JP5271242B2 - 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法 - Google Patents
基板洗浄装置、および、基板洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5271242B2 JP5271242B2 JP2009272835A JP2009272835A JP5271242B2 JP 5271242 B2 JP5271242 B2 JP 5271242B2 JP 2009272835 A JP2009272835 A JP 2009272835A JP 2009272835 A JP2009272835 A JP 2009272835A JP 5271242 B2 JP5271242 B2 JP 5271242B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- pressing
- cleaning cloth
- cleaning
- relative movement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 181
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 227
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 163
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims abstract description 161
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 7
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Description
図2は、基板を洗浄中の押圧子近傍を示す斜視図である。
移動テーブル9は、押圧子11に対する基板1の位置を決定するための装置であり、基板保持部8と、移動手段3と、第二移動手段7とを備えている。
これらの図に示すように、押圧子11は、洗浄布12を基板1の表面に押し付けながら基板1と相対移動することにより、洗浄作業を行う部材であって、押付面15を表面に備える押付部25と、傾斜面16を表面に備える傾斜部26と、規制突起22とを備えている。
一方、搬出工程と共に、前記搬入工程が実施され、以降の工程が繰り返される。
なお、本願発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、本明細書において記載した構成要素を任意に組み合わせて実現される別の実施の形態を本願発明としてもよい。また、上記実施の形態に対して本願発明の趣旨、すなわち、特許請求の範囲に記載される文言が示す意味を逸脱しない範囲で当業者が思いつく各種変形を施して得られる変形例も本願発明に含まれる。また、「平行」や「平面」などの文言は本願発明の趣旨を逸脱しない程度の誤差を許容する意味で使用している。
3 移動手段
4 洗浄機構部
7 第二移動手段
8 基板保持部
9 移動テーブル
11 押圧子
12 洗浄布
13 洗浄布供給手段
14 ガイドローラ
15 押付面
16 傾斜面
17 回収リール
18 吐出口
19 検出センサ
22 規制突起
25 押付部
26 傾斜部
27 供給リール
30 基板洗浄装置
Claims (5)
- 基板の被洗浄表面に配置される長尺帯状の洗浄布の一部を基板に対して押し付ける押圧子と、前記押圧子を基板の被洗浄面に対して相対的に40mm/s以上、250mm/s以下の相対速度で移動させることにより洗浄布を基板に対して相対的に移動させる移動手段と、新しい洗浄布の部分を前記押圧子に供給する洗浄布供給手段とを備える基板洗浄装置であって、
前記押圧子は、
洗浄布を基板に4〜9Nのチャック力で押し付ける面であって、被洗浄表面と平行に配置される平面であり、前記押圧子と基板との相対移動方向における幅が5mm以上である押付面を表面に有する押付部と、
相対移動方向における前記押付面の両端縁にそれぞれ接続され、相対移動方向に沿って前記端縁から外側に向かって遠ざかるに従い徐々に基板と遠ざかるように配置される傾斜面を表面に有する傾斜部であって、前記傾斜面の相対移動方向における一端部から他端部を結んだ線の前記押付面に対する角度が15度以上、25度以下の範囲から選定される角度の傾斜面を有する二つの傾斜部と、
前記傾斜部の前記押付部と反対側の端縁と接続され、前記押付面を越えない長さで基板に向かって突出し、洗浄布の前記押圧子に対する相対移動方向のずれを規制する二つの規制突部とを有し、
前記洗浄布供給手段は、
洗浄布の幅により前記押付面の相対移動方向全体を跨ぐように洗浄布を配置し、洗浄布の長さ方向に0.5〜1.8Nの張力を与えて前記押付部と傾斜部とで形成される形状に洗浄布を沿わせる洗浄布供給手段であり、基板の被洗浄表面の相対移動方向の長さが650mm以上、1300mm以下の基板に対し、1度の相対移動により被洗浄表面の汚れの除去動作を行う
基板洗浄装置。 - 前記傾斜部が有する傾斜面は、前記押付部から外側に膨出する曲面である
請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記押圧子が洗浄布を基板に押し付ける方向である押圧方向における前記傾斜面の高さは、0.5mm以上、1mm以下の範囲から選定される長さである
請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 当該基板洗浄装置は、
基板を挟むように配設される二つの前記押圧子を備え、
前記移動手段は、
二つの前記押圧子を一体に基板に沿って相対的に移動させる
請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 基板の被洗浄表面に配置される長尺帯状の洗浄布の一部を基板に対して押し付ける押圧子であって、被洗浄表面と平行に配置される平面であり、前記押圧子と基板との相対移動方向における幅が5mm以上である押付面を表面に有する押付部と、相対移動方向における前記押付面の両端縁にそれぞれ接続され、相対移動方向に沿って前記端縁から外側に向かって遠ざかるに従い徐々に基板と遠ざかるように配置される傾斜面を表面に有する傾斜部であって、前記傾斜面の相対移動方向における一端部から他端部を結んだ線の前記押付面に対する角度が15度以上、25度以下の範囲から選定される角度の傾斜面を有する二つの傾斜部と、前記傾斜部の前記押付部と反対側の端縁と接続され、前記押付面を越えない長さで基板に向かって突出し、洗浄布の前記押圧子に対する相対移動方向のずれを規制する二つの規制突部とを有する押圧子と、前記押圧子を基板の被洗浄面に対して相対的に移動させることにより洗浄布を基板に対して相対的に移動させる移動手段と、新しい洗浄布の部分を前記押圧子に供給する洗浄布供給手段とを備える基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法であって、
前記押圧子の前記押付部により、洗浄布を基板に4〜9Nのチャック力で押し付け、
前記洗浄布供給手段により、洗浄布の幅により前記押付面の相対移動方向全体を跨ぐように洗浄布を配置し、洗浄布の長さ方向に0.5〜1.8Nの張力を与えて前記押付部と傾斜部とで形成される形状に洗浄布を沿わせ、
前記移動手段により、前記押圧子を基板に対して相対的に40mm/s以上、250mm/s以下の相対速度で移動させ、
被洗浄表面の相対移動方向の長さが650mm以上、1300mm以下の基板に対し、1度の相対移動により被洗浄表面の汚れの除去動作をおこなう
基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009272835A JP5271242B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009272835A JP5271242B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011115676A JP2011115676A (ja) | 2011-06-16 |
JP5271242B2 true JP5271242B2 (ja) | 2013-08-21 |
Family
ID=44281662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009272835A Expired - Fee Related JP5271242B2 (ja) | 2009-11-30 | 2009-11-30 | 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5271242B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101983355B1 (ko) * | 2012-06-22 | 2019-05-28 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 기판세정장치 |
CN103611695B (zh) * | 2013-11-28 | 2015-10-14 | 铜陵浩荣电子科技有限公司 | 覆铜板手工叠配台自动除尘装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001170593A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガラス基板のクリーニング装置 |
JP4650058B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-03-16 | セイコーエプソン株式会社 | 異物除去装置、電気光学装置の製造方法 |
JP4644202B2 (ja) * | 2005-04-01 | 2011-03-02 | パナソニック株式会社 | 基板端子クリーニング装置及び基板端子のクリーニング方法 |
JP4946707B2 (ja) * | 2007-08-08 | 2012-06-06 | パナソニック株式会社 | 基板洗浄装置 |
-
2009
- 2009-11-30 JP JP2009272835A patent/JP5271242B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011115676A (ja) | 2011-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4644202B2 (ja) | 基板端子クリーニング装置及び基板端子のクリーニング方法 | |
KR102011538B1 (ko) | 와이핑 패드 및 이 패드를 사용한 노즐 메인터넌스 장치와 도포 처리 장치 | |
TWI373813B (ja) | ||
JP5285783B2 (ja) | 拭取り清掃装置及び拭取り清掃方法 | |
ES2776256T3 (es) | Impresora de plantilla con ensamblado de lanzadera de plantilla | |
JP5271242B2 (ja) | 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法 | |
CN101236322B (zh) | 电光装置的制造方法、电光装置的制造装置 | |
JP2008019060A (ja) | アライメント方法、描画方法、アライメント機構および描画装置 | |
KR20140041394A (ko) | 스크린 인쇄 장치 및 스크린 인쇄 방법 | |
KR20070085666A (ko) | 기판의 청소 장치 및 청소 방법 | |
JP5017016B2 (ja) | スクリーン印刷方法およびスクリーン印刷機 | |
JP5122233B2 (ja) | 基板の清掃装置及び清掃方法 | |
KR101126505B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 실장기 | |
JP2011167621A (ja) | 基板洗浄装置、および、基板洗浄方法 | |
JP2007029798A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP2008018347A (ja) | アライメント方法、描画方法、アライメント機構および描画装置 | |
JP4946707B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP2009242114A (ja) | 液滴吐出装置 | |
JP2011064792A (ja) | 電子部品実装装置 | |
KR20050087361A (ko) | 기판 이송 장치 | |
JP2010017634A (ja) | 基板の清掃装置及び清掃方法 | |
KR20230023098A (ko) | 잉크젯 헤드 세정 장치 및 이를 이용한 잉크젯 헤드 세정 방법 | |
JP2015135835A (ja) | 部品の位置合わせ装置 | |
JP2004078229A (ja) | 接続部材貼付装置 | |
JP2004258368A (ja) | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法、並びに電気光学装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110601 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120913 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121211 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130430 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130510 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5271242 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |