JP5542989B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 153
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 148
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 37
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 107
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 79
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 58
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims description 48
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 18
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims description 13
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 12
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 19
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 9
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 7
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 2
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記端面研磨工程では、複数枚の前記ガラス基板を重ね合わせて研磨治具に取り付け、ブラシ研磨により研磨することが好ましい。
以下、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法の実施例についてその工程順に説明する。図1は実施例となる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の工程順を示す図である。
例えば、2.5インチ型磁気ディスクの磁気ディスク用ガラス基板を製作する場合、直径66.2mmφ、厚さ1.15mmの円盤状のガラス素材を準備する。ラッピング装置のキャリア内にガラス基板となる円盤状のガラス素材を収納し、内転ギヤと外転ギヤを回転させると共に研削液に遊離砥粒を含有させたスラリーをワークの主表面に供給し、キャリア内に収納したガラス基板の主表面を研削する。このラッピング加工では遊離砥粒として粒度(目の粗さ)#800、粒径9μ〜38μmのアルミナ砥粒を用いて表面研削加工を行い、板厚は0.756mmにした。
ガラス基板の中央部分に孔を空けると共に外周端面及び内周端面に面取り加工を施す。円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔を開けるとともに、外周端面も研削して直径を65mmφとした後、外周端面及び内周面に所定の面取り加工を施した。このときのガラス基板のエッジ部(側面及び面取部)の表面粗さはRmaxで1.5μm程度であった。
複数枚のガラス基板の主表面を重ね合わせて研磨冶具に取り付け、ブラシ研磨によりガラス基板を回転させながらガラス基板のエッジ部(角張った部位、側面及び面取部)の表面粗さを、Rmaxで1μm、Raで0.3μm程度に研磨した。この端面研磨工程は、ガラス基板の搬送時や、洗浄工程時等に発生する基板エッジ部からの発塵によりガラス基板主表面に付着することによる膜下欠陥を防止するために有効である。上記端面研磨加工を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
固定砥粒を用いてガラス基板の主表面を所望の板厚0.656mm及び平坦度<3μmに研削する。ガラス基板の主表面を固定砥粒研磨パッドを用いて研削した。たとえば、固定砥粒研磨パッドにはダイヤモンドシートを用いることができる。固定砥粒研磨パッドは、シートに研磨材粒子を貼り付けたものであり、遊離砥粒に用いられるアルミナ系砥粒(10.0μm〜10.6μm)に比べて十分に小さい粒子(<4μm)を用いることができる。
上述した表面研削工程で残留した傷や歪みの除去するための第1研磨工程を、両面研磨装置を用いて行った。両面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下研磨定盤の間にキャリアにより保持したガラス基板を密着させ、このキャリアを太陽歯車と内歯歯車とに噛合させ、上記ガラス基板を上下研磨定盤によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラス基板の研磨面との間に研磨液を供給して回転させることによって、ガラスディスクが研磨定盤上で自転しながら公転して両面を同時に研磨加工するものである。具体的には、ポリシャとして硬質ポリシャ(硬質発泡ウレタン)を用い、第1研磨工程を実施した。
次に、上記洗浄を終えたガラス基板に化学強化を施した。ガラス基板の表面に存在するイオン(例えば、アルミノシリケートガラス使用の場合、Li+及びNa+)よりもイオン半径の大きなイオン(Na+及びK+)にイオン交換する。ガラス基板の表面において(例えば、ガラス基板表面から約5μmまで)、イオン半径の大きい原子とイオン交換を行って、ガラス表面に圧縮応力を与えることでガラス基板の剛性を上げている。
ガラス基板の表面に研磨材や不純物が付着しているので、これらを除去するための洗浄を行う。洗浄方法には、物理的洗浄と薬液洗浄とがある。物理的洗浄としてスクラブ洗浄と超音波洗浄とがある。薬液洗浄としてガラス基板をエッチングすることによる洗浄、ガラス基板に付着している不純物および研磨材を溶かす薬液を使用した洗浄、界面活性剤を用いて電位を制御することによる洗浄がある。なお、図1では便宜的に化学強化工程の後に記載しているが、洗浄工程は研削工程から第1研磨および第2研磨までの各工程間でも適宜行われる。
検査工程では、全数検査と抜き取り検査とがある。全数検査できるものは全数検査するが、全数検査できないものは抜き取り検査することになる。検査対象の欠陥種として、キズ、汚れ(パーティクル)、素材要因、形状変化がある。なお、図1では便宜的に洗浄工程の後に記載しているが、検査工程は研削工程から第1研磨および第2研磨までの各工程間でも適宜行われる。クリーンルーム内において、AFM(原子間力顕微鏡)を用いて、ガラス基板の表面の状態検査、ID,ODの面取り角の測定、真円度、同心度の測定等を実施する。第2研磨した後の洗浄後には、ガラス基板をクリーンルームに搬入してビジュアル検査を行う。このとき、ガラス基板に対して、クラックの有無、ゴミの付着、カケ、ワレの有無、研磨材の有無等が検査される。化学強化した後の洗浄後にも、同様のビジュアル検査を行う。このような欠陥検査工程により、ガラス基板の両主表面について、記録面を形成するためのスペックを満足しているか否かについて判定される。以上のようにして、本実施例の磁気ディスク用ガラス基板を得た。
磁気ディスク用ガラス基板の製造プロセスの順序を、(1)粗ラッピング工程、(2)端面形状加工工程、(3)端面研磨工程、(4)精ラッピング工程(遊離砥粒)、(5)主表面研磨工程にしてガラス基板を製作した。実施例と異なる点は、固定砥粒による表面研削工程に代えて、粗ラッピング工程よりも粒径の小さい遊離砥粒(7〜21μm)を用いた精ラッピング工程を実施して表面研削を行ったことである。
従来プロセスと同じ工程順序である。磁気ディスク用ガラス基板の製造プロセスの順序を、(1)粗ラッピング工程、(2)端面形状加工工程、(3)精ラッピング工程(遊離砥粒)、(4)端面研磨工程、(5)主表面研磨工程にしてガラス基板を製作した。実施例と異なる点は、形状加工工程の後に行う第2ラッピング工程に遊離砥粒(7〜21μm)を用いている点、及び第2ラッピング工程の後にエッジ部研磨工程を行っている点である。
磁気ディスク用ガラス基板の製造プロセスの順序を、(1)粗ラッピング工程、(2)端面形状加工工程、(3)表面研削工程(固定砥粒)、(4)端面研磨工程、(5)主表面研磨工程にしてガラス基板を製作した。固定砥粒は実施例と同じものを用いた。実施例と異なる点は、表面研削工程(固定砥粒)と端面研磨工程の順番が入れ替わっている点である。
<主表面キズ>
○:軽減された表面研磨量にて除去が可能
×:軽減された表面研磨量にて除去が不可
<端面のキズ>
○:現状品質より良化
×:現状品質より悪化
<表面粗さ(Ra)>
○:表面研磨量の削減が可能
△:表面研磨量が現状と同等
2 孔
Claims (4)
- 垂直磁気記録方式に用いられ、主表面が鏡面となっている板ガラス素材から磁気ディスク用ガラス基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
平面研磨機による遊離砥粒研磨を用いて前記板ガラス素材の鏡面の主表面を粗面化する粗面化工程と、
前記粗面化工程の後であって後記固定砥粒を用いた表面研削工程の前に前記板ガラス素材を粗面化してなるガラス基板の端面を研磨する端面研磨工程と、
端面研磨後の前記ガラス基板の主表面を必要な表面粗さ及び平坦度に研削加工する固定砥粒を用いた表面研削工程と、
を備えることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記端面研磨工程では、複数枚の前記ガラス基板を重ね合わせて研磨治具に取り付け、ブラシ研磨により研磨することを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記表面研削後の前記ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程と、をさらに備え、
前記表面研削工程で使用する研磨材粒子の粒径が前記端面研磨工程で使用する研磨砥粒の粒径より大きく、前記端面研磨工程で使用する研磨砥粒の粒径が前記主表面研磨工程で使用する研磨砥粒の粒径よりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面に対し、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013089154A JP5542989B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-04-22 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007255370 | 2007-09-28 | ||
JP2007255370 | 2007-09-28 | ||
JP2013089154A JP5542989B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-04-22 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008246277A Division JP2009099250A (ja) | 2007-09-28 | 2008-09-25 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013140669A JP2013140669A (ja) | 2013-07-18 |
JP5542989B2 true JP5542989B2 (ja) | 2014-07-09 |
Family
ID=40702109
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008246277A Pending JP2009099250A (ja) | 2007-09-28 | 2008-09-25 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2013089154A Active JP5542989B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-04-22 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008246277A Pending JP2009099250A (ja) | 2007-09-28 | 2008-09-25 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2009099250A (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5516940B2 (ja) * | 2009-10-19 | 2014-06-11 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板およびその製造方法 |
WO2010104039A1 (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-16 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板およびその製造方法 |
JP5516952B2 (ja) * | 2010-01-05 | 2014-06-11 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板およびその製造方法 |
JP5440786B2 (ja) * | 2009-03-10 | 2014-03-12 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板およびその製造方法 |
JP5516941B2 (ja) * | 2009-10-19 | 2014-06-11 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板およびその製造方法 |
JP2011040145A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-24 | Ohara Inc | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
US8603350B2 (en) | 2009-07-17 | 2013-12-10 | Ohara Inc. | Method of manufacturing substrate for information storage media |
JP2011129232A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板の製造方法 |
JP5533374B2 (ja) * | 2010-07-12 | 2014-06-25 | 旭硝子株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 |
JP2013140649A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-18 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び化学強化用かご |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09231560A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板およびその製造方法 |
JP4562274B2 (ja) * | 2000-11-09 | 2010-10-13 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
JP4785274B2 (ja) * | 2001-05-29 | 2011-10-05 | 日本板硝子株式会社 | ガラス物品およびそれを用いた磁気記録媒体用ガラス基板 |
JP2003022522A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
JP2003346316A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-12-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体並びに該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および該方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板 |
JP2004174695A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-06-24 | Hoya Corp | 研磨方法及び研磨装置並びに磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP4199645B2 (ja) * | 2003-11-07 | 2008-12-17 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法 |
JP4198607B2 (ja) * | 2004-01-13 | 2008-12-17 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2005310324A (ja) * | 2004-04-26 | 2005-11-04 | Nihon Micro Coating Co Ltd | 垂直磁気記録ディスク用ガラス基板及びその製造方法 |
JP2006068835A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Showa Denko Kk | 砥粒流動加工法による記録媒体用基板の端面研磨方法 |
-
2008
- 2008-09-25 JP JP2008246277A patent/JP2009099250A/ja active Pending
-
2013
- 2013-04-22 JP JP2013089154A patent/JP5542989B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013140669A (ja) | 2013-07-18 |
JP2009099250A (ja) | 2009-05-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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