JP5533374B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - Google Patents
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(1)酸化セリウムを含むCeO2砥粒を用いて所定の形状に加工した複数のガラス基板を研磨する1又は複数のCeO2砥粒研磨工程を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
最後のCeO2砥粒研磨工程後、前記複数のガラス基板から少なくとも1枚を抜き取って酸と還元剤の混合液への浸漬で検出されたCeO 2 量から予め想定されるエッチングされたガラスに元々含まれているCeO 2 量を差し引くことにより求めた、により前記ガラス基板に残存するCeO2砥粒の残存量を検出する抜き取り検査工程を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。なお、CeO2砥粒研磨工程が1である場合、最後のCeO2砥粒研磨工程は当該1のCeO2砥粒研磨工程である。
(2)前記ガラス基板に含まれるCeO2 量が30ppm以下であることを特徴とする(1)に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(3)前記最後のCeO2砥粒研磨工程後、前記CeO2砥粒より平均粒径の小さいシリカ砥粒を用いて研磨する他の研磨工程をさらに備え、
前記抜き取り検査工程は、前記最後のCeO2砥粒研磨工程後、前記他の研磨工程前に行なわれるか、又は、前記他の研磨工程後に行なわれることを特徴とする(1)又は(2)に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(4)前記CeO2砥粒研磨工程は、異なる平均粒径のCeO2砥粒を用いて研磨する複数のCeO2砥粒研磨工程から構成され、
前記抜き取り検査工程は、前記複数のCeO2砥粒研磨工程間にも行なわれることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(5)前記抜き取り検査工程は、酸と還元剤の混合液中に前記ガラス基板を5分以上浸漬することを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(6)前記酸は、塩酸、硫酸、硝酸、および臭化水素からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸であることを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(7)前記還元剤は、過酸化水素水であることを特徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(1)形状加工工程(S1)と、
(2)ラップ工程(S2)と、
(3)第1洗浄工程(S3)と、
(4)第1研磨工程(S4)と、
(5)第2洗浄工程(S5)と、
(6)第2研磨工程(S6)と、
(7)第3洗浄工程(S7)と、
(8)抜き取り検査工程(S8)と、を有している。
120cm2×0.01nm×2×2.47g/cm3×30ppm=0.018ng
L/(d×P×(Siの原子量)/(SiO2の分子量)/1000)
例えば、上述した実施形態においては、抜き取り検査工程を最終研磨工程である第2研磨工程後にのみ行なったが、これに加えて、端面研磨工程後に行なってもよい。これにより、端面研磨工程で残存したCeO2砥粒が後の研磨工程などにおいてガラス表面105に付着して傷の原因となったり、磁性層のはがれの原因となることを抑制することができる。
101 インターナルギヤ
102 サンギヤ
103 上定盤
104 下定盤
105 ガラス基板
107 キャリア
S4 第1研磨工程(CeO2砥粒研磨工程)
S6 第2研磨工程(他の研磨工程)
Claims (7)
- 酸化セリウムを含むCeO2砥粒を用いて所定の形状に加工した複数のガラス基板を研磨する1又は複数のCeO2砥粒研磨工程を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
最後のCeO2砥粒研磨工程後、前記複数のガラス基板から少なくとも1枚を抜き取って酸と還元剤の混合液への浸漬で検出されたCeO 2 量から予め想定されるエッチングされたガラスに元々含まれているCeO 2 量を差し引くことにより求めた、前記ガラス基板に残存するCeO2砥粒の残存量を検出する抜き取り検査工程を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板に含まれるCeO2 量が30ppm以下であることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記最後のCeO2砥粒研磨工程後、前記CeO2砥粒より平均粒径の小さいシリカ砥粒を用いて研磨する他の研磨工程をさらに備え、
前記抜き取り検査工程は、前記最後のCeO2砥粒研磨工程後、前記他の研磨工程前に行なわれるか、又は、前記他の研磨工程後に行なわれることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記CeO2砥粒研磨工程は、異なる平均粒径のCeO2砥粒を用いて研磨する複数のCeO2砥粒研磨工程から構成され、
前記抜き取り検査工程は、前記複数のCeO2砥粒研磨工程間にも行なわれることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記抜き取り検査工程は、酸と還元剤の混合液中に前記ガラス基板を5分以上浸漬することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記酸は、塩酸、硫酸、硝酸および臭化水素からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記還元剤は、過酸化水素水であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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