JP5361185B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
例えば第2条件は、第1工程によって形成されるうねりの波と反位相の関係となる波のうねりを形成する条件とすることができる。これにより、好適に第1のうねりを第2のうねりによって解消することができる。
前記第1条件による加工はガラス基板の外周端面に面取部を形成するための加工であり、第2条件による加工は砥石を進入させないで行うことが好ましい。これにより第2条件による研磨は短時間で完了することができる。
フォーミング工程において、第2条件におけるガラス基板の回転数B2(rpm)は、第1条件におけるガラス基板の回転数をB1(rpm)、第1のうねりの数をC個とし、(B1/B2)×Cの演算結果の小数点第2位を四捨五入したときの小数点第1位の値が5になる回転数であってもよい。このように第2条件を設定することにより、第1条件によって形成された第1のうねりの波に対して第2のうねりの波を反位相の関係とすることができ、第1のうねりを確実に解消して平滑な外周端面を得ることができる。
所定回数の第1加工および第2加工を行うごとに、第2条件の算出をやり直すことが好ましい。これにより、常に実情に即した最適な第2条件を用いることができる。
1/j=0のとき、ガラス基板の表面にはi個の山が形成される。1/j=0.5のとき研削面粗さ及びピッチの長さは半分になり、山数はNの2倍(2i+1)となるため、高い真円を得ることができる。
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について実施例を説明する。
本実施形態においてガラス基板の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板100とした(コアリング)。
2736/B2により求まる回転数比N2の小数点第1位が5になる値を算出すると、B2が23.9(rpm)のとき回転数比N2=114.5(114.47)、B2が24.1(rpm)のとき回転数比N2=113.5(113.52)と算出することができる。従って、第2条件としての基板の回転数B2は、23.9や24.1などに設定することができる。なおB1とB2とが1以上の差を有していてもよく、端数(小数点第1位)が5であれば反位相とすることが可能となる。
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
次に、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板100に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板100を300℃に予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板100の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板100が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
上述した工程を経て得られたガラス基板100の両面に、ガラス基板100の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
102 …内孔
120 …内周端面
120a …面取部
130 …外周端面
130a …面取部
200 …端面研削装置
210 …外側砥石
212 …軸
214 …モータ
220 …内側砥石
222 …軸
224 …モータ
230 …回転制御部
310 …研磨パッド
330 …太陽ギヤ
340 …インターナルギヤ
350 …上定盤
360 …下定盤
370 …キャリヤ
Claims (7)
- 円板状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
当該ガラス基板を回転させつつ外周端面に、前記ガラス基板よりも速く回転する回転砥石を押圧することによって外周側の端部を成形するフォーミング工程を含み、
かつ、前記フォーミング工程は、
第1条件で加工を行う第1工程と、
前記第1工程で形成される第1のうねりの数が実測可能な場合に、該第1のうねりの数の実測値に基づいて該第1のうねりを解消すべく定めた第2条件によって、前記回転砥石の回転速度を前記第1工程から変化させることなく前記ガラス基板の回転速度を前記第1工程から変化させて加工を行う第2工程とを有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記第2条件は、前記第1工程によって形成されるうねりの波と反位相の関係となるうねりの波を形成する条件であることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記第1条件による加工はガラス基板の外周端面に面取部を形成するための加工であり、
前記第2条件による加工は砥石を進入させないで行うことを特徴とする請求項1または2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記フォーミング工程において、第1条件を用いて第1工程を行い、前記回転砥石を前記ガラス基板に押圧したままで第2条件に変更して第2工程を行うことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記フォーミング工程において、砥石の回転数を基板の回転数で割った値を回転数比とするとき、前記第1条件は前記回転数比の小数点第1位が5となるように設定することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記フォーミング工程において、前記第2条件におけるガラス基板の回転数B2(rpm)は、
前記第1条件におけるガラス基板の回転数をB1(rpm)、第1のうねりの数をC個とし、(B1/B2)×Cの演算結果の小数点第2位を四捨五入したときの小数点第1位の値が5になる回転数であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 所定回数の第1加工および第2加工を行うごとに、前記第2条件の算出をやり直すことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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