JPS6348678A - 表面清掃装置 - Google Patents

表面清掃装置

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Publication number
JPS6348678A
JPS6348678A JP19054086A JP19054086A JPS6348678A JP S6348678 A JPS6348678 A JP S6348678A JP 19054086 A JP19054086 A JP 19054086A JP 19054086 A JP19054086 A JP 19054086A JP S6348678 A JPS6348678 A JP S6348678A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dust
adhesive
cleaned
cleaning device
magnetic disk
Prior art date
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Pending
Application number
JP19054086A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoji Suzuki
昇二 鈴木
Yasushi Ito
伊東 康
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP19054086A priority Critical patent/JPS6348678A/ja
Publication of JPS6348678A publication Critical patent/JPS6348678A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は表面清掃装置に関するものでろる、〔従来の技
術〕 従来の表面清掃装置は特開昭59−201229号公報
に記載されているように、被清掃物の表面に気体を吹き
付け、塵埃を吹き飛ばしている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術は、吹き飛ばされた塵埃によって再び被清
掃物の表面が汚染されるのと、吹き付けられた気体が形
成する視界層内に存在する微小な塵埃が除去し雌い欠点
があった。すなわち境界層内に穏れ易い微小な塵埃を除
去することができないばかシでなく、被清掃物の表面か
ら取シ去られた塵埃が空気中に浮遊し、表面を2次汚染
することが防止できない。
本発明は以上の点に鑑みなされたものでち見微小な塵埃
を除去し、かつ2次汚染を防止すると共に、効率向上を
可能とじ7’(表面清掃装置を提供することを目的とす
るものである。
〔問題点を解決するための手段」 上記目的は、除去手段を、被清掃物を挾んで対向配置さ
れ、かつ被清掃物をカロ圧する加圧手段が設けられた一
対の加圧ローラと、この刀り圧ローラの両側に対向配置
された一対の駆動ローラおよび超音波発振器および循環
フィルタを有する洗浄槽と、これら夫々の洗浄槽内から
夫々の駆動ローラおよび〃0圧ローラに跨る一連の、か
つ回転自任な一対の粘着ベルトとで形成し、粘着ベルト
で被清掃物表面の4埃の捕獲、この捕1した践埃の洗浄
槽での除去を、頂に繰返し連続して行うことにょう、達
成される。
〔作用〕
粘着ベルトは被清掃物の表面に接触して塵埃を付着捕獲
するので、微小な塵埃も捕j!される。粘着ベルトに付
着した塵埃は洗浄槽で除去される。
従って従来のように塵埃が空気中に浮遊することがなく
、被清掃物の表面が2次汚染されることがない。そして
粘着ベルトは一7清掃物表面のi塵埃を捕獲したら、そ
の捕獲した塵埃は洗浄槽で除去、洗浄されて繰返し使用
されるので、清掃の効率が向上する。
〔実施例〕
以下、図示した実施例に基づいて本発明を説明する。第
1図には本発明の一実施クリが示されている。本実施例
では被清掃物例えば磁気ディスクlの表面の塵埃を除去
する除去手段を有する表面清掃装置の除去手段を磁気デ
ィスク1を挾んで対向配置し、かつ磁気ディスクlを加
圧する加圧手段2を設けた一対の加圧ローラ3,3a、
このD口圧a−ラ3,3aの両側に対向配置した一対の
駆動ローラ4,4aおよび超音波発振器5および循環フ
ィルタ6を有する洗浄槽7,7a、これら夫々の洗浄槽
7,7aから夫々の駆動ローラ4.4aおよび却圧ロー
ラ3,3aに跨る一連の、かつ回転自任な一対の粘着ベ
ルト8.8a等で形成した、そして、粘着ベル)8.8
aで磁気ディスク1表面の1埃の捕獲、この捕獲した塵
埃の洗浄槽7゜7aでの除去を順に繰返し連続して行う
ようだした。このようにすることにより粘着ベルト8゜
8aで磁気ディスク1弐面の塵埃の(fl、 この捕獲
した塵埃の洗浄槽7.7aでの除去が順に繰返し連続し
て行われるようになって、微小な塵埃が除去され、磁気
ディスク1戒面の2次汚染が防止され、かつ清掃の効率
が向上するようになり、微小な塵埃を除去し、かつ2次
汚染を防止すると共に、効率向上を可能とした表面清掃
装置を得ることができる。
すなわち塵埃除去効果を有する粘着ベルト8゜sau駆
tbローラ4,4aによって回転1駆動される。加圧手
段2を介して叉持さ几た加圧ローラ3゜3aにより、粘
着ベル)8.8aは磁気ディスク1の表面と夫々接触す
る。粘着ベルト8,8aは超音波発振器5と循環フィル
タ6とを有する洗浄槽7,7aに夫々導かれ、捕獲した
1埃が洗浄除去される。洗浄後の粘着ベルト8,8aは
再び駆動ローラ4,4aKよって磁気ディスク1の表面
に送り込まれる。このように本実施例によれば粘着ベル
)8,8aKダストトラッピング作用の大きなプラスチ
ックを受用したので、粘着ベルト8゜8aの粘着性は長
時間安定な状、報を保持する。加えて水中で超音波発振
器5による超音波洗浄を受けるまでは捕獲した塵埃が脱
落することがなく、磁気ディスク1の表面f!:2次汚
染することがない。
また、粘着ベルト8,8a自身が粘着性を有しているの
で、磁気ディスクIC0表面に粘着性、m質が移着する
ことがない。このように粘着性を有する粘着ベルl−8
,8aで磁気ディスク1の表面の塵埃捕獲と、粘着ベル
ト8.8aの洗浄を連続的に行うことができるので、上
述の効果を奏するのみならず、高速、低価格の表面清掃
装置を得ることができる。
〔発明の効果〕
上述のように本発明は微小な塵埃が除去され、かつ2次
汚染が防止されると共に、効率が向上するようになって
、微小々塵埃を除去し、かつ2次汚染を防止すると共に
、効率向上を可能とした表面清掃装置を得ることができ
ろう
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の表面清掃装置の一実施例の正面図でろ
る。 1・・・磁気ディスク(被清掃物)、2・・・力ロ圧手
段、3.3a・・・加圧ローラ、4.4a・・・駆動ロ
ーラ、5・・・超音波発振器、6・・・循環フィルタ、
7,7a。 ・・・洗浄槽、8 + 8 a・・・粘着ベルト。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被清掃物の表面の塵埃を除去する除去手段が設けら
    れている表面清掃装置において、前記除去手段を、前記
    被清掃物を挾んで対向配置され、かつ被清掃物を加圧す
    る加圧手段が設けられた一対の加圧ローラと、この加圧
    ローラの両側に対向配置された一対の駆動ローラおよび
    超音波発振器、循環フィルタを有する洗浄槽と、これら
    夫々の洗浄槽内から夫々の、駆動ローラおよび加圧ロー
    ラに跨る一連の、かつ回転自在な一対の粘着自在な一対
    の粘着ベルトとで形成し、前記粘着ベルトで前記被清掃
    物表面の塵埃の捕獲、この捕獲した塵埃の前記洗浄槽で
    の除去を順に繰返し連続して行うようにしたことを特徴
    とする表面清掃装置。 2、前記被清掃物が、磁気ディスクまたは半導体基板で
    ある特許請求の範囲第1項記載の表面清掃装置。 3、前記粘着ベルトが、プラスチックで形成されたもの
    である特許請求の範囲第1項記載の表面清掃装置。
JP19054086A 1986-08-15 1986-08-15 表面清掃装置 Pending JPS6348678A (ja)

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JPS6348678A true JPS6348678A (ja) 1988-03-01

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0229437U (ja) * 1988-08-11 1990-02-26
JPH03221834A (ja) * 1990-01-29 1991-09-30 Kawasaki Steel Corp 鋼帯表面に付着した異物の付着量測定装置
JPH06296945A (ja) * 1993-04-19 1994-10-25 Amitec Corp 除塵装置
CN103028583A (zh) * 2011-09-28 2013-04-10 大日本网屏制造株式会社 基板处理装置以及基板处理方法
WO2020160231A1 (en) * 2019-01-31 2020-08-06 Applied Materials, Inc. Substrate cleaning devices and methods thereof

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0229437U (ja) * 1988-08-11 1990-02-26
JPH03221834A (ja) * 1990-01-29 1991-09-30 Kawasaki Steel Corp 鋼帯表面に付着した異物の付着量測定装置
JPH06296945A (ja) * 1993-04-19 1994-10-25 Amitec Corp 除塵装置
CN103028583A (zh) * 2011-09-28 2013-04-10 大日本网屏制造株式会社 基板处理装置以及基板处理方法
US9111966B2 (en) 2011-09-28 2015-08-18 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus and substrate processing method
WO2020160231A1 (en) * 2019-01-31 2020-08-06 Applied Materials, Inc. Substrate cleaning devices and methods thereof
US11745227B2 (en) 2019-01-31 2023-09-05 Applied Materials, Inc. Substrate cleaning devices and methods thereof

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