JP5235118B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。この実施例においては、以下の工程を経て、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを製造した。以下の説明では、2.5インチ型の磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを製造する例について説明するが、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクのサイズとしては、特に限定されるものではなく、例えば、1.8インチや1インチ、3.5インチのサイズのものであってもよい。
まず、アモルファスガラスからなる多成分系のガラス素板を用意した。ガラスの硝種はアルミノシリケートガラスであり、このガラス素板は、フロート法で成形し、シート状でサイズが150×150×0.8mmのガラス素板とした。
この端面形成工程は、研削砥石を用いて、ガラス基板に外周側端面と内周側端面とを作成する工程である。円筒状の砥石(コアドリル)を用いて、ガラス基板の中央部分に直径20mmの孔を形成するとともに、外周端面部の研削をして、直径を63.5mmとした後、外周端面部及び内周端面部に所定の面取り加工を施した。同じサンプルを複数枚作製した。
ガラス基板の端面部について、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながら、ガラス基板の端面(内周端面及び外周端面)の表面の粗さを、Raで30nm程度に鏡面研磨した。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、上述した端面研磨後のガラス基板に対して実施するものであり、ラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。第1研磨工程は、遊星歯車機構を有する両面研磨装置を用いて、研磨パッドが貼り付けられた上下定盤の間に、複数のガラス基板をキャリアにより保持した状態で密着させ、このキャリアをサンギアとインターナルギアとに噛合させ、このガラス基板を上下定盤によって挟圧した。その後、研磨パッドとガラス基板主表面との間に研磨砥粒を含む研磨液を供給して回転させることによって、ガラス基板が定盤上で自転しながら公転して両面を同時に研磨加工した。
研磨液は、水に、平均粒径が1.2μmの酸化セリウム研磨砥粒を混合することにより作成した。なお研磨砥粒の粒径は、1.0μm〜1.4μmの範囲内が好ましい。なお、グレイン径が4μmを越える研磨砥粒は予め除去した。研磨液を測定したところ、研磨液に含有される研磨砥粒の最大値は3.5μm、平均値は1.2μm、D50値は1.1μmであった。その他、ガラス素板に加える荷重は80g/cm2〜100g/cm2とし、ガラス素板の表面部の除去厚は20μm〜40μmとした。
次に、端面のエッチングを行なった。具体的には、1%フッ化水素酸を処理液とし、この処理液にガラスディスクを浸漬させて、10μm厚だけエッチングした。
次に、ガラス基板の主表面の研磨を、IDチャッキングによる枚葉研磨装置により行った。上記の端面化学処理工程により、ガラス基板の主表面が、少し荒らされたので、主表面を再度鏡面化するためである。IDチャッキングによる枚葉研磨装置により、ガラス基板を一枚ずつ研磨した。キャリアを用いないので、キャリアとの接触によりガラス基板の端面を傷つけることが少ない。
比較例として、上記(1)〜(6)の工程のうち、(5)端面化学処理工程を実施しないサンプルを複数用意した。その他の工程は、上記実施例と全く同じ条件で行った。そのサンプルの一部について、上記実施例と同じ条件で化学強化処理をした。比較例のうち、化学強化処理をしなかったサンプルを比較例1とし、化学強化処理を行ったサンプルを比較例2とした。
本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の効果を確認するために、上記実施例1、2及び比較例1、2について、抗折強度を測定した。測定は、島津製作所製オートグラフAG−Iを用い、図1の12に載る適切な大きさの鋼球を設置し、当該鋼球に一定速度で荷重を加えて磁気ディスク用ガラス基板が破断するときのピークの荷重を検出するように実施した。その結果としてワイブルプロットを図2に示す。
12 円穴
13 外周端面
14 内周端面
Claims (8)
- 円環状のガラス基板の端面を研磨する端面研磨工程と、前記端面研磨工程の後に前記ガラス基板の主表面を、前記ガラス基板をキャリアに保持した状態で研磨パッドが貼り付けられた上下定盤によって狭圧することにより研磨する主表面研磨工程と、前記主表面研磨工程の後に前記端面をエッチングする端面化学処理工程と、前記端面化学処理工程の後に前記主表面をキャリアを用いずに枚葉研磨する主表面枚葉研磨工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記端面化学処理工程が、前記ガラス基板を、フッ化水素酸、又はフッ化水素酸に硝酸、硫酸、塩酸もしくは過塩素酸の少なくとも一つを添加した液に浸漬することにより行う請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記主表面研磨工程が、第1研磨工程と第2研磨工程とを有する請求項1又は2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- IDチャッキングにより前記主表面枚葉研磨工程を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記主表面枚葉研磨工程の後に、前記ガラス基板を化学強化処理する化学強化処理工程をさらに有する請求項1乃至4のいずれか記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記端面のエッチングは、キャリアとの接触により生じたガラス基板端面のクラックを除去するように行う請求項1乃至5のいずれか記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記枚葉研磨は、前記端面化学処理工程によって生じるガラス基板の主表面の荒れを除去するように行う請求項1乃至6のいずれか記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1乃至7のいずれか記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
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