JP2003084258A - 液晶表示装置の製造方法および製造装置 - Google Patents

液晶表示装置の製造方法および製造装置

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JP2003084258A
JP2003084258A JP2001275886A JP2001275886A JP2003084258A JP 2003084258 A JP2003084258 A JP 2003084258A JP 2001275886 A JP2001275886 A JP 2001275886A JP 2001275886 A JP2001275886 A JP 2001275886A JP 2003084258 A JP2003084258 A JP 2003084258A
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洋一 ▲高▼原
Yoichi Takahara
Yasushi Sano
靖 佐野
Munehisa Mitsuya
宗久 三矢
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Abstract

(57)【要約】 【課題】大型基板に対応可能であって、基板上に形成さ
れたデバイスへのダメージを回避し、かつ異物の再付着
を低減させる簡便な洗浄方法が実用されていなかった。 【解決手段】上記課題を解決するために、短尺のスポン
ジ状のスクラブ治具を連ねて長尺の洗浄治具を形成し、
スクラブ治具と洗浄液のスプレー位置とを交互に配置す
ることにより、大型基板に対応可能で、しかも異物の再
付着が極めて少ない洗浄を実現した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本願発明は、液晶表示装置の
製造方法に係り、特に液晶表示装置を構成する板状の基
板の洗浄処理方法及びその洗浄処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に液晶表示装置に用いられるガラス
基板は近年ますます大形化され、従来の製造装置を単純
に拡大するだけでは十分な対応が困難な現状である。特
に洗浄工程では除去すべき異物の種類や量が多い。そし
て、液晶表示装置の画素の微細化や高性能化に伴い、洗
浄処理によって除去すべき異物粒子径はますます小さく
なり、より高性能な洗浄処理の可能な方法が望まれてい
る。
【0003】通常の超音波による洗浄やバブルジェット
による洗浄に比べ、ブラシ洗浄での異物除去力は非常に
高いため、従来から基板の受け入れ洗浄などにはブラシ
洗浄が用いられている。大形基板用のブラシ洗浄は、繊
維状のブラシをロール状に巻き付けたロール状ブラシを
基板の搬送方向に対して垂直に配置し、ロール状ブラシ
を回転させ、基板を水平に搬送しつつ、洗浄処理する方
法がとられていた。
【0004】ところが、ロール状ブラシ洗浄は、基板上
に形成されたトランジスタ等の素子を破壊したり、ブラ
シの先端が削れたブラシ屑の再付着があるため、トラン
ジスタ等の素子が形成された基板表面の洗浄には用いる
ことが出来なかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記した問題点を解決
するために、ブラシの径を細くすることによってトラン
ジスタ等の素子を構成する薄膜のはがれや傷の発生を抑
えることは可能であるが、それに伴い洗浄力は低下す
る。一方では、スクラブ材料として柔らかな材質である
ポリビニルアルコールを主原料とするスポンジ用いた場
合、基板上に形成されたトランジスタを構成する薄膜が
はがれたり、傷が形成されることは減少する。また、基
板との摩擦力を少なくする、更には基板との接触面で洗
浄液の液流を良くするために、表面に突起を有するもの
が良く、洗浄力はブラシと同等である。
【0006】しかしながら、現在の液晶表示装置を製造
する場合に使用されるガラス基板のサイズは約1m×1
mであって、この基板のサイズと同程度で表面に突起を
有するポリビニルアルコールを主原料としたロール状ス
クラブ治具を作製することは非常に困難である。短いス
クラブ治具を継ぎ足して長尺のロール状スクラブ治具を
形成することも考えられるが、その場合、洗浄処理時に
基板からの異物が継ぎ目に残留し、この異物が再び基板
の表面に付着したり、トランジスタを構成する薄膜のは
がれや傷の発生の原因になってしまう。
【0007】また、短いロール状スクラブ治具を用いた
場合、基板搬送方向に対して重なる部分が発生するた
め、最初のスクラブ治具で除去された異物が次のスクラ
ブ治具によって基板に押しつけられ、その結果、基板に
押し付けられた異物が再付着することになる。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、洗浄液の流れを解析し、短いロール状ス
クラブ洗浄治具を用いて、十分な洗浄効果を出せるよう
にした。即ち、板状の被処理基板を水平な方向に搬送す
る工程と、ロール状スクラブ洗浄治具と洗浄液供給治具
とを有する洗浄処理部に前記被処理基板を通過させる工
程ようにして、このロール状スクラブ洗浄治具の被処理
基板が搬送される方向の前方に洗浄液供給治具から洗浄
液を供給するようにして、被処理基板の表面を処理する
ようにした。
【0009】このとき、ロール状スクラブ洗浄治具が被
処理基板の表面を処理するときの処理範囲の重なり領域
が、被処理基板の搬送方向に略直交する方向で5%以上
50%以下なるように配置した。また、被処理基板に対
してロール状スクラブ洗浄治具及び洗浄液供給治具は片
面だけでなく、被処理基板を挟みこむように両面に設け
ても良い。
【0010】そして、ロール状スクラブ洗浄治具にはポ
リビニルアルコールを主原料とした材質を用い、その表
面には凹凸を設けて被処理基板の表面との摩擦力を極力
低減させ、更には基板との接触面で洗浄液の液流が向上
するようにした。
【0011】上記した構成の洗浄処理部を有する洗浄処
理方法をトランジスタ等の形成された液晶表示装置の製
造工程に用いることによって、従来技術に比較して基板
表面の異物付着量を低減させることが可能になり、表示
欠陥の少ない液晶表示装置を製造することが可能にな
る。尚、上記した洗浄方法を用いることによって、あら
ゆるサイズの基板にも対応させることが可能である。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を、図面
を用いて詳細に説明する。 (実施例1)図1は被処理基板に対してロール状スクラ
ブ治具と洗浄液供給治具との配置及び洗浄液の流れを模
式的に示した概略図である。図1の例では、ロール状ス
クラブ治具及び洗浄液供給治具を各々3個の場合である
が、一旦除去された異物が再付着しないようにするため
に、ロール状スクラブ治具は千鳥状に配置されている。
【0013】そして、スクラブ治具1とスクラブ治具2
またはスクラブ治具1とスクラブ治具3とが洗浄処理す
るときの重なり領域は、後述するが5%以上50%以下
が望ましい。そして、洗浄液供給治具4の洗浄液ノズル
を各スクラブ治具1、2、3における被処理基板11の
搬送方向6の前方に配置することで、一旦除去された異
物を含有する洗浄液の流れ5が、各スクラブ治具の間を
流れるようになり、再付着を防止できる。
【0014】以下、上記したロール状スクラブ治具及び
洗浄液供給治具とを用いた洗浄効果をより具体的に説明
する。図2はロール状スクラブ治具及び洗浄液供給治具
を各5個用いた場合であって、被処理基板11、ロール
状スクラブ治具7、9、洗浄液供給治具8、10との配
置関係を示したものである。そして、ロール状スクラブ
治具7、9には図3に示すように、スクラブ治具の表面
全体に突起13のあるポリビニルアルコールを主原料と
したスポンジを用いた。また、上記のロール状スクラブ
治具及び洗浄液供給治具を備えたスクラブ槽を含む洗浄
装置の概略図を図4に示した。
【0015】図2に示すように、被処理基板11の搬送
方向12から3個のロール状スクラブ治具9、2個のロ
ール状スクラブ治具7が順次配置され、また同様に3個
の洗浄液供給治具10、2個の洗浄液供給治具8が順次
配置されている。そして、ロール状スクラブ治具7、
9、及び洗浄液供給治具8、10とが被処理基板11の
表裏両面に設置されている。
【0016】スポンジ7および9は長さが140〜17
0mmで直径が70mmである。そして、スポンジ7と
9の重なり領域は各スポンジ部分で15〜75mmであ
り、スポンジのない部分の距離は110〜50mmにな
るようにした。洗浄液供給治具8、10は被処理基板1
1の搬送方向12の前方に設置し、基板搬送方向12と
逆方向に洗浄液の液流を発生させるように45°の傾斜
を設けた。洗浄液には例えば純水を用い、各洗浄液供給
治具からの液量は5L/minとした。また、被処理基
板11には、650mm×730mmのガラス基板を用
いた。
【0017】先ず、洗浄処理前に基板11上の異物の座
標及び個数を基板異物検査装置で測定してから、基板1
1を洗浄装置に投入する。基板11はスクラブ処理の前
に、紫外線を照射し、その後表面にリンス水を照射す
る。スクラブ治具7、9の回転は基板11の進行方向と
反対方向に回転させ、基板11に形成したマークを別途
設けた位置センサにより検出してスクラブ治具7、9の
回転を制御する。
【0018】スクラブ冶具7、9からの発塵を抑えるた
め、基板11のエッジがスクラブ冶具7、9と接すると
きには回転を停止させている。基板11はスクラブ処理
を終えた後、エアナイフにより乾燥されアンローダに回
収される。その後、基板異物検査装置により処理後の異
物座標と個数を測定する。
【0019】処理前後の異物の挙動を解析し、再付着異
物を求めた。スクラブ冶具7、9のスポンジ長さを14
0mm〜170mmの範囲で変化させ、またその重なり
領域の範囲を0%〜90%まで変えたときの異物の再付
着率を表1に示す。再付着率は、除去された異物数に対
する再付着異物数を%で表したものである。
【0020】
【表1】
【0021】表1に示した結果から明らかのように、ス
ポンジの長さに比較して処理すべき基板11の長さ(6
50mm)が圧倒的に大きいので、再付着異物数はスポ
ンジの長さに殆ど依存しないが、スポンジの重なり領域
の程度に大きな影響を受ける。即ち、スポンジの重なり
領域が5%以上50%以下とすることにより、異物の再
付着を1%以下にすることが出来、重なり領域を少なく
するほど洗浄効果が高くなることがわかる。但し、重な
り領域が全くない場合(0%)、基板11の表面をスク
ラブ処理されない領域が出来てしまい、異物除去と言う
観点では望ましくない。
【0022】(実施例2)ロール状スクラブ治具7、9
は、実施例1と同様の図3に示すように表面全体に突起
のあるポリビニルアルコールを主原料としたスポンジを
用いた。装置の槽構成は実施例1と同様に図4に示すも
のである。図5に本実施例であるスクラブ槽の側面図と
上面図とを示す。
【0023】実施例1との大きな違いはロール状スクラ
ブ治具7、9の配置の仕方である。即ち、基板11の搬
送方向からその反対の方向へ2連のロール状スクラブ治
具7、3連のロール状スクラブ治具9となるように配置
した。スポンジ7および9は長さが140mmで直径が
70mmである。スポンジ7と9の重なり領域は各部分
で15mm(21%)、42mm(60%)とし、スク
ラブ間の距離すなわちスポンジのない部分の距離は各々
約110mm、約60mmとした。洗浄液に純水を用
い、基板11の搬送方向12の前方に洗浄液供給ノズル
8、10を設置し、基板搬送方向12と逆方向に洗浄液
の液流を発生させるように45°の傾斜を設けた。各ノ
ズルからの液量は5L/minとした。洗浄処理には、
650mm×730mmのガラス基板を用いた。
【0024】基板の洗浄方法、基板上の異物の検査方
法、異物の再付着率の測定方法等は実施例1に場合と同
じである。その結果を表2に示したが、異物の再付着率
はロール状スクラブ治具の配置の仕方には無関係であっ
て、実施例1の場合と同様にスポンジの重なり領域を5
0%以下にすることにより、異物の再付着を1%以下に
抑制することが出来る。
【0025】
【表2】
【0026】(実施例3)ロール状スクラブ治具は、実
施例1と同様の図3に示すように表面全体に突起のある
ポリビニルアルコールを主原料としたスポンジを用い
た。装置の槽構成は実施例1と同様図4に示すものであ
る。
【0027】図6に本実施例であるスクラブ槽の側面図
と上面図とを示す。スポンジ7および9は長さが80m
mで直径が70mmである。スポンジ7と9の重なりは
各部分で10mmとし、スクラブ間の距離すなわちスポ
ンジのない部分の距離は60mmとした。洗浄液は純水
を用い、基板搬送方向前方にノズル8,10を設置し、
基板搬送方向と逆方向に液流を発生させるように45°
の傾斜を設けた。各ノズルからの液量は2.5L/mi
nとした。650mm×730mmのガラス基板を用い
て洗浄実験を行なった。
【0028】洗浄処理前後の異物の挙動を解析し、再付
着異物を求めた。異物の再付着率を表2に示す。その結
果、異物の再付着率は連ねて配置したスポンジの数には
関係せず、むしろ実施例1または2の場合と同様にスポ
ンジの重なり領域に大きく関係する。即ち、重なり領域
が25%であれば異物の再付着率を0.3%に抑えるこ
とが出来、表2に併記してないが、重なり領域が50%
以下でれば異物の再付着率を1%以下にすることが出来
る。
【0029】
【発明の効果】以上で説明したように、短尺スポンジ状
のスクラブ治具と洗浄液のスプレー位置とを交互に配置
することにより、大型基板の洗浄に対応可能で、しかも
異物の再付着を抑制することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明のスクラブ洗浄治具、洗浄液供給治
具、洗浄液の液流との関係を説明するための概念図であ
る。
【図2】実施例1におけるスクラブ洗浄を説明するため
の概略図である。
【図3】実施例1におけるスクラブ洗浄冶具(スポン
ジ)の概観図である。
【図4】実施例1におけるスクラブ洗浄処理装置の概略
構成を説明するための図である。
【図5】実施例2におけるスクラブ洗浄を説明するため
の概略図である。
【図6】実施例3におけるスクラブ洗浄を説明するため
の概略図である。
【符号の説明】
1…ロール状スクラブ治具1、2…ロール状スクラブ治
具2、3…ロール状スクラブ治具3、4…洗浄液供給治
具、5…異物含有洗浄液の流れ、6…基板搬送方向、7
…ロール状スクラブ治具1、8…洗浄液供給治具1、9
…ロール状スクラブ治具2、10…洗浄液供給治具2、
11…基板、12…基板搬送方向、13…突起付スクラ
ブ、14…軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C03C 23/00 C03C 23/00 A (72)発明者 三矢 宗久 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 Fターム(参考) 2H088 FA21 2H090 JC19 3B116 AA01 AB14 BA03 BA08 BA12 BB23 BC00 CC01 CC03 3B201 AA01 AB14 BA03 BA08 BA12 BB23 BB92 BC00 CC01 CC12 4G059 AA08 AB13 AC30

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】板状の被処理基板を水平な方向に搬送する
    工程と、ロール状スクラブ洗浄治具と洗浄液供給治具と
    を有する洗浄処理部に前記被処理基板を通過させる工程
    とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、前記ロー
    ル状スクラブ洗浄治具の被処理基板搬送方向の前方に洗
    浄液を供給して、前記被処理基板の表面を処理すること
    を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  2. 【請求項2】ロール状スクラブ洗浄治具と洗浄液供給治
    具とを有する洗浄処理部に、板状の被処理基板を水平方
    向に搬送して該被処理基板の表面を処理する液晶表示装
    置の製造方法であって、前記ロール状スクラブ洗浄治具
    が前記被処理基板の表面を処理するときの処理範囲の重
    なり領域が、前記被処理基板の搬送方向に略直交する方
    向で5%以上50%以下なるように配置し、かつ前記ロ
    ール状スクラブ洗浄治具の被処理基板搬送方向の前方に
    洗浄液を供給するようにしたことを特徴とする液晶表示
    装置の製造方法。
  3. 【請求項3】板状の被処理基板を水平方向に搬送する手
    段と、前記被処理基板の搬送方向に略直交する方向にロ
    ール状スクラブ洗浄治具を配置し、かつ該ロール状スク
    ラブ洗浄治具の被処理基板搬送方向の前方に洗浄液を供
    給する手段とを備え、前記ロール状スクラブ洗浄治具の
    被処理基板の搬送方向に垂直な方向の処理範囲の重なり
    領域が5%以上50%以下となるようにして、前記被処
    理基板の表面を処理することを特徴とした液晶表示装置
    の製造方法。
  4. 【請求項4】前記ロール状スクラブ洗浄治具が前記被処
    理基板の表面を処理するときの処理範囲の重なり領域
    が、前記被処理基板の搬送方向に略直交する方向で5%
    以上50%以下なるようにロール状スクラブ洗浄治具を
    配置してなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表
    示装置の製造方法。
  5. 【請求項5】前記ロール状スクラブ洗浄治具がポリビニ
    ルアルコールを主原料として構成されてなることを特徴
    とする請求項1〜3の何れかに記載の液晶表示装置の製
    造方法。
  6. 【請求項6】板状の被処理基板の上部にロール状スクラ
    ブ洗浄治具と洗浄液供給治具とが設置され、前記被処理
    基板の搬送方向に略直交する方向にロール状スクラブ洗
    浄治具の処理範囲の重なり領域が5%以上50%以下な
    るように配置され、かつ該ロール状スクラブ洗浄治具の
    被処理基板搬送方向の前方に前記洗浄液供給治具から洗
    浄液が供給されるようにしたことを特徴とする液晶表示
    装置の製造装置。
  7. 【請求項7】板状の被処理基板を挟むようにロール状ス
    クラブ洗浄治具と洗浄液供給治具とが設置され、前記被
    処理基板の搬送方向に略直交する方向にロール状スクラ
    ブ洗浄治具の処理範囲の重なり領域が5%以上50%以
    下なるように配置され、かつ該ロール状スクラブ洗浄治
    具の被処理基板搬送方向の前方に前記洗浄液供給治具か
    ら洗浄液が供給されるようにしたことを特徴とする液晶
    表示装置の製造装置。
  8. 【請求項8】前記ロール状スクラブ洗浄治具がポリビニ
    ルアルコールを主原料として構成されてなることを特徴
    とする請求項7または8に記載の液晶表示装置の製造装
    置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008069547A (ja) * 2006-09-13 2008-03-27 Yasuhiro Sakakibara 石綿回収装置
CN100443976C (zh) * 2005-02-05 2008-12-17 三发机电有限公司 用于供应偏光板的设备
JP2014042873A (ja) * 2012-08-27 2014-03-13 Hoya Corp 基板の製造方法及び基板洗浄装置

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