部とほぼ同じ高さの規制突部を設けたことを特徴とする請求項に記載の基板洗浄装置。
  5. 突部の頂面に、突部延出方向に延びる1つ又は複数の溝を設けたことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
  6. 突部の頂面に、凹凸を設けたことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
  7. 規制突部の先端に、基板の被洗浄表面の一側縁に形成されている段差部の高さの複数倍の寸法の面取部を設けたことを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄装置。
  8. 基板の被洗浄表面に押圧される押圧子と、押圧子の被洗浄表面に対する対向面にテープ状の洗浄クロスを間欠的に送る洗浄クロス送給手段と、洗浄クロスに洗浄剤を吐出する洗浄剤供給手段と、押圧子を基板の被洗浄表面の長手方向に相対移動させる移動手段とを備え、押圧子の対向面に、押圧子の相対移動方向と直交する方向に延びる1つ又は複数の突部を形成し、
    突部は、斜面の傾斜角が20〜40度の台形の断面形状であることを特徴とする基板洗浄装置。
JP2007206072A 2007-08-08 2007-08-08 基板洗浄装置 Expired - Fee Related JP4946707B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007206072A JP4946707B2 (ja) 2007-08-08 2007-08-08 基板洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007206072A JP4946707B2 (ja) 2007-08-08 2007-08-08 基板洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009043859A JP2009043859A (ja) 2009-02-26
JP4946707B2 true JP4946707B2 (ja) 2012-06-06

Family

ID=40444296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007206072A Expired - Fee Related JP4946707B2 (ja) 2007-08-08 2007-08-08 基板洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4946707B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5271242B2 (ja) * 2009-11-30 2013-08-21 パナソニック株式会社 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000214422A (ja) * 1999-01-26 2000-08-04 Hitachi Ltd 液晶パネルの拭き取り方法及び液晶パネルの拭き取り装置
JP2006127606A (ja) * 2004-10-27 2006-05-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ディスクの製造方法
JP2006058906A (ja) * 2005-10-05 2006-03-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガラス基板のクリーニング装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009043859A (ja) 2009-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4768556B2 (ja) 基板洗浄装置及び基板洗浄方法
JP5841449B2 (ja) 拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置
US7799142B2 (en) Apparatus and method for cleaning a board terminal
US8590450B2 (en) Cleaning apparatus and screen printing apparatus
JP4946707B2 (ja) 基板洗浄装置
WO2006064596A1 (ja) 基板の清掃装置及び清掃方法
JP4114416B2 (ja) 端子配列部洗浄装置
JP6968750B2 (ja) マスク清掃装置、印刷機、マスク清掃方法
JP5122233B2 (ja) 基板の清掃装置及び清掃方法
JP5271242B2 (ja) 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法
JP2007260643A (ja) ダイヘッド及び塗布装置
JP2002361182A (ja) ワーク清掃装置およびワーク清掃方法
KR101126505B1 (ko) 기판 처리 장치 및 실장기
JP2006293047A (ja) 表示装置の保持方法、搬送方法および洗浄方法並びに洗浄装置
KR20200115848A (ko) 필름 세정 장치
JP2006058906A (ja) ガラス基板のクリーニング装置
JP3561434B2 (ja) スクリーン印刷機及びスクリーン印刷方法
JP3182815U (ja) 塗布ノズル洗浄装置
JP2011167621A (ja) 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法
JP3682121B2 (ja) 洗浄装置
CN112074352B (zh) 涂布喷嘴的清洁方法和装置
KR20230023098A (ko) 잉크젯 헤드 세정 장치 및 이를 이용한 잉크젯 헤드 세정 방법
JP4393721B2 (ja) 液晶表示パネルの製造装置
JP2003112405A (ja) スクリ−ン印刷装置の裏拭き用スキ−ジ
JP4523195B2 (ja) 基板清掃装置およびその方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20090403

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20090416

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100302

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110803

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110823

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111019

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120207

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120220

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150316

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150316

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees