JP2002074653A - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板並びに情報記録媒体の製造方法及び情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄処理時間を増やすことなく、かつ、比較
的簡単な設備の追加により、研磨剤等の残留付着物を確
実に除去することを可能にする。 【解決手段】 ガラス基板を精密研磨した後の洗浄工程
において、洗剤による超音波洗浄工程と、純水による超
音波洗浄工程との間に、回転するスクラブパッド１ａ，
１ｂの間に、ガラス基板２を挟み込むようにし、支持ロ
ーラ３によってガラス基板２を回転しつつスクラブ洗浄
を行う工程を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報処理機器の記
録媒体として使用される情報記録媒体、及びその基板の
製造方法に関する。情報記録媒体用ガラス基板の製造方
法及び情報記録媒体用ガラス基板並びに情報記録媒体の
製造方法及び情報記録媒体

【０００２】

【従来の技術】情報処理機器の記録媒体として使用され
る情報記録媒体の一つとして磁気ディスクがある。磁気
ディスクは、基板上に磁性層等の薄膜を形成して構成さ
れたものであり、その基板としてはアルミやガラス基板
が用いられてきた。しかし、近年では、高記録密度化の
追及に呼応して、アルミと比べて磁気ヘッドと磁気ディ
スクとの間隔をより狭くすることが可能なガラス基板の
開発が急速に進められている。例えば、特開平１０−２
４１１４４号公報にあるように、ガラス基板の表面を酸
化セリウムで研磨した後、平均粒径の小さいコロイダル
シリカで精密研磨することによって、表面粗さＲａが
０．３ｎｍ以下の超平滑なガラス基板を得ている。

【０００３】上述したように、高記録密度化によって必
要な低フライングハイト化のためには、ガラス基板の高
い平滑性が必要とされるが、もはや、高精度に基板表面
を研磨するだけでは、十分な高い平滑性を得ることは難
かしくなってきている。つまり、いくら、高精度に研磨
していても基板上に異物が付着していては高い平滑性を
得ることはできず、精密研磨後の洗浄方法が大変重要に
なってきている。

【０００４】今までの、精密研磨後の洗浄方法として
は、ガラス基板の場合、例えば、特開平１０−２４１１
４４号公報等に開示されている方法がある。図５は、従
来の洗浄方法の工程説明図である。図５に示したよう
に、従来の洗浄法は、洗剤による超音波洗浄→純水によ
る超音波洗浄（リンス）→純水による超音波洗浄→ＩＰ
Ａ（イソプロピルアルコール）による超音波洗浄→ＩＰ
Ａの蒸気乾燥，の各工程からなるものである。なお、研
磨剤を効果的に除去するために、これらの洗浄の前に、
硫酸などによる酸処理を行うことも提案されている（特
願２０００−９３３０４号参照）

【０００５】また、一方、上述のような超音波洗浄以外
に、洗浄用スポンジ（スクラブパッド）を回転運動させ
ながら洗浄薬液をかけつつ回転したディスク基板に押し
当てて強制的にディスク基板表面を洗浄するスクラブ洗
浄という洗浄方法もあった（特公平７−１４５０９号公
報等参照）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の超音波
洗浄のみでは、比較的大きい研磨剤付着物を取り除くこ
とはできても、高い平滑性の要求に伴い研磨剤の平均粒
径が非常に小さいものや、強固に付着した研磨剤を確実
に落としきることは困難であった。これらの研磨剤を落
としきるには、複数の洗浄槽を準備し、さらに洗浄処理
の時間が増えるなど製造上の欠点があった。

【０００７】また、上述のスクラブ洗浄も同様で、比較
的大きい強固に付着した研磨剤付着物を取り除くことは
有効であるが、スクラブパッドに研磨剤が堆積すること
で、作業の維持が困難であった。

【０００８】そこで、本発明は、ディスク基板における
研磨剤等の残留付着物を確実に除去することができ、さ
らに大量に洗浄処理を行う情報記録媒体用ガラス基板の
製造工程においては、洗浄処理時間や設備も大きく増え
ることがない情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提
供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めの手段として、第１の手段は、ガラス基板を精密研磨
した後、洗剤による超音波洗浄と、純水による超音波洗
浄とを順に行い乾燥する洗浄・乾燥工程を有する情報記
録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記洗剤によ
る超音波洗浄と、純水による超音波洗浄の間に、スクラ
ブ洗浄を行うことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法である。第２の手段は、前記スクラブ洗浄
は、洗剤によるスクラブ洗浄と、純水によるスクラブ洗
浄を順に行うことを特徴とする第１の手段にかかる情報
記録媒体用ガラス基板の製造方法である。第３の手段
は、前記洗剤による超音波洗浄の前に、薬液処理を行う
ことを特徴とする第１又は第２の手段にかかる情報記録
媒体用ガラス基板の製造方法である。第４の手段は、前
記ガラス基板を精密研磨した後のいずれかの時点におい
て、ガラス基板を化学強化する工程を有し、この化学強
化工程の前又は後又は前後において、洗剤による超音波
洗浄、スクラブ洗浄及び純水による超音波洗浄を有する
洗浄工程を有することを特徴とする第１乃至第３のいず
れかの手段にかかる情報記録媒体用ガラス基板の製造方
法である。第５の手段は、前記ガラス基板は、磁気ディ
スク用ガラス基板であることを特徴とする第１乃至第４
の何れか一の手段かかる情報記録媒体用ガラス基板の製
造方法である。第６の手段は、第１乃至第５のいずれか
の製造方法で製造したことを特徴とする情報記録媒体用
ガラス基板である。第７の手段は、第１乃至第５の何れ
か一に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によ
って得られたガラス基板上に、少なくとも記録層を形成
することを特徴とする情報記録媒体の製造方法である。
第８の手段は、前記記録層が磁性層であることを特徴と
する第６の手段にかかる情報記録媒体の製造方法であ
る。第９の手段は、第７又は第８の製造方法で製造した
ことを特徴とする情報記録媒体である。

【００１０】上述のように、第１の手段は、ガラス基板
の主表面を精密研磨した後、洗剤による超音波洗浄と、
純水による超音波洗浄との間に、スクラブ洗浄を行うこ
とを特徴とする。

【００１１】ここで、各洗浄の役割を説明する。洗剤に
よる超音波洗浄は、主として研磨工程で使用した研磨
材、基板に付着した汚染物を除去する目的で行うもので
ある。使用する洗剤には特に制限はなく、取り除く汚染
物や研磨材、基板の材質などに応じて適宜選択される。
洗剤としては、既知のものを使用することができ、例え
ば、界面活性剤＋無機ビルダーとの配合液、酸性洗剤、
アルカリ洗剤などが挙げられる。洗浄時間については、
基板の大きさや処理枚数に応じて適宜調整する。例え
ば、３０〜２７０秒程度である。

【００１２】スクラブ洗浄は、洗剤や薬液（酸やアルカ
リ等）もしくは研磨材を純水による超音波洗浄槽へ持ち
込ませないようにするために行われ、洗剤による超音波
洗浄で取りきれなかった研磨材や基板表面に付着してい
る異物や洗剤、薬液等を機械的に（強制的に）除去する
効果がある。スクラブ洗浄で使用するスクラブ洗浄装置
は、既知のものを使用することができる。

【００１３】図１はスクラブ洗浄装置例の主要部を示す
斜視図、図２は図１に示されるスクラブ洗浄装置の上面
図である。これらの図に示すように、一般に、スクラブ
洗浄装置は、一対の洗浄用スクラブパッド１ａ，１ｂ
と、これらスクラブパッド１ａ，１ｂの間に挿入される
洗浄対象たるディスク基板２を回転駆動しながら支持す
る支持ローラ３と、洗浄液を供給するノズル４とを有す
る。一対の洗浄用スクラブパッド１ａ，１ｂは、洗浄対
象たるディスク基板２（この例では２枚）をその間に挟
むように対向配置され、互いに逆回転して、ディスク基
板２の表裏面に接触して洗浄する。支持ローラ３は、デ
ィスク基板２を支持すると共にこのディスク基板２自体
を回転させる。

【００１４】これにより、スクラブパッド１ａ，１ｂの
回転と合わせてディスク基板２の表裏面全体がスクラブ
パッド１ａ，１ｂに接触して洗浄するようになってい
る。なお、図示しないが、スクラブパッド１ａ，１ｂを
回転駆動させるためのパッド用回転駆動手段、支持ロー
ラ３を回転駆動させるための支持ローラ用回転駆動手
段、ノズル４からスクラブパッドやディスク基板に洗浄
液（洗剤又は純水）を供給する洗浄液供給機構等を備え
ていることは勿論である。

【００１５】図３はスクラブ洗浄装置の他の例の主要部
を示す上面図である。図３に示すスクラブ洗浄装置は、
ディスク基板２を１枚ずつ洗浄する方式の装置である。
図２に示すスクラブ洗浄装置によって１枚ずつ洗浄して
もよい。

【００１６】スクラブパッドの材質、形状等については
特に制限はない。材質としては、例えば、ポリビニルア
ルコール、ポリウレタン、ビニルアルコール、ポリプロ
ピレン、ナイロン等がある。また、スクラブパッドの形
状としては、円柱状、円盤状、ベルト状などがある。ま
た、スクラブパッドの表面形状としては、多孔質状、全
面また一部の面に突起が形成されたものなどを使用する
ことができる。さらには、パッドでなくても洗浄用ブラ
シを用いたスクラブ洗浄でも本発明と同様の効果が得ら
れる。

【００１７】スクラブ洗浄は、第２の手段にもあるよう
に、洗剤によるスクラブ洗浄と、純水によるスクラブ洗
浄とを行うことが好ましい。洗剤によるスクラブ洗浄
は、洗剤による超音波洗浄で取り切れなかった研磨材、
基板表面に付着している異物や洗剤、薬液等を機械的に
（強制的に）除去する効果がある。また、純水によるス
クラブ洗浄は、主に洗剤スクラブ洗浄で使用した洗剤の
除去の目的で行われる。使用する洗剤には特に制限はな
い。洗剤としては、先に掲げたものを使用することがで
きる。これらの洗浄処理時間については、基板の大きさ
や処理枚数に応じて適宜調整される。例えば、例えば、
２〜６０秒程度である。

【００１８】純水による超音波洗浄は、一連の洗浄工程
で使用した洗剤や薬液を次工程（化学強化処理や検査工
程、成膜工程等）に持ち込まないようにする目的で行わ
れる。洗浄処理時間については、基板の大きさや処理枚
数に応じて適宜調整する。例えば、１つの洗浄槽あた
り、３０〜２７０秒程度である。

【００１９】本発明は、洗剤による超音波洗浄→スクラ
ブ洗浄→純水による超音波洗浄の順序で行えば良いの
で、さらに洗剤による超音波洗浄の前にスクラブ洗浄、
純水による超音波洗浄の後にスクラブ洗浄を付加しても
かまわない。但し、洗剤と純水の超音波洗浄の間に、ス
クラブ洗浄を行わず、洗剤の超音波洗浄前にスクラブ洗
浄を行った場合は、以下の問題が生ずる。

【００２０】すなわち、スクラブ洗浄における研磨剤除
去の負担が高くなるため、スクラブパットへの研磨剤残
りが生じ、この研磨剤が純水による超音波洗浄槽に持ち
込まれる可能性が高くなる。また、洗剤の超音波洗浄で
使用した洗剤も同様に純水による超音波洗浄槽に持ち込
まれる可能性が高くなる。また、純水による超音波洗浄
後にスクラブ洗浄を行った場合においては、洗剤スクラ
ブ洗浄で使用した洗剤やパッド成分などが後工程（化学
強化工程や成膜工程など）に持ち込まれる可能性が高く
なるので良くない。

【００２１】洗剤、純水による超音波洗浄を行う洗浄槽
は、基板の大きさや処理枚数、スループットに応じ、複
数槽設けても良い。例えば、それぞれ１〜５槽程度であ
る。超音波洗浄する際には、ガラス基板が複数枚収納で
きる収納カセットにガラス基板をセットされて行われ
る。収納カセットの材質は、洗浄液に対して耐久性のあ
るものであれば何でも良く、材質には特に制限はない。

【００２２】また、洗剤超音波洗浄からスクラブ洗浄、
スクラブ洗浄から純水による超音波洗浄への基板の搬送
は、ロボットハンドなどの搬送手段によって行われる。
基板の搬送は、ガラス基板が洗浄液によって汚染される
ことを防止するために、スクラブ洗浄装置の上方から搬
入、搬出することが好ましい。

【００２３】また、本発明は、第３の手段にあるよう
に、前記洗剤による超音波洗浄の前に薬液処理を行って
も良い。薬液処理は、主として研磨剤の除去の促進など
の目的で行う。具体的には、酸やアルカリ等を用いた処
理である。

【００２４】また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
は、磁気ディスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板、光磁気ディスク用ガラス基板などであるが、特に、
高い平滑性が要求されている磁気ディスク用ガラス基板
に特に有効である。

【００２５】使用するガラス基板の硝種には特に制限は
ない。例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライ
ムガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケ
ートガラス、ソーダアルミノ珪酸ガラス、石英ガラス、
又は結晶化ガラスなどが挙げられる。

【００２６】ガラス基板として、耐衝撃性や耐振動性等
の向上を目的として、ガラス基板の表面に低温イオン交
換法による化学強化処理を施すことがある。ここで、化
学強化方法としては、従来より公知の化学強化法であれ
ば特に制限はないが、例えば、ガラス転移点の観点から
転移点温度を超えない領域でイオン交換を行う低温型化
学強化などが好ましい。化学強化に用いるアルカリ溶融
塩としては、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、或いはそ
れらを混合した溶融塩などが挙げられる。

【００２７】化学強化用ガラス基板としては、アルミノ
シリケートガラス、ソーダライムガラス、鉛ガラス等が
挙げられるが、中でも、前記酸処理による粗さ制御が可
能で、しかも化学強化することによる抗折強度、ヌープ
硬度などの機械的耐久性の点で、アルミノシリケートガ
ラスが好ましい。

【００２８】ガラス基板のサイズには特に制限はない。
１インチ、２．５インチ、３．０インチ、３．５インチ
等挙げられる。特に、洗浄処理面積の大きい、３．０イ
ンチ、３．５インチのガラス基板に対して、本発明の洗
浄方法は有効である。これは、比較的大きいガラス基板
（３．０インチ以上）は、表面積が大きいので、超音波
洗浄のみでは、洗浄の処理枚数増えるにしたがい、洗浄
能力低下が著しく、研磨残りが発生しやすくなるが、本
発明の洗浄方法によって超音波洗浄の洗浄能力が保た
れ、劇的に研磨剤残りが減少するからである。

【００２９】また、第７の手段のように、上記第１〜５
の手段によって得られたガラス基板上に少なくとも記録
層を形成して情報記録媒体とする。特に、記録層が磁性
層である磁気ディスクにおいては、磁気ヘッドとの低ス
ペーシング化が図れるので特に有効である。

【００３０】磁気ディスクは、通常、ガラス基板上に、
シード層、下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次積層
して製造する。磁気ディスクにおける下地層は、磁性層
の材料によって選定される。シード層は、磁性層の結晶
粒径を制御する目的で使用され、例えば、ＮｉＡｌ，Ｃ
ｒＴｉ，ＣｒＮｉなどが挙げられる。

【００３１】下地層としては、例えば、Ｃｒ，Ｍｏ，Ｔ
ａ，Ｔｉ，Ｗ，Ｖ，Ｂ，Ａｌなどの非磁性金属から選ば
れる少なくとも一種以上の材料からなるものが使用され
る。Ｃｏを主成分とする磁性層の場合には、磁気特性向
上の観点から、Ｃｒ合金とすることが好ましい。Ｃｒ合
金としては、ＣｒＶ，ＣｒＭｏ，ＣｒＷなどが挙げられ
る。下地層は単層でも複数層でもかまわない。

【００３２】磁性層としては、例えば、Ｃｏを主成分と
するＣｏＰｔ，ＣｏＣｒ，ＣｏＮｉ，ＣｏＮｉＣｒ，Ｃ
ｏＣｒＴａ，ＣｏＰｔＣｒ，ＣｏＮｉＰｔ，ＣｏＮｉＣ
ｒＰｔ，ＣｏＮｉＣｒＴａ，ＣｏＣｒＰｔＴａ，ＣｏＣ
ｒＰｔＢなどが挙げられる。

【００３３】保護層としては、例えば、Ｃｒ，Ｃｒ合
金、カーボン膜、水素化カーボン膜、窒化カーボン膜、
ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げられる。これらの保護
層は、シード層、下地層、磁性層等とともにインライン
型スパッタリング装置で連続して形成することができ
る。これらｎ保護層は、単層でも複数層でも良い。

【００３４】潤滑層は、例えば、液体潤滑剤であるパー
フルオロポリエーテルをフレオン系などの溶媒で希釈
し、媒体表面にディップ法などによって塗布し、必要に
応じ加熱処理を行って形成する。

【００３５】

【発明の実施の形態】以下、実施例に基づき本発明をさ
らに具体的に説明する。 （実施例１）この実施例は、磁気ディスク用ガラス基板
を製造し、さらに、そのガラス基板を用いて磁気ディス
クを製造した例である。この実施例は、（１）粗ラッピ
ング工程、（２）形状加工工程、（３）端面鏡面加工工
程、（４）精ラッピング工程、（５）第１研磨工程、
（６）第２研磨工程、（７）洗浄工程、（８）化学強化
工程、（９）磁気ディスク製造工程、の各工程からな
る。以下、これらの工程を詳細に説明する。

【００３６】（１） 粗ラッピング工程 まず、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いたダイレ
クトプレスして、直径９６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍの円
盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を
得た。尚、この場合、ダイレクトプレス以外に、ダウン
ドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削
砥石で切り出して円盤状のガラス基板を得ても良い。

【００３７】尚、アルミノシリケートガラスとしては、
ＳｉＯ₂：５８〜７５重量％、Ａｌ₂Ｏ₃：５〜２３重量
％、Ｌｉ₂Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ₂Ｏ：４〜１３重量
％を主成分として含有する化学強化ガラス（例えば、Ｓ
ｉＯ₂：６３．５重量％、Ａｌ₂Ｏ₃：１４．２重量％、
Ｎａ₂Ｏ：１０．４重量％、Ｌｉ₂Ｏ：５．４重量％、Ｚ
ｒＯ₂：６．０重量％、Ｓｂ₂Ｏ₃：０．４重量％、Ａｓ₂
Ｏ₃：０．１重量％含有するアルミノシリケートガラ
ス）を使用した。

【００３８】次いで、ガラス基板にラッピング工程を施
した。このラッピング工程は、寸法精度及び形状精度の
向上を目的としている。ラッピング工程は、ラッピング
工程は、両面ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒度
を＃４００で行った。詳しくは、はじめに粒度＃４００
のアルミナ砥粒を用い、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定
して、サンギアとインターナルギアを回転させることに
よって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精
度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ（ＪＩＳ
Ｂ ０６０１で測定）程度にラッピングした。

【００３９】（２） 形状加工工程 次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔
を空けると共に、外周端面も研削して直径を９５ｍｍφ
とした後、外周端面及び内周端面に所定の面取り加工を
施した。このときのガラス基板端面の表面粗さは、Ｒｍ
ａｘで４μｍ程度であった。

【００４０】（３） 端面鏡面加工工程 次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させなが
らガラス基板の端面（内周、外周）の表面粗さを、Ｒｍ
ａｘで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。上記
端面鏡面加工を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。

【００４１】（４） 精ラッピング工程 次に、砥粒の粒度を＃１０００に変え、ガラス基板表面
をラッピングすることにより、表面粗さをＲｍａｘで２
μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。上記ラッピン
グ工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽
（超音波印加）に順次浸漬して、超音波洗浄を行った。

【００４２】（５） 第１研磨工程 次に、第１研磨工程を実施した。この第１研磨工程は、
上述したラッピング工程で残留した傷や歪みの除去を目
的とするもので、両面研磨装置を用いて行った。詳しく
は、ポリシャとして硬質ポリシャ（セリウムパッドＭＨ
Ｃ１５：ローデルニッタ社製）を用い、研磨工程を実施
した。研磨条件は、研磨液として酸化セリウム（平均粒
径１．３μｍ）＋水とし、荷重：１００ｇ／ｃｍ²、研
磨時間：１５分とした。上記第１研磨工程を終えたガラ
ス基板を、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸
気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し乾燥
した。

【００４３】（６） 第２研磨工程 次に第１研磨工程で使用した両面研磨装置を用い、ポリ
シャを軟質ポリシャ（ポリテックス：スピードファム社
製）に変えて、第２研磨工程を実施した。この第２研磨
工程は、上述した第１研磨工程で得られた平坦な表面を
維持しつつ、例えば表面粗さＲａが１．０〜０．３μｍ
程度以下の粗さの低減を目的とするものである。研磨条
件は、研磨液として酸化セリウム（平均粒径０．８μ
ｍ）＋水とし、荷重：１００ｇ／ｃｍ²、研磨時間を５
分とした。上記第２研磨工程を終えたガラス基板を、中
性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各
洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し乾燥した。

【００４４】（７）洗浄工程 上記第２研磨工程を終えたガラス基板を、洗浄工程に移
し、洗浄する。図４は洗浄ラインを示す図である。図４
に示すように、この洗浄工程は、硫酸水溶液（薬液）に
よる超音波洗浄（ＵＳ）→純水による超音波洗浄→洗剤
による超音波洗浄→洗剤によるスクラブ洗浄→純水によ
る（リンス）スクラブ洗浄→純水による（リンス）超音
波洗浄→純水による（リンス）超音波洗浄→ＩＰＡによ
る超音波洗浄→ＩＰＡによる蒸気乾燥、の各工程からな
る。

【００４５】各洗浄槽間でのガス基板の搬送は、超音波
洗浄槽及びスクラブ洗浄装置のいずれにおいても上方か
ら搬送する。特に、洗剤による超音波洗浄槽からスクラ
ブ洗浄装置への搬送、及び、スクラブ洗浄装置から純水
による超音波洗浄槽への搬送の場合は、ガラス基板が洗
浄を終えた洗浄液や純水によって汚染されることを防止
するために上方から搬送することが極めて効果的であ
る。

【００４６】各洗浄槽間でのガス基板の搬送は、１パレ
ット（１列が２５枚×２列＝計５０枚）単位でディスク
把持具によって、各洗浄槽内にあるディスク保持具に全
数一括搬送される。

【００４７】また、洗剤槽から洗剤スクラブ装置への基
板搬送は、洗剤槽からディスク把持具によって取り出し
た基板を、純水を溜めてある待機用の純水槽でディスク
保持具によって一旦保管され、この純水槽からガラス基
板を２枚ずつロボットハンドで取り出し、スクラブ洗浄
装置の上方より洗剤スクラブ洗浄装置のスクラブパッド
間に搬送される。スクラブ洗浄装置間の基板の搬送は、
洗剤スクラブ洗浄を終えた２枚のガラス基板を順次ロボ
ットハンドによって、一括してリンススクラブ洗浄装置
に搬送する。

【００４８】リンススクラブ洗浄装置からリンス（超音
波洗浄）槽への基板の搬送は、純水が溜めてある待機用
の純水槽のディスク保持具に、リンススクラブ洗浄を終
えた２枚のガラス基板をロボットハンドによって搬送さ
れる。上述の一連のロボットハンドによるガラス基板の
搬送が全て終了した後、待機用純水槽にあるガラス基板
をディスク把持具によって把持し、リンス槽に搬送され
る。

【００４９】なお、本実施例における各洗浄槽やスクラ
ブ洗浄装置を横に複数列配置して、薬品槽からＩＰＡ蒸
気乾燥槽までの洗浄・乾燥工程を、複数ライン設け、複
数ライン同時に動かしてもかまわない。洗浄するガラス
基板の枚数は、洗浄槽、スクラブ洗浄装置の処理能力に
よって適宜選択されるものであって、実施例に限定され
ない。

【００５０】各洗浄槽、スクラブ洗浄における処理時間
は、薬液洗浄（ＵＳ）では、 ３０〜１２０秒、純水に
よる超音波洗浄（ＵＳ）では、６０〜１８０秒、洗剤に
よる超音波洗浄（ＵＳ）では、３０〜１８０秒、洗剤ス
クラブ洗浄では、１〜３０秒、純水（リンス）スクラブ
洗浄では、１〜６０秒、純水による超音波洗浄（ＵＳ）
では、１つの洗浄槽あたり６０〜１８０秒、ＩＰＡによ
る超音波洗浄（ＵＳ）では、６０〜１８０秒、ＩＰＡ蒸
気乾燥では、３０〜１２０秒の範囲で調整した。

【００５１】（８） 化学強化工程 次に、上記洗浄工程を終えたガラス基板に化学強化を施
した。化学強化は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混
合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を３８
０℃に加熱し、上記洗浄・乾燥済みのガラス基板を約２
時間浸漬して化学強化処理を行った。化学強化を終えた
ガラス基板を、硫酸（ＵＳ）、中性洗剤（ＵＳ）、純水
（ＵＳ）、純水（ＵＳ）、ＩＰＡ（ＵＳ）、ＩＰＡ（蒸
気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄・乾燥した。

【００５２】上記工程を経て得られたガラス基板の主表
面の表面粗さをＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定したと
ころ、Ｒｍａｘ＝２．４３ｎｍ、Ｒａ＝０．２２ｎｍと
超平滑な表面を持つ磁気ディスク用ガラス基板を得た。
また、ガラス基板の表面を表面観察したところ、研磨剤
残りや、その他異物は観察されなかった。また、洗浄・
乾燥工程後のガラス基板を、１００ｍｌの超純水が入っ
た石英ビーカに入れ、１０ｍｉｎ間超音波をかけた後、
その水をイオンクロマトグラフィー法により成分分析を
行った。その結果、Ｃｌが４．５ｎｇ／枚、ＳＯ₄が
４．２ｎｇ／枚であり、残存洗剤成分は全く問題になら
ないレベルであることが分かった

【００５３】（９） 磁気ディスク製造工程 上記工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の両
主表面に、インライン型スパッタリング装置を用いて、
ＮｉＡｌシード層、ＣｒＶ下地層、ＣｏＣｒＰｔＢ磁性
層、水素化カーボン保護層を順次成膜し、さらにディッ
プ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して
磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクについて、
タッチダウンハイト試験を実施したところ、タッチダウ
ンハイトが５ｎｍと良好な値を示した。また、ロードア
ンロード試験（１０万回）を行ってもヘッドがクラッシ
ュすることがなかった。

【００５４】（実施例２）上記の実施例１における硫酸
による超音波洗浄の代わりに、ケイフッ酸処理（ＵＳ）
（実施例２）をしたほかは、実施例１と同様に磁気ディ
スク用ガラス基板、及び磁気ディスクを作製した。

【００５５】上記工程を経て得られたガラス基板の主表
面の表面粗さをＡＦＭで測定したところ、Ｒｍａｘ＝
８．２３ｎｍ、Ｒａ＝０．９１ｎｍ（実施例２）と粗さ
が制御された平滑な表面を持つ磁気ディスク用ガラス基
板を得た。また、ガラス基板の表面を表面観察したとこ
ろ、研磨剤残りや、その他異物は観察されなかった。

【００５６】また、磁気ディスクについて、タッチダウ
ンハイト試験を実施したところ、タッチダウンハイト
８．５ｎｍ（実施例２）と良好な値を示した。また、実
施例２についてはＣＳＳ耐久試験（１０万回）を行って
もヘッドがクラッシュすることがなかった。

【００５７】（実施例３〜４）上記の実施例１のアルミ
ノシリケートガラスに変えて、ソーダライムガラス（実
施例３）、結晶化ガラス（実施例４）としたほか以外
は、実施例１と同様にして磁気ディスク用ガラス基板、
及び磁気ディスクを作製した。但し、実施例４の結晶化
ガラスの場合、実施例１の基板製造工程に加え、公知の
結晶化処理を行い、また、化学強化処理工程は行わず、
磁気ディスク用ガラス基板を作製した。

【００５８】これらのガラス基板の表面粗さをＡＦＭで
測定したところ、実施例１よりも若干表面粗さは荒れた
がほぼ同様の値となり、また、その他のタッチダウンハ
イト試験、ロードアンロード試験も良好な値を示した。

【００５９】（比較例）上記実施例１において、洗剤ス
クラブ洗浄、純水（リンス）スクラブ洗浄を実施しなか
ったこと以外は実施例１と同様にして、磁気ディスク用
ガラス基板、及び磁気ディスクを作製した。

【００６０】これらのガラス基板の表面粗さをＡＦＭで
測定したところ、Ｒｍａｘ＝１０．６ｎｍ、Ｒａ＝０．
５４ｎｍとなり、また、主表面の表面観察を実施したと
ころ、研磨剤残り及び異物の異常突起が認された。特
に、この現象は、３．０インチや３．５インチといった
比較的大きなサイズの磁気ディスク用ガラス基板におい
て確認された。比較的小さい２．５インチのガラス基板
は、研磨剤残り等の付着物は極少量であった。

【００６１】ガラス基板の径が比較的大きいガラス基板
（３．５インチ、３．０インチ）の場合、ガラス基板の
洗浄処理枚数が増えるにしたがって洗浄能力が低下し、
研磨剤残りが発生したと考えられる。また、洗浄・乾燥
工程後のガラス基板を１００ｍｌの超純水が入った石英
ビーカに入れ、１０ｍｉｎ間超音波をかけた後、その水
をイオンクロマトグラフィー法により成分分析を行っ
た。その結果、Ｃｌが９．５ｎｇ／枚、ＳＯ₄が３９．
９ｎｇ／枚であり、洗剤成分がかなり残っていることが
分かった。また、これらの研磨剤残り、異物が確認され
た磁気ディスク用ガラス基板を使った磁気ディスクにつ
いては、タッチダウンハイトの浮上特性が悪化し、ヘッ
ドクラッシュが発生した。

【００６２】上述の実施例では、本発明の洗浄工程を、
最終研磨工程の後で行う例を掲げたが、これに限らず、
各研磨工程間、研削工程と研磨工程との間、化学強化工
程を行う化学強化ガラスの場合においては、化学強化工
程前の洗浄工程、化学強化工程後の洗浄工程にも本発明
を適用することができる。

【００６３】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明は、基板研
磨後の洗浄工程において、洗剤による超音波洗浄と、純
水による超音波洗浄の間に、スクラブ洗浄を行うことを
特徴とするもので、これにより、洗浄処理時間を増やす
ことなく、かつ、比較的簡単な設備の追加により、研磨
剤等の残留付着物を確実に除去することを可能にしてい
るものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 スクラブ洗浄装置例の主要部を示す斜視図で
ある。

【図２】 図１に示されるスクラブ洗浄装置の上面図で
ある。

【図３】 スクラブ洗浄装置の他の例の主要部を示す上
面図である。

【図４】 洗浄ラインを示す図である。

【図５】 従来の洗浄ラインを示す図である。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ…スクラブパッド、２…ガラス基板、３…支
持ローラ、４…ノズル。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江田 伸二 東京都新宿区中落合２丁目７番５号ホーヤ 株式会社内 Ｆターム(参考） 4G059 AA09 AB03 AB09 AB11 AB19 AC03 5D006 CB04 5D112 AA02 AA24 BA03 BA09 GA08

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基板を精密研磨した後、洗剤によ
   る超音波洗浄と、純水による超音波洗浄とを順に行い乾
   燥する洗浄・乾燥工程を有する情報記録媒体用ガラス基
   板の製造方法において、 前記洗剤による超音波洗浄と、純水による超音波洗浄の
   間に、スクラブ洗浄を行うことを特徴とする情報記録媒
   体用ガラス基板の製造方法。
2. 【請求項２】 前記スクラブ洗浄は、洗剤によるスクラ
   ブ洗浄と、純水によるスクラブ洗浄を順に行うことを特
   徴とする請求項１記載の情報記録媒体用ガラス基板の製
   造方法。
3. 【請求項３】 前記洗剤による超音波洗浄の前に、薬液
   処理を行うことを特徴とする請求項１又は２記載の情報
   記録媒体用ガラス基板の製造方法。
4. 【請求項４】 前記ガラス基板を精密研磨した後のいず
   れかの時点において、ガラス基板を化学強化する工程を
   有し、この化学強化工程の前又は後又は前後において、
   洗剤による超音波洗浄、スクラブ洗浄及び純水による超
   音波洗浄を有する洗浄工程を有することを特徴とする請
   求項１乃至３の何れか一に記載の情報記録媒体用ガラス
   基板の製造方法。
5. 【請求項５】 前記ガラス基板は、磁気ディスク用ガラ
   ス基板であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか
   一に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
6. 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれかの製造方法で
   製造したことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
7. 【請求項７】 請求項１乃至５の何れか一に記載の情報
   記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られたガラ
   ス基板上に、少なくとも記録層を形成することを特徴と
   する情報記録媒体の製造方法。
8. 【請求項８】 前記記録層が磁性層であることを特徴と
   する請求項６記載の情報記録媒体の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項７又は８の製造方法で製造したこ
   とを特徴とする情報記録媒体。