JP2007022866A - 円盤状ガラス基板の洗浄方法および磁気ディスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】円盤状ガラス基板1をその主表面が鉛直となるようにしつつ回転させ、その回転するガラス基板1の外周端面1aに、超音波を照射された洗浄液Wを流下させるガラス基板1の洗浄方法。前記洗浄方法を用いて複数枚のガラス基板1を洗浄する方法であって、複数枚のガラス基板1をそれらの下部を露出させかつ互いに離隔させて鉛直に保持できる基板ケース20に収納し、ガラス基板1をその露出した下部の外周端面1aが2本の回転可能なシャフト2A、2Bに接触するように載せて支持し、シャフト2A、2Bを回転させてガラス基板1を回転させる円盤状ガラス基板の洗浄方法。
【選択図】図1
Description
ガラス基板の洗浄はこれを洗剤槽、純水槽等の複数の洗浄液槽に順次浸漬し超音波洗浄して行うことが一般的であったが、近年、ガラス基板に強固に付着した研磨剤付着物を確実かつ効率的に除去することを目的として前記超音波洗浄の前または途中でスクラブ洗浄を行うことが提案されている(特許文献1参照)。なお、スクラブ洗浄とはスクラブパッドが表面に形成された2本のスクラブローラをそれらの間にガラス基板を挟み込むようにして反対向きに回転させ、かつそのガラス基板を回転させながらガラス基板の洗浄を行うものである。
この問題を解決するためには高記録密度化のためにガラス基板主表面の清浄度を向上させるばかりではなく、ガラス基板外周端面の清浄度も向上させなければならない。なぜならガラス基板外周端面の清浄度が不十分であると、そのガラス基板をハンドリングする過程で清浄度が不十分な端面に存在する汚れがガラス基板主表面に広がり記録領域割合が低下するからである。
本発明はガラス基板外周端面の清浄度を向上させることが可能なガラス基板の洗浄方法およびそのような洗浄方法によって洗浄されたガラス基板を用いる磁気ディスクの提供を目的とする。
また、前記円盤状ガラス基板の洗浄方法を用いて複数枚の円盤状ガラス基板を洗浄する方法であって、複数枚の円盤状ガラス基板をそれぞれの中心点まわりに回転させる方法として、複数枚の円盤状ガラス基板をそれらの下部を露出させかつ互いに離隔させて鉛直に保持できる基板ケースに収納し、当該複数枚の円盤状ガラス基板を2本の回転可能なシャフトの上に前記露出した下部の外周端面が当該2本の回転可能なシャフトと接触するようにして載せて支持し、その2本の回転可能なシャフトを回転させて各円盤状ガラス基板をその中心点まわりに回転させる方法を用いる円盤状ガラス基板の洗浄方法(複数枚基板洗浄方法)を提供する。
また、前記円盤状ガラス基板の洗浄方法によって洗浄された磁気ディスク用ガラス基板を用いて製造された磁気ディスクを提供する。
また、外径の小さなガラス基板の端面洗浄も容易に行える。
また、スクラブ洗浄であれば通常は複数回洗浄しなければ得られないような高清浄度の端面が1回の洗浄で得られる。また、その洗浄時間も短くできる。
また、洗浄液中に浸漬して超音波洗浄する場合には、ガラス基板の大きさ毎に異なる大きさの洗浄液槽を使用しなければならない、ガラス基板から取り除かれた汚れが洗浄液中に滞留しそれがガラス基板に再付着する可能性が高い、という問題があるが、本発明によればそのような問題は起こらない、または起こりにくい。
スクラブ洗浄であれば1枚づつでしか洗浄できないが、本発明の複数枚基板洗浄方法によれば複数枚を同時に洗浄できる。また、洗浄のためにガラス基板を基板ケースから取り出したり、洗浄後ガラス基板を基板ケースに再度収納したりすることが不要になる。
以下では、ガラス基板が磁気ディスク用ガラス基板である場合について、複数枚基板洗浄方法を説明するための図である図1、2を用いて本発明の洗浄方法を説明するが、本発明はこれに限定されない。
図2は本発明の洗浄方法の概略を示す部分側面図である。なお、基板ケース20の図示は省略した。
1bは主表面、1cは内周端面である。
ガラス基板1は通常、図1に示すように中央部に孔が開けられたものであるが、本発明は孔を有しない円盤状ガラス基板にも適用できる。
3は駆動シャフトであり、これが回転することにより回転シャフト2A、2Bが回転する。
ガラス基板1の回転方向は一定でもよいが、周期的に反転させることが好ましい。
流水式高周波超音波洗浄機としては本多電子社のもの、たとえばW−357LS−380が代表的であり、流水にメガヘルツの高周波を加えることで水等の洗浄液粒子が加速され、そのような洗浄液によってサブミクロンの微粒子が洗浄除去される。
前記W−357LS−380の場合、底面には洗浄液が流出する幅2mm、長さ400mmのスリット状ノズルが形成され、そのノズルの側面には長さが約100mmの超音波振動子が4個セットされており、これら超音波振動子からノズルを通過する洗浄液に向けて超音波が放射される。流出した洗浄液の幅は2mm、有効長さは380mmである。
図3はこのように複数枚のガラス基板1を保持している基板ケース20の断面図である。基板ケース20としては市販されているものが使用でき、その内面には各ガラス基板1を互いに離隔して保持するための凸部または凹部等の支持作用部(図示せず)を有する。
基板ケース20はそれを水平に保持した場合ガラス基板1を鉛直に保持するものであるが、通常、ガラス基板1は基板ケース20の支持作用部の上方部分にもたれかかるようにして保持されるのでガラス基板1は厳密に鉛直に保持されるわけではない。本発明でいう鉛直に保持するとはこのような場合を包含し、典型的には鉛直から3°以下の範囲で傾いている状態で保持している場合を包含する。
主表面1bの全領域に前記洗浄効果を及ぶようにしたい場合、Dは40mm以下であることが好ましい。
超音波を照射された洗浄液が流下し始める場所、前記W−357LS−380の場合についていえばノズル先端と、その洗浄液が流下して当たるガラス基板外周端面との距離は20mm以下であることが好ましい。20mm超では流下する洗浄液W中の超音波の減衰が大きくなり前記端面の清浄度の向上が不十分になるおそれがある。より好ましくは5mm以下、典型的には3mm以下である。
SiO2−Al2O3−R2O−RO系ガラス(R2Oはアルカリ金属酸化物、ROはアルカリ土類金属酸化物)を加工、研削して、直径が28.5mm、厚みが0.6mmである円形ガラス板を作製した。
この円形ガラス板の中央に穴をあけ、面取り、研磨(精密研磨)等を行ってDが27.4mm、内周径が7.0mm、tが0.38mmである1.1インチガラス基板を作製した。
すなわち、流水式洗浄機としては前記本多電子社製W−357LS−380を、洗浄液としては純水(25℃における抵抗率:17MΩ・cm以上)を用い、洗浄機からガラス基板外周端面に流下する水の流量は前記スリットの長さ100mmにつき7L/分、洗浄機ノズル先端からガラス基板外周端面までの距離は1.5mm、超音波周波数は1MHz、超音波振動子パワーは250Wとして、2.5分間洗浄した。
洗浄の間ガラス基板は毎分180回転の速度で回転させ、また基板ケース等を支持している支持体を毎分10回/分の速度で左右に往復動させた。
このようにして得られたガラス基板のうちの2枚1a、1bの主表面(一方をA面、他方をB面という。)について、高さが0.01μm以上であるパーティクル(微小付着物)の個数と分布状況を日立電子エンジニアリング社製光学的欠陥検出器ODT(Optical Defect Analyser)で測定した。測定結果を表1に示す。なお、ここでいう外周近傍とは主表面の外周から3mm内側までの範囲を言う。
流水式洗浄機はウエハ洗浄に使用されることが知られているが、その際ウエハは水平に保持されその表面(主表面)に直接洗浄液が流下される。
例1と同様にして作製した1.1インチガラス基板1枚について、例1の本発明の洗浄方法にかえてこの公知の洗浄方法に準じた洗浄方法(平置き洗浄)を用いて洗浄した以外は例1と同様にして洗浄、乾燥した。なお、平置き洗浄は次のようにして行った。すなわち、外周部3点を樹脂製の傾斜した爪で保持して全体をメッシュベルトに載せ、ノズル先端から基板表面が5mmの位置を1.5分間で基板がノズル直下を通過するよう移動させ、次いで内周部を把持して反転させ、もう一方の面も同様に1.5分間でノズル直下を移動させることにより洗浄した。その後例1と同じケースに収納して洗浄・乾燥した。本例は比較例である。
例2は例1に比べてパーティクルの個数が多く、また、外周近傍への偏在がA面B面ともに認められるが、これは前記洗浄によって得られた外周端面の清浄度が不十分であったためにその後のガラス基板ハンドリングによって外周端面パーティクルが主表面外周近傍へ移動したのが原因であると考えられる。
例1と同様にして作製した1.1インチガラス基板2枚について、例1の本発明の洗浄方法にかえてスクラブ洗浄を用いて洗浄した以外は例1と同様にして洗浄、乾燥した。なお、スクラブ洗浄は次のようにして行った。すなわち、毎分100回転の速度でスポンジブラシ(スクラブロール)を回転させ、アルカリ洗剤液を用いて1枚につき10秒間洗浄した。本例は比較例である。
このようにして得られたガラス基板3a、3bの主表面について、例1の場合と同様にしてパーティクルの個数と分布状況を測定した。測定結果を表1に示す。
例1と比べると例3には20を超えるものが存在し、外周近傍への偏在が認められるものが存在する。
例1と同様にして1.1インチガラス基板50枚を作製した。
このガラス基板を例3と同様にしてスクラブ洗浄し、その後例1と同様にして洗浄、乾燥した。
このようにして得られたガラス基板のうちの2枚4a、4bの主表面について、大きさが1.5μm以上であるパーティクルの個数と分布状況をKLA−tencor社製OSA(Optical Surface Analyser)で測定した。測定結果を表2に示す。
例1と同様にして1.1インチガラス基板2枚を作製した。
このガラス基板を例3と同様にしてスクラブ洗浄し、その後例1における場合と同様にpH11のアルカリ洗剤液槽に浸漬して超音波洗浄し、第1の純水槽に浸漬して超音波洗浄し、最後に第2の純水槽に浸漬して超音波洗浄し、その後スピンドライ法によって乾燥した。本例は比較例である。
このようにして得られたガラス基板5a、5bの主表面について、例4の場合と同様にしてパーティクルの個数と分布状況を測定した。測定結果を表2に示す。
例1と同じガラスを加工、研削して、直径が22.5mm、厚みが0.6mmである円形ガラス板を作製した。
この円形ガラス板の中央に穴をあけ、面取り、研磨(精密研磨)等を行ってDが21.6mm、内周径が6.0mm、tが0.38mmである0.85インチガラス基板を作製した。
この0.85インチガラス基板50枚を例3と同様にしてスクラブ洗浄した。
すなわち、流水式洗浄機としては前記本多電子社製W−357LS−380を、洗浄液としては純水を用い、洗浄機からガラス基板外周端面に流下する水の流量は前記スリットの長さ100mmにつき7L/分、洗浄機ノズル先端からガラス基板外周端面までの距離は2mm、超音波周波数は1MHz、超音波振動子パワーは250Wとして、2.5分間洗浄した。
洗浄の間ガラス基板は毎分250回転の速度で回転させ、また基板ケース等を支持している支持体を毎分10回/分の速度で左右に往復動させた。
このようにして得られたガラス基板のうちの2枚6a、6bの主表面について、大きさが1.5μm以上であるパーティクルの個数と分布状況を前記OSAで測定した。測定結果を表3に示す。
例6と同様にして0.85インチガラス基板2枚を作製した。
このガラス基板を例3と同様にしてスクラブ洗浄し、その後例6における場合と同様にpH11のアルカリ洗剤液槽に浸漬して超音波洗浄し、第1の純水槽に浸漬して超音波洗浄し、最後に第2の純水槽に浸漬して超音波洗浄し、その後スピンドライ法によって乾燥した。本例は比較例である。
このようにして得られたガラス基板7a、7bの主表面について、例4の場合と同様にしてパーティクルの個数と分布状況を測定した。測定結果を表3に示す。
例7は例6よりもパーティクルの個数が多く、また洗浄が顕著に不十分なもの(7bのB面)が存在する。また、例7では外周近傍へのパーティクル偏在が認められるものが存在し外周端面の清浄度向上が不十分であることがわかる。
例6と同様にして0.85インチガラス基板50枚を作製した。
この0.85インチガラス基板50枚を例6において行ったと同様の本発明の洗浄方法によって洗浄した。
次に、ガラス基板をpH11のアルカリ洗剤液槽に浸漬して超音波洗浄し、第1の純水槽に浸漬して超音波洗浄し、最後に第2の純水槽に浸漬して超音波洗浄し、その後スピンドライ法によって乾燥した。
このようにして得られたガラス基板のうちの2枚8a、8bの主表面について、パーティクルの個数と分布状況を前記ODTで測定した。測定結果を表4に示す。
例6と同様にして作製した0.85インチガラス基板2枚について、例8の本発明の洗浄方法にかえて例3と同様のスクラブ洗浄を用いて洗浄した以外は例8と同様にして洗浄、乾燥した。本例は比較例である。
このようにして得られたガラス基板9a、9bの主表面について、例8の場合と同様にしてパーティクルの個数と分布状況を測定した。測定結果を表4に示す。
例9は例8よりもパーティクルの個数が多く、また洗浄が顕著に不十分なもの(9aのA面)が存在する。また、例9では外周近傍へのパーティクル偏在が認められるものが存在し外周端面の清浄度向上が不十分であることがわかる。
1a:外周端面
1b:主表面
1c:内周端面
2A、2B:回転シャフト
3:駆動シャフト
10:流水式洗浄機
20:基板ケース
W:洗浄液
Claims (7)
- 円盤状ガラス基板をその主表面が鉛直となるようにしつつその中心点まわりに回転させ、その回転するガラス基板の外周端面に、超音波を照射された洗浄液を流下させる円盤状ガラス基板の洗浄方法。
- 円盤状ガラス基板の直径が65mm未満である請求項1に記載の円盤状ガラス基板の洗浄方法。
- 洗浄液が水である請求項1または2に記載の円盤状ガラス基板の洗浄方法。
- 超音波を照射された洗浄液が流下し始める場所とその洗浄液が流下して当たるガラス基板の外周端面との距離が20mm以下である請求項1、2または3に記載の円盤状ガラス基板の洗浄方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の円盤状ガラス基板の洗浄方法を用いて複数枚の円盤状ガラス基板を洗浄する方法であって、複数枚の円盤状ガラス基板をそれぞれの中心点まわりに回転させる方法として、複数枚の円盤状ガラス基板をそれらの下部を露出させかつ互いに離隔させて鉛直に保持できる基板ケースに収納し、当該複数枚の円盤状ガラス基板を2本の回転可能なシャフトの上に前記露出した下部の外周端面が当該2本の回転可能なシャフトと接触するようにして載せて支持し、その2本の回転可能なシャフトを回転させて各円盤状ガラス基板をその中心点まわりに回転させる方法を用いる円盤状ガラス基板の洗浄方法。
- 円盤状ガラス基板が磁気ディスク用ガラス基板である請求項1〜5のいずれかに記載の円盤状ガラス基板の洗浄方法。
- 請求項6に記載の円盤状ガラス基板の洗浄方法によって洗浄された磁気ディスク用ガラス基板を用いて製造された磁気ディスク。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099082A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | コニカミノルタ株式会社 | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
WO2014148421A1 (ja) * | 2013-03-22 | 2014-09-25 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
US9815092B2 (en) | 2013-07-04 | 2017-11-14 | Kaijo Corporation | Ultrasonic cleaning apparatus |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103988257A (zh) * | 2011-06-30 | 2014-08-13 | Hoya株式会社 | Hdd用玻璃基板的制造方法、hdd用玻璃基板以及hdd用磁记录介质 |
CN109013438B (zh) * | 2018-08-23 | 2020-04-14 | 安徽万磁电子有限公司 | 一种磁体自动清洗方法 |
CN108687004B (zh) * | 2018-08-23 | 2020-04-14 | 安徽万磁电子有限公司 | 一种磁体自动清洗装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000117206A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-25 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | ドーナツ型基板洗浄装置 |
JP2002074653A (ja) * | 2000-08-30 | 2002-03-15 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板並びに情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体 |
JP2003151943A (ja) * | 2001-11-19 | 2003-05-23 | Speedfam Clean System Co Ltd | スクラブ洗浄装置 |
JP2003174001A (ja) * | 2001-12-07 | 2003-06-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2003234322A (ja) * | 2002-02-06 | 2003-08-22 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の超音波処理装置及び超音波処理方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5624501A (en) * | 1995-09-26 | 1997-04-29 | Gill, Jr.; Gerald L. | Apparatus for cleaning semiconductor wafers |
JP3131149B2 (ja) * | 1996-05-09 | 2001-01-31 | スピードファムクリーンシステム株式会社 | 流液式スクラバ洗浄方法及び装置 |
JP3177736B2 (ja) * | 1997-09-17 | 2001-06-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
JP3331168B2 (ja) * | 1997-12-09 | 2002-10-07 | ティーディーケイ株式会社 | 洗浄方法および装置 |
WO2000074115A1 (en) * | 1999-05-27 | 2000-12-07 | Lam Research Corporation | Wafer cascade scrubber |
JP2001096245A (ja) | 1999-09-29 | 2001-04-10 | Systemseiko Co Ltd | 洗浄方法および洗浄装置 |
US6678911B2 (en) * | 2000-12-11 | 2004-01-20 | Speedfam-Ipec Corporation | Multiple vertical wafer cleaner |
JP2003151126A (ja) | 2001-11-09 | 2003-05-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法及びそれに使用する洗浄装置 |
-
2005
- 2005-07-19 JP JP2005208684A patent/JP4586660B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-06-27 SG SG200604380A patent/SG129361A1/en unknown
- 2006-07-14 US US11/486,010 patent/US7691207B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-07-18 CN CNA200610105939XA patent/CN1899710A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000117206A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-25 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | ドーナツ型基板洗浄装置 |
JP2002074653A (ja) * | 2000-08-30 | 2002-03-15 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板並びに情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体 |
JP2003151943A (ja) * | 2001-11-19 | 2003-05-23 | Speedfam Clean System Co Ltd | スクラブ洗浄装置 |
JP2003174001A (ja) * | 2001-12-07 | 2003-06-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2003234322A (ja) * | 2002-02-06 | 2003-08-22 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の超音波処理装置及び超音波処理方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099082A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | コニカミノルタ株式会社 | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
WO2014148421A1 (ja) * | 2013-03-22 | 2014-09-25 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
US9815092B2 (en) | 2013-07-04 | 2017-11-14 | Kaijo Corporation | Ultrasonic cleaning apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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